物體交換方法、物體交換系統(tǒng)、曝光裝置、平面顯示器的制造方法、及組件制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是關(guān)于物體交換方法、物體交換系統(tǒng)、曝光裝置、平面顯示器的制造方法、及組件制造方法，更具體的，是關(guān)于保持于物體保持裝置中的物體的交換方法及系統(tǒng)、具備所述物體交換系統(tǒng)的曝光裝置、使用所述曝光裝置的平面顯示器及組件的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，于用以制造液晶顯示組件、半導(dǎo)體組件等電子組件的光刻工藝中使用曝光裝置，該曝光裝置是使用能量束將形成于掩膜(或標(biāo)線(xiàn)片)上的圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板(或晶圓)上°
[0003]作為此種曝光裝置，已有一種使用既定基板搬送裝置將基板載臺(tái)裝置上的曝光完畢的玻璃基板搬出后，通過(guò)使用上述基板搬送裝置將其他玻璃基板搬入基板載臺(tái)裝置上，依序交換保持于基板載臺(tái)裝置中的玻璃基板，以對(duì)多個(gè)玻璃基板連續(xù)進(jìn)行曝光處理者(參照例如專(zhuān)利文獻(xiàn)I)。
[0004]此處，在對(duì)多個(gè)玻璃基板連續(xù)進(jìn)行曝光時(shí)，為了整體產(chǎn)能的提升，最好是迅速地交換基板載臺(tái)裝置上的玻璃基板。
[0005]先前技術(shù)文獻(xiàn)
[0006]專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0007]專(zhuān)利文獻(xiàn)1:美國(guó)專(zhuān)利第6，559，928號(hào)說(shuō)明書(shū)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]用以解決課題的手段
[0009]本發(fā)明是有鑒于上述情事而完成者，從第I觀(guān)點(diǎn)來(lái)看，為一種物體交換方法，是將配置于既定的物體交換位置的物體交換成其他物體，其包含:使保持有第I物體的物體保持裝置位于所述物體交換位置的動(dòng)作；使所述第I物體懸垂支撐于設(shè)在所述物體交換位置的支撐裝置的動(dòng)作；使懸垂支撐于所述支撐裝置的所述第I物體從所述物體保持裝置離開(kāi)的動(dòng)作；將第2物體插入懸垂支撐于所述支撐裝置的所述第I物體與所述物體保持裝置之間，而將所述第2物體移交至所述物體保持裝置的動(dòng)作；以及通過(guò)在將所述第2物體移交至所述物體保持裝置后，使所述第I物體相對(duì)所述支撐裝置移動(dòng)，以將所述第I物體從所述物體交換位置搬出的動(dòng)作。
[0010]藉此，以第I物體懸垂支撐于支撐裝置的狀態(tài)將第2物體移交至物體保持裝置，其后，第I物體從物體交換裝置被搬出。亦即，由于第2物體對(duì)物體保持裝置的搬入較保持于物體保持裝置的第I物體的搬出動(dòng)作的結(jié)束還優(yōu)先進(jìn)行，因此，能迅速地進(jìn)行物體保持裝置上的物體的交換動(dòng)作。
[0011]本發(fā)明從第2觀(guān)點(diǎn)來(lái)看，為一種物體交換系統(tǒng)，是將配置于既定的物體交換位置處的物體交換成其他物體，其具備:物體保持裝置，能保持所述物體；支撐裝置，設(shè)于所述物體交換位置、能懸垂支撐所述物體；驅(qū)動(dòng)系，以保持有所述物體的所述物體保持裝置位于所述物體交換位置處且所述物體被懸垂支撐于所述支撐裝置中的狀態(tài)，以及使所述物體從所述物體保持裝置離開(kāi)；以及物體交換裝置，通過(guò)在所述物體保持裝置與所述物體離開(kāi)的狀態(tài)下，將其他物體插入該物體保持裝置與該物體之間，而將該其他物體移交至所述物體保持裝置，且通過(guò)在將所述其他物體移交至所述物體保持裝置后，使所述物體相對(duì)所述支撐裝置移動(dòng)，以將所述物體從所述物體交換位置搬出。
[0012]藉此，以物體懸垂支撐于支撐裝置的狀態(tài)將其他移交至物體保持裝置，其后物體從物體交換裝置被搬出。亦即，由于其他物體對(duì)物體保持裝置的搬入較保持于物體保持裝置的物體的搬出動(dòng)作的結(jié)束還優(yōu)先進(jìn)行，因此能迅速地進(jìn)行物體保持裝置上的物體的交換動(dòng)作。
