一種真空鍍膜的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種真空鍍膜機，包括蒸發(fā)室、蒸鍍室、掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤、樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤、轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿、轉(zhuǎn)盤支撐彈簧、大擋板、小擋板、擋板控制旋鈕、蒸鍍室觀察窗、樣品更換窗、氣氛連通窗和樣品過渡艙。與傳統(tǒng)的真空鍍膜樣品臺相比，該實用新型不僅能夠?qū)崿F(xiàn)最多16個不同厚度樣品的一次性制備，而且能夠?qū)崿F(xiàn)樣品制備、表征的集成操作以及掩膜板和樣品臺的可控旋轉(zhuǎn)。大大節(jié)約了反復獲得高真空所需要的時間，且操作方便，機械結構簡單。
【專利說明】一種真空鍍膜機

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及鍍膜機，特別涉及一種真空鍍膜機，屬于鍍膜領域。

【背景技術】
[0002]目前，公知的真空鍍膜機樣品臺只能一次性制作4個樣品，而且掩膜板更換方式繁瑣。雖然掩膜板部分結構大體相同，但這類機械制造復雜，功能單一，一般以插拔式為主。而且大部分機器都無法做到16個樣本的制備和表征功能的集成，例如每批次樣品蒸鍍完畢后，需要破壞蒸鍍室氣氛以重新裝入樣品，然后再重新抽真空。從而導致研究人員需要需要話費更長的實驗時間以獲得實驗環(huán)境并進行相對較復雜的操作步驟，造成生產(chǎn)滯后和科研效率降低的后果。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型所要解決的技術問題是針對現(xiàn)有技術的不足提供了一種集高效率樣品制備、艙體過渡于一體，結構簡單且能夠通過旋轉(zhuǎn)的方式調(diào)節(jié)16種掩膜板類型的高產(chǎn)率可旋轉(zhuǎn)真空鍍膜機。
[0004]本實用新型為解決上述技術問題采用以下技術方案:
[0005]一種真空鍍膜機，包含蒸鍍室和置于其內(nèi)底部的蒸發(fā)室，所述蒸鍍室包含樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤、掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤；所述樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤包含多個交替工作的樣品臺，所述掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤包含多個與樣品臺數(shù)量相同且一一對應的掩膜板；所述正在工作的樣品臺置于所對應的掩膜板上，所述蒸發(fā)室置于正在工作的樣品臺和掩膜板的正下方。
[0006]優(yōu)選的，所述蒸鍍室還包含轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿、轉(zhuǎn)盤支撐彈簧、大擋板、小擋板、擋板控制旋鈕、蒸鍍室觀察窗、樣品更換窗、氣氛連通窗和樣品過渡艙；所述轉(zhuǎn)盤支撐彈簧置于掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與蒸鍍室上下壁之間，用于支撐掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤在彈力的作用下始終緊貼樣品調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤，所述掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與蒸鍍室通過轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿連接，所述轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿用于調(diào)節(jié)掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)；所述大擋板置于蒸發(fā)室上方，所述小擋板置于掩膜板的下方，所述大擋板和小擋板通過轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿控制。
[0007]優(yōu)選的，所述掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤之間設有四個定位卡槽，用于固定樣品臺及與其對應的掩膜板。
[0008]優(yōu)選的，所述樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤機械結構相同且鏡面相對。
[0009]優(yōu)選的，所述轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿和掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤為固定連接。
[0010]優(yōu)選的，所述轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿頂部下方設有小擋塊，用于防止樣品臺與掩膜板接觸太近導致?lián)p壞。
[0011]優(yōu)選的，所述轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿下方為L型支撐架。
[0012]優(yōu)選的，所述過渡艙包含壓力顯示表、過度艙體和壓力控制按鈕。
[0013]本實用新型采用以上技術方案與現(xiàn)有技術相比，具有以下技術效果:
[0014]1、本實用新型能夠?qū)崿F(xiàn)最多16個不同厚度樣品的一次性制備；
[0015]2、能夠?qū)崿F(xiàn)樣品制備、表征的集成操作以及掩膜板和樣品臺的可控旋轉(zhuǎn)；
[0016]3、大大節(jié)約了反復獲得高真空所需要的時間，且操作方便，機械結構簡單。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是本實用新型的整體結構示意圖；
[0018]圖2是本實用新型的蒸鍍室觀察窗結構示意圖；
[0019]圖3是本實用新型的樣品更換窗結構示意圖。
[0020]圖中，1-蒸發(fā)室2-蒸鍍室3-掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤4-轉(zhuǎn)盤支撐彈簧5-轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿6-樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤7-定位卡槽8-大擋板9-小擋板10-擋板控制旋鈕11-樣品過渡艙12-氣氛連通窗13-壓力控制旋鈕14-壓力顯示表15-蒸鍍室觀察窗16-樣品更換窗。

