一種旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜機(jī)在裝飾品、建筑玻璃、汽車玻璃和平板顯示器等領(lǐng)域都具有廣泛的應(yīng)用，真空鍍膜機(jī)可以分為真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺射鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等。
[0003]授權(quán)公告號(hào)為CN 203613254U的中國(guó)實(shí)用新型專利公開了一種真空鍍膜機(jī)，包括真空罩和用于使真空罩內(nèi)部保持真空狀態(tài)的真空系統(tǒng)，真空罩內(nèi)設(shè)置有傘架和蒸發(fā)源，傘架包括能夠周向轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)盤和若干個(gè)工件架，工件架分別與轉(zhuǎn)盤通過各自轉(zhuǎn)軸一相連，工件架沿轉(zhuǎn)盤周向呈傘狀分布，該真空鍍膜機(jī)還包括能使工件架隨著轉(zhuǎn)盤周向轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)繞轉(zhuǎn)軸一的中心線轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
[0004]上述鍍膜機(jī)的蒸發(fā)源將鍍膜材料加熱蒸發(fā)，鍍膜材料蒸發(fā)后向上擴(kuò)散到工件架處，附著在溫度較低的待鍍膜工件上，形成薄膜，該鍍膜機(jī)的不足之處在于，蒸發(fā)源位于真空罩的底部，工件架位于真空罩的頂部，導(dǎo)致工件(或基片)距離蒸發(fā)源的距離較遠(yuǎn)，因此會(huì)出現(xiàn)鍍膜效果不佳的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有的技術(shù)存在的上述問題，提供一種旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是:如何提高鍍膜機(jī)對(duì)工件的鍍膜效果。
[0006]本實(shí)用新型的目的可通過下列技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn):
[0007]—種旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)，該鍍膜機(jī)包括真空罩、電阻蒸發(fā)源、磁控濺射源、等離子源、工件架和能夠使真空罩內(nèi)部保持真空狀態(tài)的真空裝置，其特征在于，所述磁控濺射源和等離子源均固定在真空罩的內(nèi)壁上，所述工件架設(shè)置在真空罩內(nèi)，所述工件架具有底座，底座固定在真空罩的底部，所述電阻蒸發(fā)源固定在底座上，所述底座轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有齒輪一，所述齒輪一上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有轉(zhuǎn)軸一，所述轉(zhuǎn)軸一上固定有齒輪二，所述底座為圓形且底座的外側(cè)面上設(shè)置有與齒輪二相嚙合的輪齒。
[0008]本實(shí)用新型的工作原理是:
[0009]鍍膜加工之前，先將待鍍膜工件定位在基片架上，基片架上固定有一根圓軸桿，通過圓軸桿與轉(zhuǎn)軸一之間的插接配合，將基片架放置在工件架上，之后真空裝置將真空罩內(nèi)部抽至真空，并使其保持真空狀態(tài)。鍍膜加工開始后，齒輪一帶動(dòng)基片架作圓周轉(zhuǎn)動(dòng)的同時(shí)轉(zhuǎn)軸一帶動(dòng)基片架自轉(zhuǎn)，蒸發(fā)源將鍍膜材料加熱蒸發(fā)，鍍膜材料蒸發(fā)后擴(kuò)散到基片架的工件表面，同時(shí)真空罩內(nèi)壁上的磁控濺射源將鍍膜材料噴射出來，附著在工件上，形成厚薄均勻的薄膜。
[0010]在上述的一種旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)中，所述工件架還包括頂蓋，所述齒輪一和頂蓋之間設(shè)置有支桿，所述頂蓋上設(shè)置有通孔，所述通孔與轉(zhuǎn)軸一正對(duì)。支桿固定在齒輪一上，頂蓋固定在支桿的頂端，頂蓋上設(shè)置有通孔，通孔與轉(zhuǎn)軸一正對(duì)，基片架的圓軸桿的下端與轉(zhuǎn)軸一插接配合的同時(shí)，圓軸桿的上端與通孔相配合，使基片架直立放置，基片架在轉(zhuǎn)動(dòng)的過程中不易晃動(dòng)。
[0011]在上述的一種旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)中，所述轉(zhuǎn)軸一為若干根，所有轉(zhuǎn)軸一沿齒輪一的周向均勻分布在齒輪一上，所述通孔的數(shù)量與轉(zhuǎn)軸一的數(shù)量相同。轉(zhuǎn)軸一為若干根，例如可以是8-12根，所有轉(zhuǎn)軸一沿齒輪一的周向均勻分布在齒輪一上，可以合理利用空間，平衡工件架的受力。
[0012]在上述的一種旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)中，所述轉(zhuǎn)軸一具有端面，所述端面上設(shè)置有凹槽一，所述凹槽一具有兩個(gè)相互平行的側(cè)面，兩個(gè)側(cè)面對(duì)稱設(shè)置。轉(zhuǎn)軸一的端面上設(shè)置有凹槽一，只要在基片架的圓軸桿的下端面上設(shè)置與該凹槽一相配合的凸臺(tái)，就可以方便的實(shí)現(xiàn)圓軸桿與轉(zhuǎn)軸一之間的配合，使基片架直立放置在工件架上，凹槽一的兩個(gè)側(cè)面對(duì)稱設(shè)置，使圓軸桿與轉(zhuǎn)軸一配合之后，圓軸桿的軸線與轉(zhuǎn)軸一的軸線重合，平衡轉(zhuǎn)軸一的受力。
