定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜設(shè)備，特別是一種定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架。
【背景技術(shù)】
[0002]在利用真空鍍膜設(shè)備對(duì)工件進(jìn)行真空鍍膜時(shí)，為了獲得較好的鍍膜效果，支承工件的支架需要一邊沿著一個(gè)直徑相對(duì)較大的轉(zhuǎn)盤(pán)作公轉(zhuǎn)，同時(shí)也要沿著自身的軸線作自轉(zhuǎn)，這種方式比較適合于在工件較多的情況下使用；但有時(shí)需要進(jìn)行鍍膜操作的工件相對(duì)較小，仍然利用上述設(shè)備在公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)同時(shí)進(jìn)行的條件下進(jìn)行操作，則會(huì)提高企業(yè)的運(yùn)營(yíng)成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型是為了解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的上述不足，提出一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)巧妙，節(jié)省成本，簡(jiǎn)化操作，能夠讓所有支承需鍍膜工件的支架在不公轉(zhuǎn)的前提下實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)的定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是:一種定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架，包括機(jī)架，在機(jī)架上軸承支承有主軸1，主軸I上連接有公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)2，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)2的圓周上均勻分布有多個(gè)分軸3，其特征在于:在所述的機(jī)架上軸承支承有通過(guò)自轉(zhuǎn)電機(jī)4驅(qū)動(dòng)的副軸5，副軸5的頂端設(shè)置有副軸齒6，在所述的主軸I上還轉(zhuǎn)動(dòng)支承有自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)8，在自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)8的外圓周上固定連接有雙層齒圈9，雙層齒圈9的下層齒圈10與所述的副軸齒6嗤合，雙層齒圈9的上層齒圈11與分軸齒7嚙合，而所述的分軸齒7連接在分軸3上。
[0005]本實(shí)用新型同現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下優(yōu)點(diǎn):
[0006]本種結(jié)構(gòu)形式的定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，設(shè)計(jì)巧妙，布局合理，它針對(duì)傳統(tǒng)的真空鍍膜設(shè)備僅能夠同時(shí)驅(qū)動(dòng)工件公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)，而導(dǎo)致在對(duì)數(shù)量較少的工件進(jìn)行真空鍍膜操作時(shí)存在的:工作效率低下，提高企業(yè)運(yùn)營(yíng)成本的問(wèn)題，設(shè)計(jì)出一種能夠驅(qū)動(dòng)工件支架在不進(jìn)行公轉(zhuǎn)的情況下進(jìn)行自轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu)，這樣就可以在對(duì)較少的工件實(shí)時(shí)鍍膜操作時(shí)節(jié)省大量的資源與成本，并且它的制作工藝簡(jiǎn)單，制造成本低廉，因此可以說(shuō)它具備了多種優(yōu)點(diǎn)，特別適合于在本領(lǐng)域中推廣應(yīng)用，其市場(chǎng)前景十分廣闊。
【附圖說(shuō)明】
[0007]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0008]下面將結(jié)合【附圖說(shuō)明】本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】。如圖1所示:一種定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架，包括一個(gè)作為基礎(chǔ)的機(jī)架，在機(jī)架上軸承支承有主軸1，在主軸I的上部上連接有公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)2，在公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)2的圓周上均勻分布有多個(gè)分軸3，當(dāng)公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)2在主軸I的帶動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，其圓周上的所有的分軸3也會(huì)隨之轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)；在機(jī)架上還軸承支承有副軸5，在這個(gè)副軸5的頂端設(shè)置有副軸齒6，在主軸I上還轉(zhuǎn)動(dòng)支承有自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)8 (即自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)8能夠相對(duì)于主軸I轉(zhuǎn)動(dòng))，在自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)8的外圓周上則固定連接有雙層齒圈9，這個(gè)雙層齒圈9由下層齒圈10和上層齒圈11兩部分組成，其中下層齒圈10與副軸齒6相嗤合，而上層齒圈11則與分軸齒7相嚙合，這里的分軸齒7連接在分軸3上。
