中的至少一個(gè)槽或凹部，用于露出至少一個(gè)連接開口。在此，室底部可基本上是板形的，(例如具有大致Icm至大致5cm范圍中的厚度)，且在真空室的兩個(gè)相對(duì)的室側(cè)壁之間延伸。
[0022]根據(jù)不同的實(shí)施方式，真空室可具有:帶有蓋開口的室殼體；用于這樣地蓋住蓋開口的室蓋，即，蓋開口在室蓋閉合時(shí)被密封，其中，室殼體的室底部這樣被設(shè)置，即，基體可在室底部與閉合的室蓋之間在運(yùn)輸區(qū)域中被運(yùn)輸通過真空室；室殼體的室側(cè)壁中的至少一個(gè)連接開口，用于將高真空栗連接到室殼體，其中，該至少一個(gè)連接開口部分地被設(shè)置在運(yùn)輸區(qū)域之下；室底部中的至少一個(gè)槽或凹部，用于露出至少一個(gè)連接開口。在此，對(duì)于運(yùn)輸區(qū)域(對(duì)于真空室或室殼體的內(nèi)部)露出的室底部的表面可限定底部面，其中，室側(cè)壁中的至少一個(gè)連接開口部分地被設(shè)置在底部面之下。
[0023]此外，在閉合的室蓋的情況下，可提供在室底部與室蓋之間的運(yùn)輸縫隙，其中，連接開口的直徑大于運(yùn)輸縫隙的縫隙高度。
【附圖說明】
[0024]在附圖中示出本發(fā)明的各實(shí)施例，且在下文中更加詳細(xì)地說明。附圖中:
[0025]圖1以垂直于運(yùn)輸方向的示意性的剖視圖示出根據(jù)不同的實(shí)施方式的真空室；
[0026]圖2以垂直于運(yùn)輸方向的示意性的剖視圖示出根據(jù)不同的實(shí)施方式的真空室的區(qū)域的細(xì)節(jié)圖；
[0027]圖3A以垂直于運(yùn)輸方向的示意性的剖視圖示出根據(jù)不同的實(shí)施方式的具有室殼體和室蓋的在打開狀態(tài)下的真空室；
[0028]圖3B以垂直于運(yùn)輸方向的示意性的剖視圖示出根據(jù)不同的實(shí)施方式的具有室殼體和室蓋的在閉合狀態(tài)下的真空室；
[0029]圖4以示意性的分解圖示出根據(jù)不同的實(shí)施方式的真空室的區(qū)域的細(xì)節(jié)圖；
[0030]圖5A以沿著運(yùn)輸方向的示意性的剖視圖示出根據(jù)不同的實(shí)施方式的具有室殼體和室蓋的在打開狀態(tài)下的真空室；以及
[0031]圖5B以沿著運(yùn)輸方向的示意性的剖視圖示出根據(jù)不同的實(shí)施方式的具有室殼體和室蓋的在閉合狀態(tài)下的真空室。
【具體實(shí)施方式】
[0032]下文中的描述中，參考附圖，附圖構(gòu)成本發(fā)明的一部分，且在其中示出可實(shí)施本發(fā)明的特別的實(shí)施方式用于說明。在圖中，諸如“上方”，“下方”，“前方”，“后方”，“前面的”，“后面的”等的方向術(shù)語參考描述附圖的朝向而使用。因?yàn)楦鲗?shí)施方式的部件可被定位在多個(gè)不同的朝向上，方向術(shù)語用于清晰化，且是非限制性的。應(yīng)理解，可使用其他的實(shí)施方式，且可進(jìn)行結(jié)構(gòu)上和邏輯上的改變，而不會(huì)偏離本發(fā)明的保護(hù)范圍。應(yīng)理解，只要不另行說明，則在此描述的不同的示范實(shí)施方式的特征可相互組合。下文中的描述因此是非限制性的，且本發(fā)明的保護(hù)范圍通過附帶的權(quán)利要求限制。
[0033]在本文的框架下，使用概念“連接的”，“接合的”以及“耦接的”來描述直接或間接的連接，直接或間接的接合，以及直接或間接的耦接。在附圖中，只要是適宜的，則相同或相似的部件具有相同的參考標(biāo)記。
[0034]根據(jù)不同的實(shí)施方式，可通過下述方式提供真空室，即，具有蓋開口的室殼體借助于相應(yīng)匹配的室蓋被密封(被封閉)。室蓋例如可被置于室殼體上，且由此真空密封地封閉室殼體。根據(jù)不同的實(shí)施方式，室蓋可非固定地與室殼體連接，且由此例如向上升起。替選地，室蓋可借助于軸承可旋轉(zhuǎn)地安裝在室殼體上，且由此例如被翻開。根據(jù)不同的實(shí)施方式，室殼體可具有在側(cè)面(在室殼體的側(cè)壁中)布置的法蘭，用于連接前級(jí)真空栗組件和/或高真空栗組件。根據(jù)不同的實(shí)施方式，室殼體可在室殼體的側(cè)壁中具有至少一個(gè)法蘭，用于連接高真空栗組件，例如用于連接至少一個(gè)渦輪分子栗。此外，用于連接高真空栗組件的至少一個(gè)法蘭可被設(shè)置在室蓋中，例如用于連接至少一個(gè)渦輪分子栗。
[0035]替選地，真空室可具有封閉的室殼體(沒有蓋開口 )。明顯地，室蓋可與室殼體固定連接。
[0036]根據(jù)不同的實(shí)施方式，在此描述的真空室可以是用于真空處理裝置的閘門室、緩沖室或轉(zhuǎn)送室。根據(jù)不同的實(shí)施方式，可提供閥門室用于水平的真空涂層裝置。在此，閥門室這樣地被設(shè)計(jì)，即，閘門室的室殼體例如基本上結(jié)構(gòu)相同于水平的真空涂層裝置的其他室殼體，使得對(duì)于使用室殼體而提供統(tǒng)一的基本上模塊化的設(shè)計(jì)。例如可使用水平的真空涂層裝置，從而涂層結(jié)構(gòu)玻璃、制造結(jié)構(gòu)玻璃或制造光電模塊。
