一種像素界定結(jié)構(gòu)及制作方法、顯示面板及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種像素界定結(jié)構(gòu)及制作方法、顯示面板及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]采用溶液加工制作0LED以及QLED顯示器，由于其低成本、高產(chǎn)能、易于實現(xiàn)大尺寸等優(yōu)點(diǎn)，是未來顯示技術(shù)發(fā)展的重要方向。其中，印刷技術(shù)被認(rèn)為是實現(xiàn)0LED以及QLED低成本和大面積全彩顯示的最有效途徑。
[0003]在印刷工藝中，由于受設(shè)備精度以及液滴尺寸的影響，對于傳統(tǒng)的RGB Stripe(RGB條狀)排列的像素結(jié)構(gòu)(如圖1所示)，當(dāng)顯示器件的分辨率達(dá)到200 ppi時，各子像素的寬度會減小到了 42 μπι，同時由于像素界定層的存在，子像素的真實寬度會進(jìn)一步減小到35ym左右，而對于10 pL體積的墨水，其直徑就達(dá)27 μ m。如果再進(jìn)一步提尚分辨率，子像素尺寸會進(jìn)一步減小，就很難控制各子像素內(nèi)墨水相互獨(dú)立而不溢出像素坑，因此比較難以實現(xiàn)高分辨顯示裝置的印刷制備。
[0004]因此，需要對子像素的像素界定結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn)和優(yōu)化，使其實現(xiàn)高分辨率顯示裝置的印刷工藝制備。
[0005]因此，現(xiàn)有技術(shù)還有待于改進(jìn)和發(fā)展。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]鑒于現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明目的在于提供一種像素界定結(jié)構(gòu)及制作方法、顯示面板及顯示裝置，通過像素界定層結(jié)構(gòu)的設(shè)計，大幅擴(kuò)大印刷工藝中的墨水沉積區(qū)域，防止墨水因單個子像素面積過小引發(fā)溢出現(xiàn)象，從而實現(xiàn)高分辨率顯示器件的印刷工藝制作。
[0007]本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種像素界定結(jié)構(gòu)，其中，像素界定結(jié)構(gòu)包括第一像素界定層和位于第一像素界定層上的第二像素界定層，所述一像素界定層具有與各個子像素發(fā)光區(qū)域一一對應(yīng)的多個第一開口，所述第二像素界定層為相同顏色子像素列共用的多個第二開口。
[0008]所述的像素界定結(jié)構(gòu)，其中，所述第一像素界定層為親水性薄膜層，所述第二像素界定層為疏水材料薄膜層。
[0009]所述的像素界定結(jié)構(gòu)，其中，所述第一像素界定層的厚度為50nm~500nm，所述第二像素界定層的厚度為lOOOnm ~5000nm。
[0010]所述的像素界定結(jié)構(gòu)，其中，所述親水性薄膜層為負(fù)性光阻薄膜層，所述疏水性薄膜層為正性光阻薄膜層。
[0011]—種像素界定結(jié)構(gòu)的制作方法，其中，包括:
51、在陣列基板上生成一層親水性薄膜層，并對其進(jìn)行曝光顯影形成具有與各個子像素的發(fā)光區(qū)域一一對應(yīng)的多個開口的第一像素界定層；
52、在形成有第一像素界定層的陣列基板上生成一層疏水性薄膜層，并對其進(jìn)行曝光顯影形成具有為相同顏色子像素列共用的多個第二開口的第二像素界定層。
[0012]所述的像素界定結(jié)構(gòu)的制作方法，其中，所述步驟S1具體包括:
511、在已經(jīng)制作TFT陣列及圖案化透明陽極的陣列基板上沉積一層親水性薄膜層；
512、對親水性薄膜層進(jìn)行曝光顯影，形成與透明陽極一一對應(yīng)的開口，形成第一像素界走層。
[0013]所述的像素界定結(jié)構(gòu)的制作方法，其中，所述步驟S2之后還包括:
S3、在陣列基板上采用印刷工藝制作各色發(fā)光元件。
[0014]—種顯示面板，其中，所述顯示面板包括上面任一項所述的像素界定結(jié)構(gòu)。
[0015]所述的顯示面板，其中，所述顯示面板為0LED或QLED。
[0016]一種顯示裝置，其中，顯示裝置包括上面所述的顯示面板。