[0013]在上述的一種旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)中，所述真空罩包括左殼體和右殼體，所述左殼體和右殼體通過銷軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述磁控濺射源固定在左殼體的內(nèi)壁上，所述等離子源固定在右殼體的內(nèi)壁上，所述底座固定在左殼體的底部。真空罩包括左殼體和右殼體，左殼體和右殼體通過銷軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，右殼體是活動(dòng)的，通過轉(zhuǎn)動(dòng)右殼體，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)真空罩的打開與關(guān)閉，方便對(duì)工件的放置和取出。
[0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)如下:
[0015]1、本實(shí)用新型采用磁控濺射和加熱蒸發(fā)相結(jié)合的方式鍍膜，且磁控濺射設(shè)置在真空罩的內(nèi)壁上，距離工件很近，能夠帶來更好的鍍膜效果。
[0016]2、本實(shí)用新型的電阻蒸發(fā)源為直立式的，其高度與基片架的高度接近，使基片架上任何高度的工件與電阻蒸發(fā)源的距離保持一致，因此，能夠達(dá)到良好的鍍膜效果。
[0017]3、本實(shí)用新型的齒輪一上可以均勻分布8-12根轉(zhuǎn)軸，即可以同時(shí)放置8-12個(gè)基片架，增加了可以加工的工件數(shù)量，提高了生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0018]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖2是本實(shí)用新型轉(zhuǎn)軸一的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖3是本實(shí)用新型等離子源的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖4是本實(shí)用新型基片架放置在工件架上的示意圖。
[0022]圖中，1、真空罩；11、左殼體；12、右殼體；2、電阻蒸發(fā)源；3、磁控濺射源；4、等離子源；5、工件架；51、底座；52、頂蓋；521、通孔；53、支桿；6、齒輪一 ；7 ;轉(zhuǎn)軸一 ；71、端面；711、凹槽一 ；711a、側(cè)面；8、齒輪二 ；9、基片架；91、圓軸桿；92、凹槽二。
【具體實(shí)施方式】
[0023]以下是本實(shí)用新型的具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的描述，但本實(shí)用新型并不限于這些實(shí)施例。
[0024]如圖1-3所示，該鍍膜機(jī)包括真空罩1、電阻蒸發(fā)源2、磁控濺射源3、等離子源4、工件架5和能夠使真空罩1內(nèi)部保持真空狀態(tài)的真空裝置，磁控濺射源3和等離子源4均固定在真空罩1的內(nèi)壁上，工件架5設(shè)置在真空罩1內(nèi)，工件架5具有底座51，底座51固定在真空罩1的底部，電阻蒸發(fā)源2固定在底座51上，底座51轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有齒輪一 6，齒輪一 6上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有轉(zhuǎn)軸一 7，轉(zhuǎn)軸一 7上固定有齒輪二 8，底座51為圓形且底座51的外側(cè)面上設(shè)置有與齒輪二 8相嚙合的輪齒。真空裝置包括真空機(jī)械栗、增壓羅茨栗和高真空擴(kuò)散栗，高真空擴(kuò)散栗通過管道與真空罩1連通，增壓羅茨栗通過管道與高真空擴(kuò)散栗連接，真空機(jī)械栗通過管道與增壓羅茨栗連接。
[0025]作為優(yōu)選，真空罩1包括左殼體11和右殼體12，左殼體11和右殼體12通過銷軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，磁控濺射源3固定在左殼體11的內(nèi)壁上，等離子源4為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，其固定在右殼體12的內(nèi)壁上，底座51固定在左殼體11的底部。真空罩1包括左殼體11和右殼體12，左殼體11和右殼體12通過銷軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，右殼體12是活動(dòng)的，通過轉(zhuǎn)動(dòng)右殼體12，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)真空罩1的打開與關(guān)閉，方便對(duì)工件的放置和取出。
[0026]如圖4所示，工件放置在基片架9的凹槽二 92內(nèi)，基片架9上固定有一根圓軸桿91，圓軸桿91插接在轉(zhuǎn)軸一 7的上端，通過圓軸桿91與轉(zhuǎn)軸一 7之間的插接配合，將基片架9放置在工件架5上。
[0027]如圖1所示，在本實(shí)施例中，工件架5還包括頂蓋52，齒輪一 6和頂蓋52之間設(shè)置有支桿53，頂蓋52上設(shè)置有通孔，通孔與轉(zhuǎn)軸一 7正對(duì)。支桿53固定在齒輪一 6上，頂蓋52固定在支桿53的頂端，頂蓋52上設(shè)置有通孔521，通孔521與轉(zhuǎn)軸一 7正對(duì)，基片架9的圓軸桿91的下端與轉(zhuǎn)軸一 7配合的同時(shí)，圓軸桿91的上端與通孔521相配合，使基片架9直立放置，基片架9在轉(zhuǎn)動(dòng)的過程中不易晃動(dòng)。轉(zhuǎn)軸一 7可以是若干根，所有轉(zhuǎn)軸一 7沿齒輪一 6的周向均勻分布在齒輪一 6上，通孔521的數(shù)量與轉(zhuǎn)軸一 7的數(shù)量相同。轉(zhuǎn)軸一7為若干根，例如可以是8-12根，所有轉(zhuǎn)軸一 7沿齒輪一 6的周向均勾分布在齒輪一 6上，可以合理利用空間，平衡工件架5的受力。
