掩模板定位裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種掩模板定位裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體制程過程中，為了將所設(shè)計的電路轉(zhuǎn)換成器件，必須要將圖案形成在掩模板上，之后通過光刻工藝將之形成在芯片上。對于一些電路圖較細(xì)微的設(shè)計而言，必須要提高掩模板上的分辨率，從而使得圖案能夠準(zhǔn)確無誤的轉(zhuǎn)移到芯片上，才能夠方便后續(xù)制程工藝順利的進(jìn)行。
[0003]在45nm、28nm、甚至20nm以下的掩模板制造中，隨著關(guān)鍵尺寸(CD)越來越小，規(guī)格也是越來越緊，對工藝的要求也越來越高，這就要求業(yè)內(nèi)在生產(chǎn)加工時必須從空白掩模板，曝光，顯影，蝕刻以及清洗等各個步驟都要嚴(yán)格控制。
[0004]但是在實際制造過程中，還是會發(fā)現(xiàn)關(guān)鍵尺寸的均勻性，平均值甚至線性等關(guān)鍵尺寸的表現(xiàn)偶爾會超出規(guī)格導(dǎo)致報廢，尤其是在28nm以下的掩模板制造過程中，這種問題發(fā)生的更加頻繁，導(dǎo)致良率偏低。
[0005]目前，業(yè)界的認(rèn)知是導(dǎo)致上述問題經(jīng)常發(fā)生的主要原因是原物料，工藝參數(shù)，以及設(shè)計圖形這些較為常見的因素，然而在盡可能解決原物料、工藝參數(shù)以及設(shè)計圖形等這些因素的情況下，關(guān)鍵尺寸的表現(xiàn)偶爾超出規(guī)格的情況還是會發(fā)生。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]本實用新型的目的在于提供一種掩模板定位裝置，更好的控制掩模板的良率。
[0007]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供一種掩模板定位裝置，包括在一腔體中設(shè)置的掩模定位板，一掩模板置于所述掩模定位板上，在所述腔體外設(shè)置有檢測掩模板位置的探測器，所述探測器還連接至一腔體控制器。
[0008]可選的，對于所述的掩模板定位裝置，所述掩模板為矩形，具有外圍區(qū)，所述外圍區(qū)中設(shè)置有至少三個透光區(qū)。
[0009]可選的，對于所述的掩模板定位裝置，所述透光區(qū)為方形，邊長為4mm-6mm。
[0010]可選的，對于所述的掩模板定位裝置，所述探測器的數(shù)量至少為3個。
[0011]可選的，對于所述的掩模板定位裝置，至少三個透光區(qū)分別對應(yīng)一個探測器，且所述探測器位于所對應(yīng)的透光區(qū)的正上方。
[0012]可選的，對于所述的掩模板定位裝置，所述至少3個探測器發(fā)出的光斑分別投射在所對應(yīng)的透光區(qū)，所述光斑距離透光區(qū)四邊的最小距離皆為2mm。
[0013]可選的，對于所述的掩模板定位裝置，所述至少3個探測器發(fā)出的光斑分別投射在所對應(yīng)的透光區(qū)，所述光斑距離透光區(qū)四邊的最小距離皆為1mm。
[0014]可選的，對于所述的掩模板定位裝置，所述掩模板定位裝置還包括顯示屏，所述顯示屏與所屬探測器相連接。
[0015]可選的，對于所述的掩模板定位裝置，述腔體包括透明玻璃窗口，所述探測器設(shè)置于所屬透明玻璃窗口上。
[0016]本實用新型提供的掩模板定位裝置，包括腔體，所述腔體中設(shè)置有掩模定位板，一掩模板置于所述掩模定位板上，所述掩模板中設(shè)置有透光區(qū)，在所述腔體外設(shè)置有探測所述透光區(qū)來檢測掩模板位置的探測器。利用上述掩模板定位裝置，通過探測器對掩模板進(jìn)行探測，通過反饋的信號能夠獲悉掩模版的位置是否正確，當(dāng)探測到的掩模板位置異常時，便于技術(shù)人員進(jìn)行排障，從而避免了由于掩模板位置異常所帶來的良率問題，也就提升了掩模板的良率。
【附圖說明】
[0017]圖1為常見的掩模板正確放置時的示意圖；
[0018]圖2為掩模板放置異常時的一種示意圖；