[0009]本實(shí)用新型實(shí)施例的定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架的工作過(guò)程如下:當(dāng)需要對(duì)較多的工件進(jìn)行真空鍍膜處理時(shí)，主軸I帶動(dòng)公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)2轉(zhuǎn)動(dòng)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)2便會(huì)帶動(dòng)其上的所有分軸3實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)，而分軸3公轉(zhuǎn)的同時(shí)，由于其底端的分軸齒7與自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)8相嗤合，同時(shí)自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)8在此時(shí)不轉(zhuǎn)動(dòng)，因此所有的分軸齒7與自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)8相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)所有的分軸3自轉(zhuǎn)，這樣就實(shí)現(xiàn)了與分軸3連接的工件支架的公轉(zhuǎn)、自轉(zhuǎn)；工件支架上的工件便能夠在真空鍍膜設(shè)備中實(shí)現(xiàn)均勻、快速的鍍膜處理；
[0010]當(dāng)僅需要對(duì)較少的工件進(jìn)行真空鍍膜處理時(shí)，不需要啟動(dòng)主軸1，僅僅開(kāi)啟自轉(zhuǎn)電機(jī)4，自轉(zhuǎn)電機(jī)4驅(qū)動(dòng)副軸5轉(zhuǎn)動(dòng)，由于副軸5頂端的副軸齒6與雙層齒圈9中的下層齒圈10嚙合，因此副軸5便會(huì)驅(qū)動(dòng)自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)8和雙層齒圈9 一同轉(zhuǎn)動(dòng)，這樣雙層齒圈9中的上層齒圈11便會(huì)驅(qū)動(dòng)與之嚙合的分軸齒7轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)分軸3的轉(zhuǎn)動(dòng)，最終實(shí)現(xiàn)工件支架的自轉(zhuǎn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架，包括機(jī)架，在機(jī)架上軸承支承有主軸(I)，主軸(I)上連接有公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)(2)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)(2)的圓周上均勻分布有多個(gè)分軸(3)，其特征在于:在所述的機(jī)架上軸承支承有通過(guò)自轉(zhuǎn)電機(jī)(4)驅(qū)動(dòng)的副軸(5)，副軸(5)的頂端設(shè)置有副軸齒(6)，在所述的主軸(I)上還轉(zhuǎn)動(dòng)支承有自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)(8 )，在自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)(8 )的外圓周上固定連接有雙層齒圈(9)，雙層齒圈(9)的下層齒圈(10)與所述的副軸齒(6)嚙合，雙層齒圈(9)的上層齒圈(11)與分軸齒(7)嚙合，而所述的分軸齒(7)連接在分軸(3)上。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)一種定位自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架，包括機(jī)架，在機(jī)架上軸承支承有主軸（1），主軸（1）上連接有公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)（2），公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)（2）的圓周上均勻分布有多個(gè)分軸（3），其特征在于：在所述的機(jī)架上軸承支承有通過(guò)自轉(zhuǎn)電機(jī)（4）驅(qū)動(dòng)的副軸（5），副軸（5）的頂端設(shè)置有副軸齒（6），在所述的主軸（1）上還轉(zhuǎn)動(dòng)支承有自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)（8），在自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤(pán)（8）的外圓周上固定連接有雙層齒圈（9），雙層齒圈（9）的下層齒圈（10）與所述的副軸齒（6）嚙合，雙層齒圈（9）的上層齒圈（11）與分軸齒（7）嚙合，而所述的分軸齒（7）連接在分軸（3）上。
【IPC分類】C23C14/50
【公開(kāi)號(hào)】CN204939604
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520585304
【發(fā)明人】白春陽(yáng), 佟鑫, 王吉哲
【申請(qǐng)人】大連金泰表面工程科技有限公司
【公開(kāi)日】2016年1月6日
【申請(qǐng)日】2015年8月6日