真空室的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種真空室。
【背景技術】
[0002]通常，可使用真空處理設備或真空涂層裝置，來處理或涂層基體，例如板形基體、玻璃板、晶片或其他載體。在此，真空處理裝置可具有一個或多個真空室(也被稱為部(隔間)或處理室)，以及具有運輸系統，用于將分別待涂層的基體運輸通過真空處理裝置或通過至少一個真空室。為將基體帶入真空處理裝置中，或將基體帶出真空處理裝置，例如可使用一個或多個閘門室，一個或多個緩沖室(例如可選地)，和/或一個或多個轉送室。
[0003]為將至少一個基體帶入真空處理裝置中，例如至少一個基體可置于通風的閘門室中，然后，帶有至少一個基體的閘門室可被抽真空，且基體可分批地從抽成真空的閘門室中被運輸進入真空處理裝置的鄰接的真空室中(例如緩沖室中)。例如，借助于緩沖室可維持基體，且可提供小于閘門室中的壓力。借助于轉送室，分批被置入的基體可匯集成所謂的基體帶(例如相同形式的被運輸的連續(xù)的系列基體)，使得在基體之間僅保留小的空隙，而基體在真空處理裝置的至少一個相應設置的處理室中被處理(例如被涂層)。

【發(fā)明內容】

[0004]根據不同的實施方式提供真空室，其被模塊化地構建，或其可以是模塊化被構建的真空處理裝置的部分。根據不同的實施方式，真空室可具有室殼體，其中，室殼體這樣地被設置，即，室殼體的蓋開口可通過室蓋被蓋住。明顯地，可通過下述方式打開真空室，即，室蓋被取下或掀開(打開)，且可通過下述方式閉合真空室，即，室蓋被放置或合上(閉合)。
[0005]室殼體例如可這樣地被設置，即，其可作為用于不同的真空室的基礎室(容器)，例如室殼體可用于閥門室，其中，閘門室例如可在高真空范圍中(例如在處理真空的范圍中，例如在大致10 3mbar至大致10 7mbar的范圍中，例如在大致10 3mbar至大致10 5mbar的范圍中)被驅動。此外，室殼體可被用于緩沖室或轉送室。在此，各真空室的功能或驅動類型可根據與室殼體使用的室蓋而限定。例如，具有一室蓋的基礎室可被用作為閥門室，且具有另一室蓋的基礎室可被用作為緩沖室或轉運室(或處理室)。為了使室殼體可被普遍使用，室殼體可具有至少一個連接法蘭，用于連接前級真空栗或前級真空栗組件。由此，可在借助于室蓋密封的室殼體中產生或提供直至少一個前級真空。當應在密封的室殼體中產生高真空時，其可借助于合適的室蓋完成，其中，室蓋例如可具有連接法蘭，用于連接高真空栗或高真空栗組件，或室殼體自身可具有連接法蘭，用于連接高真空栗或高真空栗組件，例如，可在室殼體的側室壁中提供連接法蘭。
[0006]明顯地，不同實施方式的一個方面可在于，提供真空室(或具有相應用于匹配室殼體的室蓋的室殼體)，其可有效地作為閘門室或緩沖室，其中，真空室具有盡可能小的待抽真空的內部容積，且同時可有效地被抽成至高真空范圍內。在此，閘門室的效率例如涉及持續(xù)時間，該持續(xù)時間對于將閘門室從第一壓力范圍抽真空成第二壓力范圍是必要的，例如從正常大氣壓至高真空范圍中(直至預定的處理壓力)，結合所使用的措施，例如高真空栗的(例如渦輪分子栗的)數量和尺寸(栗功率)。
[0007]明顯地，根據不同的實施方式，提供真空室，其使得可以在相比于高真空栗的吸氣開口的直徑而窄的內部容積(運輸區(qū)域)的真空室中有效地動用高真空栗(例如渦輪分子栗)。例如，渦輪分子栗的抽氣能力或效率可通過下述方式減小，即，當渦輪分子栗的整個吸氣開口未相對于待抽真空的容積而開放時。換而言之，部分地蓋住渦輪分子栗的吸氣開口會導致真空室更慢地被抽真空。
[0008]明顯地，前級真空的壓力范圍中，(例如在大致Ibar至大致10 2mbar的范圍中)，由于氣體在該壓力范圍中的流動情況，可足夠借助于相對小的法蘭開口對真空室抽真空，例如在大致4cm至大致1cm的范圍中。相反地，在高真空范圍中，相對大的法蘭開口，例如在大致1cm至大致40cm的范圍中，對真空室進行抽真空是必要的或有幫助的，因為在該壓力范圍中，氣體粒子的平均自由行程大小是這樣的，即，例如在大致幾個厘米至大致幾百米之間的范圍中，真空室的幾何形狀、相應的法蘭開口的相對位置和/或大小可在對真空室抽真空時起基本作用。
