專利名稱：平面型圖像顯示裝置制造方法及平面型圖像顯示裝置的制造設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及采用場致發(fā)射型冷陰極等電子發(fā)射元件的平面型圖像顯示裝置制造方法及制造設(shè)備。
作為這樣的平面型圖像顯示裝置，已經(jīng)知道有例如圖7所示的結(jié)構(gòu)。另外，圖7B所示為圖7A的圓圈所包圍部分的放大剖面圖。
在該圖像顯示裝置中，作為后板的硅基板101上，形成具有大量凹陷102的二氧化硅膜103，在該二氧化硅膜103上形成鉬或鈮等構(gòu)成的柵極電極104。在凹陷102內(nèi)部的硅基板101上形成圓錐體狀的鉬等構(gòu)成的場致發(fā)射型電子發(fā)射元件105。
然后，與具有這樣大量的電子發(fā)射元件105的硅基板101相對，隔開規(guī)定間隔，平行配置玻璃基板等構(gòu)成的透明基板(面板)106，利用它們構(gòu)成真空外殼107。在透明基板106的與電子發(fā)射元件105相對的面上形成熒光屏108。另外，為了承受加在硅基板101與透明基板106上的大氣壓負荷，在這些基板之間設(shè)置支承構(gòu)件109。
在上述的平面型圖像顯示裝置中，由大量的電子發(fā)射元件105發(fā)射的電子束照射熒光屏108，使熒光屏108發(fā)光，通過這樣形成圖像。在這樣的圖像顯示裝置中，電子發(fā)射元件105是微米量級大小，硅基板101與透明基板106的間隔可以做到毫米量級大小。因此，與以往電視機及計算機顯示器使用的陰極射線管(CRT)等相比，能夠達到高清晰度、重量輕、厚度薄的要求。
具有上述結(jié)構(gòu)的平面型圖像顯示裝置，其裝置內(nèi)部的真空度必須保持在例如10-7～10-8Torr。因此，在以往的排氣工序中，是利用將圖像顯示裝置加熱至350℃左右的烘烤處理，使裝置內(nèi)部表面吸附的氣體短時間內(nèi)放出。但是，采用這樣的排氣方法，不能使表面收附氣體充分放出。
另外，在以往的CRT等裝置中，密封后使內(nèi)部設(shè)置的吸氣劑活化，讓吸氣劑吸附工作時內(nèi)壁放出的氣體，通過這樣維持所希望的真空度。從而也嘗試在平面型圖像顯示裝置采用這樣的利用吸氣劑達到高真空度及維持真空度的方法。
但是，在采用場致發(fā)射型電子發(fā)射元件的平板型圖像顯示裝置中，后板與面板及側(cè)面配置的支承框形成的真空容器(真空外殼)的容積，與通常的CRT相比是大幅度減少，但與此相反，放出氣體的壁面面積卻不減少。因此，在放出的表面吸附氣體與CRT相同程度的情況下，真空容器內(nèi)的壓力將大大上升。由于這種情況，在平板型圖像顯示裝置中，吸氣劑的作用將非常重要，但是從防止布線短路等觀點出發(fā)，具有導(dǎo)電性的吸氣劑膜的形成位置又很有限。
對于這樣的問題提供了一種方案，即在真空外殼的圖像顯示區(qū)以外配置吸氣劑，在對圖像顯示已沒有影響的外圍部分形成吸氣劑膜(參照日本專利特開平5-151916號公報及特開平4-289640號公報等)。但是，采用這樣的方法的問題在于，利用外圍部分形成的吸氣劑膜，由于不能有效地吸附圖像顯示區(qū)產(chǎn)生的氣體，因此不能長時間維持真空外殼內(nèi)的高真空度。
由于這種情況，研究了在圖像顯示區(qū)內(nèi)形成吸氣劑膜的方法。例如在特開平9-82245號公報中所述的方法是，在平板型圖像顯示裝置面板的熒光膜上形成的金屬背層上覆蓋鈦(Ti)、鋯(Zr)或它們的合金構(gòu)成的吸氣劑，或用前述吸氣劑構(gòu)成金屬背層，或在圖像顯示區(qū)內(nèi)后板的電子發(fā)射元件以外的部分配置前述吸氣劑。
但是，在前述特開平9-82245號公報所述的平板型圖像顯示裝置中，由于利用通常的面板形成工序形成吸氣劑，因此吸氣劑表面自然氧化。而吸氣劑由于表面活性度特別重要，因此表面氧化的吸氣劑不能得到滿意的氣體吸附效果。