[0037]水平的真空涂層裝置例如可被提供作為3-室-裝置(具有三個(gè)不同的真空區(qū)域，例如入口閘中的閘壓力區(qū)域、處理室中的處理壓力區(qū)域以及出口閘中的閘壓力區(qū)域)，或作為5-室-裝置(具有五個(gè)不同的真空區(qū)域，例如入口閘中的閘壓力區(qū)域、入口閘處的緩沖室中的緩沖室壓力區(qū)域、處理室中的處理壓力區(qū)域、出口閘處的緩沖室中的緩沖室壓力區(qū)域以及出口閘中的閘壓力區(qū)域)。
[0038]圖1以示意性的剖視圖示出根據(jù)不同的實(shí)施方式的真空室100。真空室100例如可具有室殼體102，其中，室殼體102具有室底部102b、多個(gè)室側(cè)壁102s以及室蓋壁(或替選室蓋壁的室蓋)。
[0039]如在圖1中所示的，室底部102b和室側(cè)壁102s例如可向下(平行于方向105)或側(cè)向(側(cè)向平行于方向103)限制室殼體102內(nèi)的運(yùn)輸區(qū)域111。換而言之，(面狀的或平的)室底部102b基本垂直于方向105地被布置。此外(面狀的或平的)室側(cè)壁102s可基本垂直于方向103地被布置。明顯地，方向103，105限制垂直于運(yùn)輸方向的面。
[0040]真空室100的室壁102b，102s可基本上被構(gòu)建成板形的(或具有其他合適的形狀)，且例如具有鋼。在此，在其中可將基體沿著運(yùn)輸方向運(yùn)輸通過真空室100的運(yùn)輸區(qū)域111，由室壁102b，102s分別向內(nèi)露出的表面限定或限制。
[0041]根據(jù)不同的實(shí)施方式，可設(shè)置運(yùn)輸系統(tǒng)110，用于在運(yùn)輸區(qū)域111內(nèi)運(yùn)輸在運(yùn)輸區(qū)域111中的基體，例如可在室底部102b上或之上提供運(yùn)輸滾筒系統(tǒng)。根據(jù)不同的實(shí)施方式，運(yùn)輸滾筒系統(tǒng)可具有多個(gè)運(yùn)輸滾筒110，其分別可圍繞旋轉(zhuǎn)軸線IlOr旋轉(zhuǎn)地被支承在真空室100 (或在真空室100的運(yùn)輸區(qū)域111中)，其中，多個(gè)運(yùn)輸滾筒110可限定運(yùn)輸面，在其中基體可被運(yùn)輸通過真空室100 (或通過真空室100的運(yùn)輸區(qū)域111)。
[0042]如在圖1中所示的，運(yùn)輸滾筒110可分別這樣地布置在真空室100中或在室殼體102中，S卩，運(yùn)輸滾筒110的旋轉(zhuǎn)軸線IlOr基本平行于室底部102b地延伸。由此，室底部102b例如可限制運(yùn)輸滾筒之下的運(yùn)輸區(qū)域。在此一方面是，盡可能不大于用于基體運(yùn)輸所必須地提供在真空室100中或在室殼體102中的運(yùn)輸區(qū)域111。
[0043]根據(jù)不同的實(shí)施方式，室底部102b可基本板形地設(shè)置(例如具有在大致Icm至大致5cm范圍中的厚度)，且基本上在真空室100的(室殼體102的)兩個(gè)相對(duì)的室側(cè)壁102s之間延伸。
[0044]根據(jù)不同的實(shí)施方式，在室側(cè)壁102s中(在室側(cè)壁102s的一個(gè)中或在兩個(gè)相對(duì)的室側(cè)壁102s中)可提供至少一個(gè)連接開口 104，用于將高真空栗連接到室殼體102，其中，至少一個(gè)連接開口 104部分地被設(shè)置在室底部102b之下(例如參見圖4)。
[0045]替選地，可任意地設(shè)置室底部102b，其中，在該情況下明顯地，至少室底部102b對(duì)于運(yùn)輸區(qū)域111露出的表面可被理解成室底部。根據(jù)不同的實(shí)施方式，室底部102b對(duì)于運(yùn)輸區(qū)域111露出的表面可向下限制運(yùn)輸區(qū)域111 (或限制運(yùn)輸區(qū)域111)。在此，底部面(室底部102b的對(duì)于運(yùn)輸區(qū)域111露出的表面，其限定運(yùn)輸區(qū)域111)可基本平行于運(yùn)輸面地被設(shè)置。此外，底部面可垂直于室側(cè)壁102S或垂直于兩個(gè)相對(duì)的室側(cè)壁102s地被設(shè)置。
[0046]明顯地，室底部102b或底部面可借助于真空室100的任意合適的底部結(jié)構(gòu)而被提供。此外，室底部102b可以是任意合適的底部結(jié)構(gòu)的一部分。
[0047]根據(jù)不同的實(shí)施方式，在室殼體102的室側(cè)壁102s中至少一個(gè)連接開口 104可部分地被設(shè)置在