熱轉(zhuǎn)移膜及使用其制備的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種熱轉(zhuǎn)移膜及使用其制備的有機(jī)電致發(fā)光裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 熱轉(zhuǎn)移膜可在圖案形成后使用作為供體膜（donor film)。所述熱轉(zhuǎn)移膜包括光熱 轉(zhuǎn)換層，其是堆疊在基礎(chǔ)膜上。包含有機(jī)電致發(fā)光材料及其類似物的轉(zhuǎn)移層是堆疊在所述 光熱轉(zhuǎn)換層上。當(dāng)所述光熱轉(zhuǎn)換層是以在吸收波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光照射時(shí)，所述轉(zhuǎn)移層可通過 所述光熱轉(zhuǎn)換層轉(zhuǎn)移。為了經(jīng)由光誘導(dǎo)來(lái)熱轉(zhuǎn)移，所述光熱轉(zhuǎn)換層必需維持特定的光學(xué)密 度且具有外部均勻的涂層用以均勻地轉(zhuǎn)移。
[0003] 此外，可在所述光熱轉(zhuǎn)換層與轉(zhuǎn)移層間形成中間層。所述中間層的表面粗糙度可 以是減少轉(zhuǎn)移層的轉(zhuǎn)移失敗的重要因素。
[0004] 通常來(lái)說(shuō)，所述熱轉(zhuǎn)移膜的基礎(chǔ)膜具有涂布層。為了對(duì)所述基礎(chǔ)膜賦予涂布能力， 所述基礎(chǔ)膜的表面可以由聚合物材料諸如聚胺基甲酸酯、聚酯及其類似物所形成的底材 (通常為顆粒）處理。
[0005] 通常來(lái)說(shuō)，所述熱轉(zhuǎn)移膜可通過讓所述熱轉(zhuǎn)移膜繞著滾筒卷繞的方法制備成產(chǎn) 物。圖3顯示出（A)二片熱轉(zhuǎn)移膜的堆疊、及（B)由所述堆疊（A)分離出來(lái)的熱轉(zhuǎn)移膜，其 是在制備所述熱轉(zhuǎn)移膜（1)的程序中在繞著滾筒（2)卷繞熱轉(zhuǎn)移膜之后而分離。參照?qǐng)D3， (A)堆疊是通過繞著滾筒（2)卷繞所述熱轉(zhuǎn)移膜（1)而制備，其中所述第一熱轉(zhuǎn)移膜包括基 礎(chǔ)膜（10)其上形成有底材（13)、光熱轉(zhuǎn)換層（11)及中間層（12);所述第二熱轉(zhuǎn)移膜包括 基礎(chǔ)膜（20)其上形成有底材（23)、光熱轉(zhuǎn)換層（21)及中間層（22)。在此，通過所述滾筒 的卷繞壓力，在所述第一熱膜的中間層（12)上因所述第二熱轉(zhuǎn)移膜的所述基礎(chǔ)膜（20)的 底材（23)而形成具有底材形狀的凹陷（14)。
[0006] 所述凹陷（14)會(huì)對(duì)所述中間層提供不好的表面粗糙度，進(jìn)而造成所述轉(zhuǎn)移層轉(zhuǎn) 移失敗。雖然在圖3中示出所述熱轉(zhuǎn)移膜是包括基礎(chǔ)膜、光熱轉(zhuǎn)換層及中間層，但包括基礎(chǔ) 膜及光熱轉(zhuǎn)換層的熱轉(zhuǎn)移膜也可遭受所述凹陷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 技術(shù)問題
[0008] 本發(fā)明的一個(gè)態(tài)樣是提供一種熱轉(zhuǎn)移膜，所述熱轉(zhuǎn)移膜防止在繞著滾筒卷繞所述 熱轉(zhuǎn)移膜期間由于基礎(chǔ)膜的底材在光熱轉(zhuǎn)換層或中間層上形成凹陷，藉此防止轉(zhuǎn)移失敗。
[0009] 本發(fā)明的另一個(gè)態(tài)樣是提供一種使用所述熱轉(zhuǎn)移膜作為供體膜（donor film)制 備的有機(jī)電致發(fā)光裝置。
[0010] 技術(shù)方案
[0011] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)態(tài)樣，一種熱轉(zhuǎn)移膜可包括：基礎(chǔ)膜；及在所述基礎(chǔ)膜上形成 的最外層，其中所述最外層的彈性模數(shù)（elastic modulus)對(duì)所述基礎(chǔ)膜的彈性模數(shù)的比 率在25°C及45 %相對(duì)濕度下是約1或更大。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)態(tài)樣，可使用所述熱轉(zhuǎn)移膜作為用于雷射轉(zhuǎn)移的供體膜來(lái)制 備有機(jī)電致發(fā)光裝置。
[0013] 有利效果
[0014] 本發(fā)明提供一種熱轉(zhuǎn)移膜，所述熱轉(zhuǎn)移膜防止在繞著滾筒卷繞所述熱轉(zhuǎn)移膜期間 由于基礎(chǔ)膜的底材在光熱轉(zhuǎn)換層或中間層上形成凹陷，藉此防止轉(zhuǎn)移失敗。
【附圖說(shuō)明】
[0015] 圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的熱轉(zhuǎn)移膜的截面圖。
[0016] 圖2是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例的熱轉(zhuǎn)移膜的截面圖。
[0017] 圖3顯示出在繞著滾筒卷繞所述熱轉(zhuǎn)移膜期間，所述熱轉(zhuǎn)移膜由于基礎(chǔ)膜的底材 而具有凹陷。