所以，雖然如上述公報所示，在將面板與后板之間的空間通過支承框進行氣密封接形成真空外殼后，利用電子束照射等使吸氣劑活化，但是用該方法，仍不能有效使吸氣劑活化。特別是在形成真空外殼后使吸氣劑活化時，由于活化而放出的氧等氣體成分附著在電子發(fā)射元件及其它構(gòu)件上，因此在這個階段有電子發(fā)射特性等下降的危險。
本發(fā)明是為解決這樣的問題而提出的，目的在于提供平面型圖像顯示裝置的制造方法及平面型圖像顯示裝置的制造設(shè)備，它是通過在制造工序中使裝置內(nèi)部表面吸附的氣體充分放出，能夠?qū)⒆鳛橥鈿さ恼婵杖萜鲀?nèi)部維持在高真空狀態(tài)。
發(fā)明揭示本發(fā)明的第1方面是平面型圖像顯示裝置的制造方法，前述平面型圖像顯示裝置的制造方法包含將具有電子發(fā)射元件的基板與具有熒光屏的面板封接使在所述電子射元件與所述熒光屏之間保持間隙相對配置的工序，在所述平面型圖像顯示裝置的制造方法中，其特征在于，還具有在真空氣氛中對前述基板及前述面板的至少一方照射電子的工序。
更具體來說，其特征在于，在所述電子照射工序中，將所述基板及所述面板的至少一方裝在處理容器內(nèi)，利用該處理容器內(nèi)設(shè)置的電子源，對所述基板及所述面板的至少一方照射電子。
在本發(fā)明的平面型圖像顯示裝置制造方法中，所述電子照射工序最好是在保持10-3Torr以下的真空度的真空氣氛中照射所述電子。另外，所述電子照射工序最好是一面對所述基板及所述面板的至少一方進行加熱，一面照射所述電子。而且在加熱時，最好是對所述基板及所述面板的至少一方進行加熱至200～400℃。另外，具有電子發(fā)射元件的所述基板及面板在電子照射后，例如隔著支承框在真空氣氛中封接。
本發(fā)明的第2方面是平面型圖像顯示裝置的制造設(shè)備，所述平面型圖像顯示裝置是將具有電子發(fā)射元件的基板與具有熒光屏的面板封接使在所述電子發(fā)射元件與所述熒光屏之間保持間隙相對配置而成，在所述平面型圖像顯示裝置的制造設(shè)備中，其特征在于，具有裝有所述基板及所述面板的至少一方的處理容器、將所述基板及所述面板的至少一方送入所述處理容器內(nèi)或從中取出的輸送手段、使所述處理容器內(nèi)達到真空氣氛的真空排氣手段、對裝在所述處理容器內(nèi)的所述基板及所述面板的至少一方照射電子束的電子束照射手段、以及將至少一方照射了所述電子束的所述基板及所述面板一面保持間隙一面封接的封接手段。
本發(fā)明的平面型圖像顯示裝置的制造設(shè)備還可以具有對裝在所述處理容器內(nèi)的所述基板及所述面板的至少一方進行加熱的手段。
一般通過對固體物質(zhì)照射電子束，能夠使固體表面吸附的氣體脫離。因而，通過將具有電子發(fā)射元件的基板或面板裝在例如內(nèi)部形成真空氣氛的處理容器內(nèi)，再從處理容器內(nèi)設(shè)置的電子源對基板或面板照射電子束，就能夠?qū)哂须娮影l(fā)射元件的基板或面板的整個表面無死角地進行電子束清洗，使表面吸附的氣體充分放出。另外，通過實施這樣的電子束照射，能夠?qū)?gòu)成平面型圖像顯示裝置外殼的真空容器內(nèi)部維持在例如10-7～10-8Torr高真空度的高真空狀態(tài)。
圖2所示為本發(fā)明制造方法所使用的真空處理裝置構(gòu)成例的簡圖。
圖3所示為本發(fā)明的平面型圖像顯示裝置制造方法中面板端部結(jié)構(gòu)例子的放大剖面圖。
圖4所示為本發(fā)明的平面型圖像顯示裝置制造方法中電子束清洗工序第1例的示意圖。
圖5所示為本發(fā)明的平面型圖像顯示裝置制造方法中電子束清洗工序第2例的示意圖。
圖6所示為本發(fā)明的平面型圖像顯示裝置制造方法中電子束清洗工序第3例的示意圖。
圖7所示為平面型圖像顯示裝置主要部分的剖面圖。
首先參照

圖1說明本發(fā)明的平面型圖像顯示裝置的制造方法。
首先如圖1A所示，按照常規(guī)方法準備面板10、后板20及支承框30。