[0013]本發(fā)明從第3觀(guān)點(diǎn)來(lái)看，為一種曝光裝置，具備:本發(fā)明的第2觀(guān)點(diǎn)的物體交換系統(tǒng)；以及使用能量束于保持于所述物體保持裝置的所述物體，形成既定圖案的圖案形成裝置。
[0014]本發(fā)明從第4觀(guān)點(diǎn)來(lái)看，為一種平面顯示器的制造方法，其包含:使用本發(fā)明的第3觀(guān)點(diǎn)的曝光裝置使所述物體曝光的動(dòng)作；以及使曝光后的所述物體顯影的動(dòng)作。
[0015]本發(fā)明從第5觀(guān)點(diǎn)來(lái)看，為一種組件制造方法，其包含:使用本發(fā)明的第3觀(guān)點(diǎn)的曝光裝置使所述物體曝光的動(dòng)作；以及使曝光后的所述物體顯影的動(dòng)作。
【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1為概略顯示第I實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的構(gòu)成的圖。
[0017]圖2為圖1所示的液晶曝光裝置(一部分省略)的俯視圖。
[0018]圖3(A)為圖2所示的液晶曝光裝置所具有的基板交換裝置的前視圖，圖3(B)為其變形例的示意圖。
[0019]圖4(A)?圖4(C)為圖1所示的液晶曝光裝置所具有的基板搬入裝置的動(dòng)作示意圖(其I?其3)。
[0020]圖5(A)?圖5(C)為第I實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的一示意圖(其I?其3)。
[0021]圖6(A)?圖6(C)為第I實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的另一示意圖(其4?其6)。
[0022]圖7(A)?圖7(C)為第I實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的再一示意圖(其7?其9)。
[0023]圖8(A)及圖8(B)為第I實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的又一示意圖(其10及其11)。
[0024]圖9為第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置的基板交換裝置的俯視圖。
[0025]圖10(A)為第2實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置的側(cè)剖面圖，圖10(B)為其變形例的示意圖。
[0026]圖11 (A)?圖11 (C)為第2實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的一示意圖(其I?其3)。
[0027]圖12(A)?圖12(C)為第2實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的另一示意圖(其4?其6)。
[0028]圖13(A)?圖13(C)為第3實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的再一示意圖(其I?其3)。
[0029]圖14(A)為第3實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的一示意圖(其4)，圖14(B)為其變形例的示意圖。
[0030]圖15 (A)?圖15 (C)為第4實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的一示意圖(其I?其3)。
[0031]圖16 (A)?圖16 (C)為第4實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的另一示意圖(其4?其6)。
[0032]圖17(A)及圖17(B)為第4實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置的基板交換動(dòng)作的再一示意圖(其7及其8)。