[0017]本發(fā)明提供了一種像素界定結(jié)構(gòu)及制作方法、顯示面板及顯示裝置，本發(fā)明在傳統(tǒng)的RGB Stripe在這基礎(chǔ)上，通過采用雙層像素界定層，第一層為親水材料制備，開口與各子像素的發(fā)光區(qū)域一一對應(yīng)，定義了各子像素的發(fā)光區(qū)域，第二層為疏水材料制備，相同顏色子像素列共用一個開口，此層定義了印刷工藝中的墨水沉積區(qū)域。通過這種像素結(jié)構(gòu)設(shè)計，極大的擴(kuò)大了墨水的沉積區(qū)域，使得墨水不會因單個子像素面積過小而發(fā)生溢出，最終實現(xiàn)印刷型高分辨率顯示器件的制備。
【附圖說明】
[0018]圖1為本發(fā)明的一種像素界定結(jié)構(gòu)的較佳實施例的結(jié)構(gòu)圖。
[0019]圖2為圖1所述像素界定結(jié)構(gòu)1-1處切面圖。
[0020]圖3為圖1所述像素界定結(jié)構(gòu)I1-1I處切面圖。
[0021]圖4為本發(fā)明的一種像素界定結(jié)構(gòu)的制作方法的較佳實施例的流程圖。
【具體實施方式】
[0022]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及效果更加清楚、明確，以下對本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。
[0023]本發(fā)明提供了一種像素界定結(jié)構(gòu)的較佳實施例的結(jié)構(gòu)圖，如圖1所示，圖2為圖1所述像素界定結(jié)構(gòu)1-1處切面圖，圖3為圖1所述像素界定結(jié)構(gòu)I1-1I處切面圖。其中1代表第一像素界定層，2為第二像素界定層，3為子像素，4為像素電極，5為薄膜晶體管(Thin Film Transistor，簡稱TFT)，6為基板，7為鈍化平坦層。
[0024]如圖1，圖2，圖3所示，圖中R、G、B分別對應(yīng)紅(Red)、綠(Green)、藍(lán)(Blue)子像素。本發(fā)明提供了一種像素界定結(jié)構(gòu)，其中，像素界定結(jié)構(gòu)包括第一像素界定層1和位于第一像素界定層上的第二像素界定層2，所述一像素界定層具有與各個子像素3發(fā)光區(qū)域一一對應(yīng)的多個第一開口，所述第二像素界定層為相同顏色子像素3列共用的多個第二開
□ ο
[0025]單個子像素間的用像素電極4相連，像素電極4設(shè)置在鈍化平坦層7上，鈍化平坦層7設(shè)置在基板6上，所述基板6上還設(shè)置有薄膜晶體管TFT5。
[0026]具體實施時，同種顏色的子像素列可在一起進(jìn)行印刷，從而大幅的增大了墨水的沉積區(qū)域。因此，通過這種結(jié)構(gòu)可以有效減小單個子像素的尺寸同時保證墨水不會因子像素面積過小而發(fā)生溢出，最終實現(xiàn)印刷型高分辨率顯示器件的制備。
[0027]所述第一像素界定層為親水性薄膜層，所述第二像素界定層為疏水材料薄膜層。其中的第一像素界定層為親水材料制備(親水性薄膜層)，開口與各子像素的發(fā)光區(qū)域一一對應(yīng)，第一像素界定層定義了各子像素的發(fā)光區(qū)域；第二像素界定層為疏水材料制備(疏水性薄膜層)，其中相同顏色的子像素列共用一個第二像素界定層的開口，第二像素界定層定義了印刷工藝中墨水的沉積區(qū)域，即第二像素界定層的開口區(qū)域為子像素列共用，從而大幅提尚墨水的丨幾積面積，防止墨水溢出。
[0028]進(jìn)一步地，所述第一像素界定層的厚度為50nm~500nm，所述第二像素界定層的厚度為lOOOnm ~5000nm。第一像素界定層的厚度為50nm~500nm，第二像素界定層的厚度為1000nm~5000nm。在印刷制備過程中，由于第一像素界定層為親水材料制備，因此墨水沉積到子像素區(qū)后，會沿著子像素列內(nèi)進(jìn)行鋪展，由于子像素列的面積相對于單個子像素的面積成倍增大，結(jié)合第二像素界定層的疏水性，因此墨水之后填充子像素列而不發(fā)生溢出。所以，采用本發(fā)明的結(jié)構(gòu)，可以縮小子像素的尺寸同時保持墨水在沉積區(qū)域不發(fā)生溢出，從而提尚顯不器件的分辨率。
[0029]所述親水性薄膜層為負(fù)性光阻薄膜層，所述疏水性薄膜層為正性光阻薄膜層。所述親水性薄膜層為負(fù)性光阻薄膜，所述疏水性薄膜層為正性光阻薄膜。這樣在曝光顯影時互不影響。其中正性光阻是指曝光后被光照射的部分可以被顯影液去除掉，而未曝光的光阻則不會被顯影液