面板10具有在玻璃基板11等透明基板上形成的熒光層12。在彩色圖像顯示裝置的情況下，熒光層12的結(jié)構(gòu)是具有對應(yīng)于像素形成的紅色發(fā)光熒光層、綠色發(fā)光熒光層及藍色發(fā)光熒光層，在它們之間利用黑色導(dǎo)電材料構(gòu)成的吸光層13加以分離。紅、綠及藍的各色發(fā)光熒光層12及將它們之間分離的吸光層13分別沿水平方向依次重復(fù)形成。利用這些熒光層12及吸光層13構(gòu)成熒光屏，該熒光屏存在的部分構(gòu)成圖像顯示區(qū)。
吸光層13根據(jù)其形狀可稱為黑條型及黑矩陣型等。黑條型熒光屏具有這樣的結(jié)構(gòu)，即依次形成紅、綠及藍的各色熒光條，在它們之間用條狀的吸光層13分離。而黑矩陣型熒光屏的結(jié)構(gòu)是，紅、綠及藍的各色熒光點形成網(wǎng)格狀，在它們之間用吸光層13分離。熒光點的配置方法可以采用各種方法。
在熒光屏12上形成金屬背層14。金屬背層14由Al膜等導(dǎo)電性薄膜構(gòu)成，將熒光層12發(fā)出的光中向具有電子發(fā)射源的后板20方向前進的光進行反射，使輝度提高。另外，金屬背層14使面板10的圖像顯示區(qū)具有導(dǎo)電性，可防止電荷集聚，相對于后板20的電子發(fā)射源起到陽極電極的作用。再有，金屬背層14還具有防止真空容器(外殼)內(nèi)殘留氣體因電子發(fā)射源發(fā)射的電子束電離而生成的離子損傷熒光層12等的功能。
在玻璃基板11上形成熒光層12及吸光層13的方法，可以采用涂漿法或印刷法等。然后，在玻璃基板11上分別形成熒光層12及吸光層13后，再在其上用蒸鍍法或濺射法等形成由Al膜等構(gòu)成的導(dǎo)電性薄膜，作為金屬背層14。Al膜的厚度也取決于陽極電壓等，但最好在2500nm以下。
后板20在玻璃基板或陶瓷基板等絕緣性基板或硅(Si)基板等基板21上具有大量電子發(fā)射元件22，這些電子發(fā)射元件22具有例如場致發(fā)射型冷陰極(發(fā)射體)或表面?zhèn)鲗?dǎo)型電子發(fā)射元件等。在后板20的形成電子發(fā)射元件22的表面上進行布線(未圖示)。即大量的電子發(fā)射元件22與各像素的熒光體對應(yīng)，形成矩陣狀，并形成對該矩陣狀電子發(fā)射元件22每一行進行驅(qū)動的互相交叉的布線(X-Y布線)。
支承框是對面板10與后板20之間的空間進行氣密封接用的構(gòu)件。支承框30相對于面板10及后板20采用熔結(jié)玻璃、銦(In)或其合金等進行封接，通過它們構(gòu)成作為外殼的真空容器。另外，在支承框30上設(shè)置圖示省略的信號輸入端及行選擇端。這些端子與后板20的交叉布線(X-Y布線)相對應(yīng)。
另外，在平面型圖像顯示裝置是大型顯示裝置等情況下，由于本裝置是薄的平板狀，因此為了不產(chǎn)生撓曲等，另外為了增加抗氣壓的強度，還可以例如圖1B所示，按照所希望的強度，適當配置增強板(大氣壓支承構(gòu)件)15。
分別準備了上述的面板10、后板20及支承框30后，在維持真空氣氛狀態(tài)下實施利用電子束照射的基板清洗、吸氣劑膜的蒸鍍形成及作為外殼的直空容器形成(支承框30、面板10及后板20的封接)等工序。在該一連串工序中，采用例如圖2所示的真空處理裝置40。
圖2所示的真空處理裝置40具有面板10的進料室41、烘烤及電子束清洗室42、冷卻室43、吸氣劑膜蒸鍍室44、后板20及支承框30的進料室45、烘烤及電子束清洗室46、冷卻室47、面板10與后板20的組裝室48、將支承框30對面板10進行封接的熱處理室49、冷卻室50及卸料室51。
上述各處理室(處理容器)形成能夠在真空氣氛中進行處理的真空處理室，在圖像顯示裝置制造時，對整個室進行真空排氣。這時的真空度，比較理想的例如在1×10-3Torr以下，最好是在1×10-5Torr以下，各處理室之間利用閘閥連接。另外，真空處理裝置40還有將被處理物即面板10及后板20送入及取出同時在各處理室之間移動的輸送手段、以及將各處理室內(nèi)形成真空氣氛的真空排氣手段(排氣裝置等)，這在圖中已省略。