[0033]附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明
[0034]10液晶曝光裝置
[0035]20基板載臺(tái)裝置
[0036]26基板保持具
[0037]30基板交換裝置
[0038]36基板驅(qū)動(dòng)裝置
[0039]38空氣導(dǎo)引裝置
[0040]44吸附墊
[0041]50懸垂支撐裝置
[0042]52非接觸夾具裝置
[0043]P 基板
【具體實(shí)施方式】
[0044]《第I實(shí)施形態(tài)》
[0045]以下，使用圖1?圖8(B)說(shuō)明第I實(shí)施形態(tài)。
[0046]圖1中，概略的顯示了第I實(shí)施形態(tài)的液晶曝光裝置10的構(gòu)成。液晶曝光裝置10是以用于例如液晶顯示設(shè)備(平面顯示器)等的矩形(角型)玻璃基板P(以下單稱(chēng)為基板P)作為曝光對(duì)象物的步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置，所謂掃描儀。
[0047]液晶曝光裝置10，具有照明系12、保持掩膜M的掩膜載臺(tái)14、投影光學(xué)系16、保持于表面(圖1中為朝向+Z側(cè)的面)涂布有抗蝕劑(感應(yīng)劑)的基板P的基板載臺(tái)裝置20、基板交換裝置30、懸垂支撐裝置50、以及此等的控制系等。以下說(shuō)明中，是設(shè)曝光時(shí)使掩膜M與基板P相對(duì)投影光學(xué)系16分別被掃描的方向?yàn)閄軸方向、在水平面內(nèi)與X軸正交的方向?yàn)閅軸方向、與X軸及Y軸方向正交的方向?yàn)閆軸方向。又，將在X軸、Y軸、以及Z軸方向的位置分別設(shè)為X位置、Y位置、以及Z位置來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。
[0048]照明系12，是與例如美國(guó)專(zhuān)利第5，729，331號(hào)說(shuō)明書(shū)等所揭示的照明系同樣的構(gòu)成。亦即，照明系12是將從未圖示的光源(例如水銀燈)射出的光，分別經(jīng)由未圖示的反射鏡、分光鏡(dichroic mirror)、遮簾、波長(zhǎng)選擇濾波器、各種透鏡等，作為曝光用照明光(照明光)IL照射于掩膜M。照明光IL，是使用例如i線(xiàn)(波長(zhǎng)365nm)、g線(xiàn)(波長(zhǎng)436nm)、h線(xiàn)(波長(zhǎng)405nm)等的光(或上述i線(xiàn)、g線(xiàn)、h線(xiàn)的合成光)。
[0049]掩膜載臺(tái)14，例如以真空吸附方式吸附保持有其掩膜M。掩膜載臺(tái)14通過(guò)例如包含線(xiàn)性馬達(dá)的掩膜載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系(未圖標(biāo))以既定長(zhǎng)行程驅(qū)動(dòng)于掃描方向(X軸方向)。掩膜載臺(tái)14于XY平面內(nèi)的位置信息是通過(guò)包含未圖標(biāo)的激光干涉儀的掩膜干涉儀系統(tǒng)求出。
[0050]投影光學(xué)系16配置在掩膜載臺(tái)14的下方。投影光學(xué)系16具有與例如美國(guó)專(zhuān)利第6，552，775號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示的投影光學(xué)系相同的構(gòu)成、所謂多透鏡的投影光學(xué)系，具備例如以?xún)蓚?cè)遠(yuǎn)心的等倍系形成正立正像的多個(gè)投影光學(xué)系。
[0051]液晶曝光裝置10，當(dāng)以來(lái)自照明系12的照明光IL照明掩膜M上的照明區(qū)域時(shí)，即通過(guò)掩膜M的照明光IL，透過(guò)投影光學(xué)系16將該照明區(qū)域內(nèi)的掩膜M的電路圖案的投影像(部分正立像)，形成于與基板P上的照明區(qū)域共軛的照明光IL的照射區(qū)域(曝光區(qū)域)。并通過(guò)相對(duì)照明區(qū)域(照明光IL)使掩膜M移動(dòng)于掃描方向且相對(duì)曝光區(qū)域(照明光IL)使基板P移動(dòng)于掃描方向，據(jù)以進(jìn)行基板P上一個(gè)照射區(qū)域的掃描曝光，于該照射區(qū)域轉(zhuǎn)印形成于掩膜M的圖案。