[0028]如圖2所示，轉(zhuǎn)軸一 7具有端面71，端面71上設(shè)置有凹槽一 711，凹槽一 711具有兩個(gè)相互平行的側(cè)面711a，兩個(gè)側(cè)面711a對(duì)稱設(shè)置。轉(zhuǎn)軸一 7的端面71上設(shè)置有凹槽一711，只要在基片架9的圓軸桿91的下端面71上設(shè)置與該凹槽一 711相配合的凸臺(tái)，就可以方便的實(shí)現(xiàn)圓軸桿91與轉(zhuǎn)軸一 7之間的插接配合，使基片架9直立放置在工件架5上，凹槽一 711的兩個(gè)側(cè)面711a對(duì)稱設(shè)置，使圓軸桿91與轉(zhuǎn)軸一 7配合之后，圓軸桿91的軸線與轉(zhuǎn)軸一 7的軸線重合，平衡轉(zhuǎn)軸一 7的受力。
[0029]本文中所描述的具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型精神作舉例說明。本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，但并不會(huì)偏離本實(shí)用新型的精神或者超越所附權(quán)利要求書所定義的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)，該鍍膜機(jī)包括真空罩(1)、電阻蒸發(fā)源(2)、磁控濺射源(3)、等離子源(4)、工件架(5)和能夠使真空罩(1)內(nèi)部保持真空狀態(tài)的真空裝置，其特征在于，所述磁控濺射源(3)和等離子源(4)均固定在真空罩(1)的內(nèi)壁上，所述工件架(5)設(shè)置在真空罩(1)內(nèi)，所述工件架(5)具有底座(51)，底座(51)固定在真空罩(1)的底部，所述電阻蒸發(fā)源(2)固定在底座(51)上，所述底座(51)轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有齒輪一 ￠)，所述齒輪一(6)上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有轉(zhuǎn)軸一(7)，所述轉(zhuǎn)軸一(7)上固定有齒輪二(8)，所述底座(51)為圓形且底座(51)的外側(cè)面上設(shè)置有與齒輪二(8)相嚙合的輪齒。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)，其特征在于，所述工件架(5)還包括頂蓋(52)，所述齒輪一(6)和頂蓋(52)之間設(shè)置有支桿(53)，所述頂蓋(52)上設(shè)置有通孔(521)，所述通孔(521)與轉(zhuǎn)軸一(7)正對(duì)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)軸一(7)為若干根，所有轉(zhuǎn)軸一(7)沿齒輪一 ￠)的周向均勻分布在齒輪一(6)上，所述通孔(521)的數(shù)量與轉(zhuǎn)軸一 (7)的數(shù)量相同。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)軸一(7)具有端面(71)，所述端面(71)上設(shè)置有凹槽一(711)，所述凹槽一(711)具有兩個(gè)相互平行的側(cè)面(711a)，兩個(gè)側(cè)面(711a)對(duì)稱設(shè)置。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)，其特征在于，所述真空罩(1)包括左殼體(11)和右殼體(12)，所述左殼體(11)和右殼體(12)通過銷軸轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述磁控濺射源(3)固定在左殼體(11)的內(nèi)壁上，所述等離子源(4)固定在右殼體(12)的內(nèi)壁上，所述底座(51)固定在左殼體(11)的底部。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種旋轉(zhuǎn)式鍍膜機(jī)，屬于機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域。它解決了現(xiàn)有的鍍膜機(jī)鍍膜效果不佳的技術(shù)問題。該鍍膜機(jī)包括真空罩、電阻蒸發(fā)源、磁控濺射源、等離子源、工件架和能夠使真空罩內(nèi)部保持真空狀態(tài)的真空裝置，磁控濺射源和等離子源均固定在真空罩的內(nèi)壁上，工件架設(shè)置在真空罩內(nèi)，工件架具有底座，底座固定在真空罩的底部，電阻蒸發(fā)源固定在底座上，底座轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有齒輪一，齒輪一上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有轉(zhuǎn)軸一，轉(zhuǎn)軸一上固定有齒輪二，底座為圓形且底座的外側(cè)面上設(shè)置有與齒輪二相嚙合的輪齒。該鍍膜機(jī)具有鍍膜效果良好、生產(chǎn)效率高的優(yōu)點(diǎn)。
【IPC分類】C23C14/50, C23C14/00
【公開號(hào)】CN204982037
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520680097
【發(fā)明人】王先玉, 夏永光
【申請(qǐng)人】浙江星星瑞金科技股份有限公司
【公開日】2016年1月20日
【申請(qǐng)日】2015年9月2日