[0019]圖3為本實用新型的掩模板定位裝置的示意圖；
[0020]圖4為本實用新型中掩模板的示意圖；
[0021]圖5為本實用新型中對掩模板進(jìn)行探測時的光斑分布示意圖。
【具體實施方式】
[0022]下面將結(jié)合示意圖對本實用新型的掩模板定位裝置進(jìn)行更詳細(xì)的描述，其中表示了本實用新型的優(yōu)選實施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本實用新型，而仍然實現(xiàn)本實用新型的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當(dāng)被理解為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對本實用新型的限制。
[0023]在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本實用新型。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書，本實用新型的優(yōu)點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。
[0024]發(fā)明人經(jīng)過長期大量的實驗分析發(fā)現(xiàn)，請參考圖1，正常情況下，掩模板I在腔體(例如電漿反應(yīng)腔體)中的存放位置是居于掩模定位板2的正中，即掩模板I的四周掩模定位板2都有著間隙3。但是，由于在實際加工中的各種因素，例如機(jī)械手臂精度異常、掩模定位板2的異常、技術(shù)人員偏差矯正等因素，會導(dǎo)致掩模板I的位置發(fā)生偏移，例如如2所示，掩模板I完全貼靠在掩模定位板2的右邊，經(jīng)過實驗發(fā)現(xiàn)，這會使得掩模板I在加工時表現(xiàn)出關(guān)鍵尺寸相關(guān)參數(shù)異常，尤其是在干法刻蝕過程中，將產(chǎn)生嚴(yán)重影響，乃至報廢。
[0025]但是這一由于掩模板I位置異常而引起的關(guān)鍵尺寸異常，目前并不能夠很好的解決:一方面技術(shù)人員對這一位置異常進(jìn)行處理時需要打開腔體做大量重復(fù)性實驗，耗時較長。另一方面，技術(shù)人員所做調(diào)整也不能夠直觀展現(xiàn)出來，即可靠性差，依然存在著掩模板品質(zhì)下降乃至報廢的風(fēng)險。
[0026]基于此，本實用新型提供一種掩模板定位裝置，請參考圖3，包括在一腔體10中設(shè)置的掩模定位板13，一掩模板12置于所述掩模定位板13上，在所述腔體10外設(shè)置有探測所述掩模板12位置的探測器11，所述探測器11還連接至一腔體控制器(未圖示)，當(dāng)探測器探測的信號異常時，通過傳遞至腔體控制器，停止當(dāng)前工藝。
[0027]進(jìn)一步的，所述探測器11通過信號線連接至顯示屏14，將探測到的信號顯示出，便于進(jìn)行判斷掩模板12的位置狀況。
[0028]如圖4所示，在本實用新型的優(yōu)選實施例中，所述探測器11為鐳射終點探測器(laser endpoint detector)，該探測器11發(fā)出激光后照射在掩模板12上，并獲得反射信號。在本實用新型中，使得掩模板12的外圍區(qū)122中設(shè)置有透光區(qū)123，探測器11發(fā)出的激光投射到透光區(qū)上并反射，由此獲得反射信號。由于透光區(qū)123與透光區(qū)123之外的部分在材質(zhì)和/或結(jié)構(gòu)上有著差異，因此會獲得不同的反射信號。通過分析獲得的信號的是否與基準(zhǔn)相符合，就能夠獲悉掩模板12的位置狀況。
[0029]具體的，所述所述掩模板12為矩形，具有外圍區(qū)122，所述外圍區(qū)122中設(shè)置有至少三個所述透光區(qū)123。所述透光區(qū)123優(yōu)選為方形，邊長為4mm-6mm，也可以為圓形，直徑為4_-6_，當(dāng)然，所述透光區(qū)123的形狀并不僅限于此，在所占面積相差不大的情況下，例如三角形等也都是可以的。例如，在一些掩模板中，會存在