將最后形成了金屬背層14的面板10，首先放置在進料室41內(nèi)。在面板10的基板端部也可以預(yù)先形成圖3所示的凹槽31，在該凹槽31內(nèi)可配置與后述的支承框30進行氣密封接用的In或其合金等封接材料32。然后，將進料室41內(nèi)的氣氛形成真空氣氛后，將面板10送入烘烤及電子束清洗室42。
在烘烤及電子束清洗室42中，將面板10加熱至例如300～400℃的溫度，使面板10脫氣。另外，在面板10的端部凹槽31中預(yù)先配置銦或銦合金等封接材料32的情況下，在因加熱而使封接材料32熔融時，為了防止從凹槽31滴下，最好將面板10配置在烘烤及電子束清洗室42內(nèi)的下部，并將凹槽31向上。
在進行上述烘烤的同時，例如圖4所示，從設(shè)置在烘烤及電子束清洗室42上部的電子束發(fā)生裝置52，將電子束53在真空氣氛中對著面板10的熒光屏形成面照射。照射電子束53時的真空度，比較理想的是在1×10-3Torr以下，最好是在1×10-5Torr以下。電子束53利用安裝在電子束發(fā)生裝置52外部的偏轉(zhuǎn)裝置54進行偏轉(zhuǎn)掃描。這樣能夠?qū)γ姘?0的整個表面照射電子束進行清洗。
另外，電子束發(fā)生裝置52的數(shù)量、形狀及電子束發(fā)生方式等，不限于圖4所示的裝置。例如，如圖5所示，也可以設(shè)置多個(圖5中為2個)電子束發(fā)生裝置52，由這多個電子束發(fā)生裝置52交替或同時照射電子束53。另外，如圖6所示，也可以使用產(chǎn)生平行電子束55的平面型電子束發(fā)生裝置56。
進行了加熱及電子束清洗的面板10，接著送入冷卻室43，冷卻至例如100℃以下的溫度(例如80～100℃)。接著，將冷卻的面板10送入吸氣劑膜蒸鍍室44。在該蒸鍍室44中，例如在熒光層12的外側(cè)蒸鍍形成活性鋇(Ba)膜(省略圖示)作為吸氣劑膜。然后，將面板10送入組裝室48。
另一方面，在基板上形成電子發(fā)射源的后板20及支承框30，由于其工序簡單，因此在放入進料室45內(nèi)之前，最好固定成一體。然后，將進料室45的氣氛形成真空氣氛后，后板20及支承框30(或它們固定一體化的組件)從該進料室45送入烘烤及電子束清洗室46。
在烘烤及電子束清洗室46中，與上述面板10的情況相同，將后板20及支承框30加熱至300～400℃的溫度，使后板20脫氣。在進行該烘烤的同時，從安裝在烘烤及電子束清洗室46上部的電子束發(fā)生裝置、例如圖4至圖6所示的電子束發(fā)生裝置52及56，照射電子束。電子束利用例如安裝在電子束發(fā)生裝置52及56外部的偏轉(zhuǎn)裝置54進行偏轉(zhuǎn)掃描，這樣對后板20的整個表面進行電子束清洗。
接著，將進行了烘烤及電子束清洗的后板20及支承框30送入冷卻室47，冷卻至例如100℃以下的溫度(例如80～100℃)。然后，將冷卻的后板及支承框30與上述面板10相同，送入組裝室48。
在組裝室48中，進行面板10、后板20及支承框30的組裝(位置對準)。在組裝時，在面板10與后板20之間，根據(jù)需要配置增強板。
接著，將處于組裝狀態(tài)的組件送入熱處理室49。在該熱處理室49中，在真空氣氛中并以與使用的封接材料32相應(yīng)的溫度進行熱處理，將面板10與后板20隔著支承框30進行壓力封接。另外，根據(jù)需要，在事前對電子發(fā)射源進行活化處理等。一直到封接的各工序，由于都在真空氣氛中進行，因此在蒸鍍室形成的吸氣劑膜(Ba膜)，能夠防止表面被氧或碳等污染，維持活性狀態(tài)。
在使用銦或其合金作為封接材料32時，加熱至100℃左右進行封接。在封接并加壓時，為了能夠更可靠地封接，最好對封接部分或其附近加上超聲波。另外，在面板10的端部凹槽31預(yù)先配置銦或銦合金那樣的封接材料32時，在封接時因加熱而使銦或其合金32熔融，為了防止從凹槽31滴下，最好將面板10配置在熱處理室49內(nèi)的下部，并將凹槽31向上，而將固定了支承框30的后板20配置在面板的上部進行封接。
一般來說，銦或其合金的封接強度不太夠，但本發(fā)明的平面型圖像顯示裝置，由于面板10與后板20的間隙保持真空，因此即使僅使用銦或其合金作為封接材料32，但利用所加的大氣壓，也能夠得到足夠的封接強度。為了更進一步提高封接部分的強度，也可以用環(huán)氧樹脂等來增強封接部分。