[0052]基板載臺(tái)裝置20具備XY粗動(dòng)載臺(tái)22、微動(dòng)載臺(tái)24、以及基板保持具26。
[0053]XY粗動(dòng)載臺(tái)22是用以將基板保持具26以既定的長(zhǎng)行程驅(qū)動(dòng)于X軸方向及Y軸方向的裝置。作為XY粗動(dòng)載臺(tái)22，能使用例如美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)第2010/0018950號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示，將能以既定的長(zhǎng)行程移動(dòng)于X軸方向的X粗動(dòng)載臺(tái)與能以既定的長(zhǎng)行程移動(dòng)于Y軸方向的Y粗動(dòng)載臺(tái)組合而成的所謂門(mén)型(gantry)的雙軸載臺(tái)裝置(X、Y粗動(dòng)載臺(tái)的圖示省略)。微動(dòng)載臺(tái)24配置于XY粗動(dòng)載臺(tái)22的上方，透過(guò)例如美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)第2010/0018950號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示的重量消除裝置28載置于固定座18上。固定座18由俯視矩形的板狀構(gòu)件構(gòu)成，透過(guò)防振裝置19設(shè)置于地11上。
[0054]基板保持具26由俯視矩形的板狀構(gòu)件(或高度低的長(zhǎng)方體狀)構(gòu)成，一體固定于微動(dòng)載臺(tái)24的上面。基板保持具26通過(guò)被上述XY粗動(dòng)載臺(tái)22誘導(dǎo)而相對(duì)投影光學(xué)系16(照明光IL)以既定的長(zhǎng)行程移動(dòng)于X軸方向及/或Y軸方向。基板保持具26(亦即基板P)的XY平面內(nèi)的位置信息，是通過(guò)包含未圖標(biāo)的激光干涉儀的基板干涉儀系統(tǒng)求出。此夕卜，XY粗動(dòng)載臺(tái)22的構(gòu)成只要至少能將基板P以既定的長(zhǎng)行程驅(qū)動(dòng)于掃描方向，則不特別限定。
[0055]于基板保持具26的上面(朝向+Z側(cè)的面)形成有多個(gè)未圖示的微小孔部。于基板保持具26可選擇地連接有設(shè)置在基板載臺(tái)裝置20外部的真空吸引裝置、以及加壓氣體供應(yīng)裝置(均未圖示)。基板保持具26能通過(guò)從上述真空吸引裝置透過(guò)上述多個(gè)孔部供應(yīng)的真空吸引力吸附保持載置于其上面的基板P，以及能通過(guò)從上述加壓氣體供應(yīng)裝置透過(guò)上述多個(gè)孔部(或其他孔部)供應(yīng)的加壓氣體懸浮支撐(非接觸支撐)載置于其上面的基板P。
[0056]如圖2所示，基板保持具26在X軸及Y軸方向各自的尺寸，設(shè)定為較基板P在X軸及Y軸方向各自的尺寸短些許，在于基板保持具26上載置有基板P的狀態(tài)下，基板P的端部從基板保持具26的端部超出些許。此是因有抗蝕劑附著于基板P的背面的可能性，而為了使該抗蝕劑不附著于基板保持具26的原故。
[0057]如圖2所示，于基板保持具26的-Y側(cè)，于Y軸方向以既定間隔配置有一對(duì)Y按壓銷(xiāo)裝置25y。Y按壓銷(xiāo)裝置25y具有固定于基板保持具26 (亦可是微動(dòng)載臺(tái)24或XY粗動(dòng)載臺(tái)22(均參照?qǐng)D1))的底座25a、能相對(duì)該底座25a以既定(例如10?10mm程度)行程移動(dòng)于Y軸方向的銷(xiāo)25b、以及用以驅(qū)動(dòng)銷(xiāo)25b的未圖示的致動(dòng)器。銷(xiāo)25b的前端部(+Z側(cè)的端部)較基板保持具26的上面往+Z側(cè)突出。又，于基板保持具26的+Y側(cè)，于X軸方向以既定間隔(相對(duì)一對(duì)Y按壓銷(xiāo)裝置25y隔著基板保持具26于紙面上下對(duì)稱(chēng))配置有一對(duì)Y定位銷(xiāo)裝置27y。Y定位銷(xiāo)裝置27y