[0009]明顯地，不同實施方式的一個方面可在于，這樣地提供在真空室的室底部中的槽或凹部，即，露出真空室的側室壁中的法蘭開口。由此，可提供具有盡可能小的高度的運輸區(qū)域，其中，運輸區(qū)域可借助于側室壁中的法蘭開口被抽真空，其中，法蘭開口大于運輸區(qū)域的高度。換而言之，可以使得例如具有小于大致1cm的高度的運輸區(qū)域，可借助于例如具有大于1cm的直徑的側室壁中的法蘭開口，有效地被抽真空，因為法蘭開口可借助于室底部中的槽或凹部被露出。
[0010]根據不同的實施方式，真空室可具有:帶有室底部和室側壁的室殼體(真空室殼體)，其中，室底部向下限制室殼體內的運輸區(qū)域，且其中，室側壁側向限制室殼體內的運輸區(qū)域；運輸系統，用于在運輸區(qū)域中運輸基體；室側壁中的至少一個連接開口，用于將高真空栗連接到室殼體，其中，該至少一個連接開口部分地被設置在室底部之下；室底部中的至少一個槽和/或凹部，其中，該至少一個槽和/或凹部露出至少一個連接開口。在此，室底部可以是基本上板形的(例如具有在大致Icm至大致5cm范圍中的厚度)，且在真空室的兩個相對的室側壁之間延伸。
[0011]根據不同的實施方式，真空室可具有:帶有室底部和室側壁的室殼體，其中，室底部向下限制室殼體內的運輸區(qū)域，且其中，室側壁側向限制室殼體內的運輸區(qū)域；運輸系統，用于在運輸區(qū)域中運輸基體；室側壁中的至少一個連接開口，用于將高真空栗連接到室殼體，其中，該至少一個連接開口部分地被設置在運輸區(qū)域之下；室底部中的至少一個槽和/或凹部，其中，該至少一個槽和/或凹部露出至少一個連接開口。在此，對于運輸區(qū)域(對于真空室或室殼體的內部)露出的室底部的表面可限定底部面，其中，室側壁中的至少一個連接開口部分地被設置在底部面之下。
[0012]根據不同的實施方式，槽和/或凹部可僅被設置在室側壁附近的室底部的邊緣上，使得運輸區(qū)域的容積是盡可能地小。
[0013]此外，室殼體可具有室殼體的上側中的蓋開口。
[0014]根據不同的實施方式，真空室此外可具有室蓋，用于蓋住蓋開口，其中，這樣地設置室蓋，即，蓋開口在閉合狀態(tài)下借助于室蓋真空密封地被密封。
[0015]根據不同的實施方式，在閉合狀態(tài)下，可真空密封地密封真空室，或真空室的蓋開口可借助于室蓋真空密封地被密封。此外，在閉合狀態(tài)下，室殼體可真空密封地被密封，或室殼體的蓋開口可借助于室蓋真空密封地被密封。
[0016]根據不同的實施方式，室蓋可這樣地被設置，S卩，室蓋在閉合狀態(tài)下限制運輸區(qū)域，例如向上限制。
[0017]根據不同的實施方式，運輸系統可具有多個運輸滾筒，其提供基本平行于室底部的運輸面。換而言之，運輸系統可具有多個運輸滾筒，其中，多個運輸滾筒中的運輸滾筒提供運輸面，其中，運輸面被基本平行于室底部地定向。
[0018]根據不同的實施方式，運輸區(qū)域的高度可小于10cm。換而言之，運輸區(qū)域具有垂直于運輸面的小于1cm的高度。
[0019]根據不同的實施方式，連接開口可以是真空室的側室壁中的圓形通孔。此外，連接開口可以是法蘭結構的一部分，或被提供作為法蘭開口。根據不同的實施方式，連接開口的直徑可大于10cm。
[0020]根據不同的實施方式，真空室此外可具有在運輸區(qū)域內的至少一種填料，用于減小真空室的待抽真空的內部容積。
[0021]根據不同的實施方式，真空室可具有:帶有蓋開口的室殼體；用于這樣地蓋住蓋開口的室蓋，即，蓋開口在室蓋閉合時被密封，其中，室殼體的室底部這樣地被設置，即，基體可在室底部與閉合的室蓋之間被運輸通過真空室；室殼體的室側壁中的至少一個連接開口，用于將高真空栗連接到室殼體，其中，該至少一個連接開口部分地被布置在室底部之下；室底部