這樣，利用面板10、后板20及支承框30形成作為外殼的真空容器。即通過在面板10與后板20之間的空間部分利用支承框30進行氣密封接，制成圖1B所示的平面型圖像顯示裝置60。然后，平面型圖像顯示裝置60在冷卻室50冷卻至室溫，再從卸料室51取出。
另外，平面型圖像顯示裝置60制造所用的真空處理裝置40也可以是將從進料室41至卸料室51的各構(gòu)成組合而成的裝置，若能夠維持內(nèi)部的真空氣氛，則其構(gòu)成沒有特別限定。另外，在上述實施形態(tài)中，是分別獨立對面板10及后板20進行電子束清洗，但也可以采用這樣的結(jié)構(gòu)，即利用夾具使兩者離開并保持規(guī)定間隔，然后同時進行電子束清洗。
根據(jù)利用上述制造方法及制造設(shè)備得到的平面型圖像顯示裝置60，能夠在初始狀態(tài)達到為得到足夠的電子發(fā)射性能而要求的10-7～10-8Torr的高真空狀態(tài)，且重復(fù)性很好。這是由于，前述各工序是在真空氣氛中進行，同時利用電子束對面板10及后板20的整個表面無死角地進行清洗，使表面吸附的氣體完全放出。即平面型圖像顯示裝置60在工作時由于幾乎不產(chǎn)生氣體，因此能夠長時間得到良好的發(fā)光特性。
另外，在上述本發(fā)明的平面型圖像顯示裝置60制造工序中，由于在真空氣氛中進行氣密封接工序，因此不需要像以往的平面型圖像顯示裝置在制造中那樣，制造后要對裝置內(nèi)進行排氣的工序。所以，不需要以往裝置中必須的排氣用結(jié)構(gòu)(例如排氣用細管等)及排氣裝置。另外，由于不要這樣的排氣用細管，因此排氣流導(dǎo)大，平面型圖像顯示裝置的排氣效率非常好。
上述的平面型圖像顯示裝置60可用于例如根據(jù)NTSC制的電視信號進行顯示的電視機顯示屏幕等。這時，省略圖示的信號輸入端及行選擇端再加高壓端，與外部電路連接。另外，在使用具有導(dǎo)電性的銦或銦合金作為封接材料32時，也可以使用封接材料32作為連接端。
各端子加上對平面型圖像顯示裝置60設(shè)置的電子發(fā)射源即按照M行N列的行列狀進行矩陣布線的電子發(fā)射元件22每一行依次驅(qū)動用的掃描信號，還加上對所選擇的一行電子發(fā)射元件22的輸出電子束進行控制用的調(diào)制信號。在高壓端上加上加速電壓，用來使電子發(fā)射元件22發(fā)射的電子束具有足夠能量，以便激勵熒光體發(fā)光。
在這樣構(gòu)成的平面型圖像顯示裝置60中，通過端子對各電子發(fā)射元件22加上電壓，使其產(chǎn)生電子發(fā)射。另外，通過高壓端對金屬背層14加上高壓，將電子束加速。加速的電子束撞擊熒光層12，產(chǎn)生發(fā)光，從而顯示圖像。
根據(jù)本發(fā)明得到的平面型圖像顯示裝置，可以用作為例如電視接收機或計算機終端的顯示裝置等各種圖像顯示裝置。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性如上所述，根據(jù)本發(fā)明的平面型圖像顯示裝置制造方法及制造設(shè)備，由于對面板及后板的整個表面無死角地進行電子束清洗，因此能夠使表面吸附氣體完全放出。因而，能夠長時間維持平面型圖像裝置內(nèi)部處于高真空狀態(tài)。
權(quán)利要求
1.一種平面型圖像顯示裝置的制造方法，包含將具有電子發(fā)射元件的基板與具有熒光屏的面板進行封接使在所述電子發(fā)射元件與所述熒光屏之間保持間隙相對配置的工序；其特征在于，還具有在真空氣氛中對所述基板及所述面板的至少一方照射電子的工序。
2.如權(quán)利要求1所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述電子照射工序中，將所述基板及所述面板的至少一方裝在處理容器內(nèi)，從該處理容器內(nèi)設(shè)置的電子源對所述基板及所述面板的至少一方照射所述電子。