【具體實施方式】
[0021]下面結合附圖對本實用新型的技術方案做進一步的詳細說明:
[0022]如圖1所示，1-蒸發(fā)室2-蒸鍍室3-掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤4-轉(zhuǎn)盤支撐彈簧5_轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿6-樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤7-定位卡槽8-大擋板9-小擋板10-擋板控制旋鈕11-樣品過渡艙12-氣氛連通窗13-壓力控制旋鈕14-壓力顯示表15-蒸鍍室觀察窗16-樣品更換窗。
[0023]一種真空鍍膜機，包含蒸鍍室2和置于其內(nèi)底部的蒸發(fā)室I，所述蒸鍍室2包含樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤6、掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤4;所述樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤6包含多個交替工作的樣品臺，所述掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤3包含多個與樣品臺數(shù)量相同且一一對應的掩膜板；所述正在工作的樣品臺置于所對應的掩膜板上，所述蒸發(fā)室I置于正在工作的樣品臺和掩膜板的正下方；
[0024]其中，所述蒸鍍室2還包含轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿5、轉(zhuǎn)盤支撐彈簧4、大擋板8、小擋板9、擋板控制旋鈕10、蒸鍍室觀察窗15、樣品更換窗16、氣氛連通窗12和樣品過渡艙11 ;所述轉(zhuǎn)盤支撐彈簧置于掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與蒸鍍室上下壁之間，用于支撐掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤在彈力的作用下始終緊貼樣品調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤，所述掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與蒸鍍室通過轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿連接，用于調(diào)節(jié)掩膜板轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)；所述大擋板置于蒸發(fā)室上方，所述小擋板置于掩膜板的下方，所述大擋板和小擋板通過轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿控制。
[0025]掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤3與蒸鍍室2底部采用轉(zhuǎn)盤支撐彈簧4連接，彈簧與轉(zhuǎn)盤連接處有可旋轉(zhuǎn)軸承，轉(zhuǎn)盤與蒸鍍室頂部通過轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿5連接，此設計使掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤可旋轉(zhuǎn)任意角度，而且在彈簧力作用下轉(zhuǎn)盤始終向上緊貼樣品調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤，掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤間設置四個定位卡槽，只有在向下按壓轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿時，兩個調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤才會分開并進行掩膜板組的調(diào)換。掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤上設置四個圓形掩膜板組托盤，每個托盤可放置4塊不同類型掩膜板。
[0026]蒸發(fā)室I和蒸鍍室間設置大擋板8，每個樣品下方單獨設置有小擋板9，擋板的控制旋鈕10置于蒸鍍室頂端，當旋轉(zhuǎn)擋板控制旋鈕時，相應的擋板隨之轉(zhuǎn)動并控制上行氣體能否蒸發(fā)到樣品上，靈活控制擋板的開關，可實現(xiàn)不同樣品厚度的蒸鍍。樣品過渡艙11內(nèi)環(huán)境為惰性氣體環(huán)境，過渡艙包括過度艙體、氣氛連通窗12、壓力控制旋鈕13和壓力顯示表14。其中當完成4片樣本的蒸鍍后，打開氣氛連通窗，時過渡艙和蒸鍍室的氣氛互相連通，然后將樣品從連通窗移到過渡艙內(nèi)部，關閉氣氛連通窗，并把樣品進一步移往手套箱完成后續(xù)表征操作。
[0027]其中，所述掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤之間設有四個定位卡槽，用于固定樣品臺及與其對應的掩膜板，所述樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤機械結構相同且鏡面相對，所述轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿和掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤為固定連接，所述掩膜板轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿頂部下方設有小擋塊，用于防止樣品臺與掩膜板接觸太近導致?lián)p壞，所述轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿下方為L型支撐架，所述過渡艙包含壓力顯示表、過度艙體和壓力控制按鈕。
[0028]如圖2或圖3所示，在蒸鍍室正面設計了蒸鍍室觀察窗15，用于觀察轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)切換、觀察轉(zhuǎn)盤的咬合情況以及監(jiān)控樣品的蒸鍍情況，觀察窗四周采用密封設計，也可打開進行待蒸鍍藥品的更換。蒸鍍室左側設置樣品更換窗16，樣本更換窗四周采用密封設計，也可打開進行待樣本的更換。
【權利要求】
1.一種真空鍍膜機，包含蒸鍍室和置于其內(nèi)底部的蒸發(fā)室，其特征在于:所述蒸鍍室包含樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤、掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤；所述樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤包含多個交替工作的樣品臺，所述掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤包含多個與樣品臺數(shù)量相同且一一對應的掩膜板；所述樣品臺置于所對應的掩膜板上，所述蒸發(fā)室置于樣品臺和掩膜板的正下方。
2.根據(jù)權利要求1所述真空鍍膜機，其特征在于:所述蒸鍍室還包含轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿、轉(zhuǎn)盤支撐彈簧、大擋板、小擋板、擋板控制旋鈕、蒸鍍室觀察窗、樣品更換窗、氣氛連通窗和樣品過渡艙；所述轉(zhuǎn)盤支撐彈簧置于掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與蒸鍍室上下壁之間，用于支撐掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤在彈力的作用下始終緊貼樣品調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤，所述掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與蒸鍍室通過轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿連接，所述轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿用于調(diào)節(jié)掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)；所述大擋板置于蒸發(fā)室上方，所述小擋板置于掩膜板的下方，所述大擋板和小擋板通過轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿控制。
3.根據(jù)權利要求1所述真空鍍膜機，其特征在于:所述掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤之間設有四個定位卡槽，用于固定樣品臺及與其對應的掩膜板。
4.根據(jù)權利要求1所述真空鍍膜機，其特征在于:所述樣品架調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤與掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤機械結構相同且鏡面相對。
5.根據(jù)權利要求2所述真空鍍膜機，其特征在于:所述轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿和掩膜板調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)盤為固定連接。
6.根據(jù)權利要求2所述真空鍍膜機，其特征在于:所述轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿頂部下方設有小擋塊，用于防止樣品臺與掩膜板接觸太近導致?lián)p壞。
7.根據(jù)權利要求2所述真空鍍膜機，其特征在于:所述轉(zhuǎn)盤調(diào)節(jié)螺桿下方為L型支撐架。
8.根據(jù)權利要求2所述真空鍍膜機，其特征在于:所述過渡艙包含壓力顯示表、過度艙體和壓力控制按鈕。
【文檔編號】C23C14/04GK204251689SQ201420594844
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2014年10月14日 優(yōu)先權日:2014年10月14日
【發(fā)明者】閔永剛, 王劍, 童宋照 申請人:南京郵電大學