3.如權(quán)利要求2所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述電子照射工序中，從所述處理容器內(nèi)設(shè)置的多個所述電子源，交替或同時照射所述電子。
4.如權(quán)利要求2所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述電子照射工序中，一面將從所述電子源射出的所述電子進行偏轉(zhuǎn)，一面進行照射。
5.如權(quán)利要求2所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述電子照射工序中，照射平板型的所述電子源射出的電子。
6.如權(quán)利要求1所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述電子照射工序中，在保持10-3Torr以下真空度的真空氣氛中照射所述電子。
7.如權(quán)利要求1所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述電子照射工序中，一面對所述基板及所述面板的至少一方進行加熱，一面照射所述電子。
8.如權(quán)利要求7所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述電子照射工序中，將所述基板及所述面板的至少一方加熱至200～400℃的溫度。
9.如權(quán)利要求7所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，照射所述電子后，將被照射物冷卻至100℃以下的溫度。
10.如權(quán)利要求1所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，照射所述電子后，將所述基板及所述面板隔著支承框在真空氣氛中封接。
11.如權(quán)利要求10所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述支承框在所述照射工序中被所述電子照射。
12.如權(quán)利要求1所述的平面型圖像顯示裝置的制造方法，其特征在于，對所述基板及所述面板在同一處理容器內(nèi)進行所述電子照射。
13.一種平面型圖像顯示裝置的制造設(shè)備，所述平面型圖像顯示裝置是將具有電子發(fā)射元件的基板與具有熒光屏的面板進行封接使在所述電子發(fā)射元件與所述熒光屏之間保持間隙相對配置而成，其特征在于，所述平面型圖像顯示裝置的制造設(shè)備具有裝有所述基板及所述面板的至少一方的處理容器、將所述基板及所述面板的至少一方送入所述處理容器內(nèi)或從中取出的輸送手段、使所述處理容器內(nèi)達到真空氣氛的真空排氣手段、在裝在所述處理容器內(nèi)的所述基板及所述面板的至少一方照明電子束的電子束照射手段、以及將至少一方照射了所述電子束的所述基板及所述面板一面保持間隙一面封接的封接手段。
14.如權(quán)利要求13所述的平面型圖像顯示裝置的制造設(shè)備，其特征在于，還具有對裝在所述處理容器內(nèi)的所述基板及所述面板的至少一方進行加熱的手段。
全文摘要
一種平面型圖像顯示裝置的制造方法包含將具有電子發(fā)射元件的后板與具有熒光屏的面板保持規(guī)定間隙相對配置并封接的工序。將后板(20)及面板(10)的至少一方裝在電子束清洗室(42,46)內(nèi),從電子束清洗室(42,46)內(nèi)設(shè)置的電子束發(fā)生裝置(52)在真空氣氛中對后板(20)及面板(10)照射電子束(53),使表面吸附氣體充分放出。這樣,通過使顯示裝置內(nèi)部的表面吸附氣體充分放出,能夠維持作為外殼的真空容器內(nèi)部為高真空狀態(tài)。
文檔編號H01J31/12GK1349654SQ00806922
公開日2002年5月15日 申請日期2000年4月24日 優(yōu)先權(quán)日1999年4月28日
發(fā)明者榎本貴志, 西村孝司 申請人:東芝株式會社