[0018] 圖4是用以確認(rèn)由于底材的凹陷的一個(gè)實(shí)例的樣品的截面圖。
[0019] 圖5是用以確認(rèn)由于底材的凹陷的另一個(gè)實(shí)例的樣品的截面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020] 現(xiàn)在，將參照附圖詳細(xì)地描述本發(fā)明的具體實(shí)例。應(yīng)該要了解的是，本發(fā)明不限于 下列具體實(shí)例及可以不同方式具體化，及提供所述等具體實(shí)例以提供熟習(xí)所述項(xiàng)技術(shù)者完 全了解本發(fā)明。為了清楚起見，將省略不相關(guān)構(gòu)件的描述。遍及本專利說(shuō)明書，類似構(gòu)件將 由類似的參考數(shù)字指示出。
[0021] 如于本文中所使用，用語(yǔ)諸如"上邊"及"下邊"是參照附圖而定義。因此，將要了 解的是，用語(yǔ)"上邊"可互換地使用為用語(yǔ)"下邊"，用語(yǔ)"下邊"可互換地使用為用語(yǔ)"上邊"。 將要了解的是，當(dāng)元件諸如層、膜、區(qū)域或基材是指為放置"在（on)"另一個(gè)元件"上（on)" 時(shí)，其可直接放置在其它元件上，或也可存在插入層。另一方面，當(dāng)元件是指為"直接放置在 (directly on)"另一個(gè)元件"上"時(shí)，其不存在有插入層。用語(yǔ)"（甲基）丙烯酸酯"可指 為丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。
[0022] 如于本文中所使用，用語(yǔ)"模數(shù)"指為彈性模數(shù)（elastic modulus)，及可在25°C 及45%相對(duì)濕度下，各別在基礎(chǔ)膜、光熱轉(zhuǎn)換層或中間層的表面上測(cè)量。對(duì)模數(shù)的測(cè)量來(lái) 說(shuō)，可參照下列實(shí)施例。
[0023] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)態(tài)樣，熱轉(zhuǎn)移膜可通過調(diào)整所述光熱轉(zhuǎn)換層或中間層對(duì)基礎(chǔ)膜 的模數(shù)，來(lái)防止在繞著滾筒卷繞所述熱轉(zhuǎn)移膜期間由于基礎(chǔ)膜的底材在光熱轉(zhuǎn)換層或中間 層上形成凹陷。結(jié)果，所述熱轉(zhuǎn)移膜可維持上面將堆疊轉(zhuǎn)移層的光熱轉(zhuǎn)換層或中間層具有 低表面粗糙度，因此防止轉(zhuǎn)移失敗。
[0024] 所述熱轉(zhuǎn)移膜可包括：基礎(chǔ)膜；及在所述基礎(chǔ)膜上形成的最外層，其中所述熱轉(zhuǎn) 移膜可在25°C及45%相對(duì)濕度下具有最外層的彈性模數(shù)（elastic modulus)對(duì)基礎(chǔ)膜的 彈性模數(shù)的比率（即，最外層的彈性模數(shù)/基礎(chǔ)膜的彈性模數(shù)）是約1或更大。若所述比 率是小于1時(shí)，所述光熱轉(zhuǎn)換層或中間層可在繞著滾筒卷繞所述熱轉(zhuǎn)移膜期間遭遇到由于 基礎(chǔ)膜的底材而形成凹陷，及可由于所述上面將堆疊轉(zhuǎn)移層的光熱轉(zhuǎn)換層或中間層之差的 表面粗糙度而有轉(zhuǎn)移失敗。
[0025] 在此之后，將參照?qǐng)D1詳細(xì)地描述根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的熱轉(zhuǎn)移膜。圖1是 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的熱轉(zhuǎn)移膜的截面圖。
[0026] 參照?qǐng)D1，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的熱轉(zhuǎn)移膜（100)可包括：基礎(chǔ)膜（110);及 在所述基礎(chǔ)膜（110)上的光熱轉(zhuǎn)換層（120)，其中所述光熱轉(zhuǎn)換層（120)是作為所述熱轉(zhuǎn)移 膜（100)的最外層，及所述光熱轉(zhuǎn)換層的彈性模數(shù)對(duì)所述基礎(chǔ)膜（110)的彈性模數(shù)的比率 是約1或更大。所述光熱轉(zhuǎn)換層具有比所述基礎(chǔ)膜高的模數(shù)，因此可防止由于滾筒的卷繞 壓力甚至當(dāng)所述熱轉(zhuǎn)移膜是繞著滾筒卷繞時(shí)由所述基礎(chǔ)膜的底材形成凹陷。所述模數(shù)的比 率可是約 1.0 或更大，例如約 I. 1 至 2. 5,例如約 1. 1，1.2,1.3,1.4,1.5,1.6,1.7,1.8,1.9， 2. 0, 2. 1，2. 2, 2. 3, 2. 4, 2. 5。因此，所述熱轉(zhuǎn)移膜可防止由于滾筒的卷繞壓力甚至當(dāng)所述熱 轉(zhuǎn)移膜是繞著滾筒卷繞時(shí)由所述基礎(chǔ)膜的底材形成凹陷。
[0027] 所述基礎(chǔ)膜可對(duì)所述光熱轉(zhuǎn)換層具有好的粘附力，及可控制在所述光熱轉(zhuǎn)換層與 其它層間的溫度轉(zhuǎn)移。所述基礎(chǔ)膜可是透明的聚合物膜，及可是以下列的至少一種形成的 膜：聚酯、聚丙烯酰類、聚環(huán)氧樹脂；聚烯烴，包括聚乙烯類、聚丙烯類及其類似物；及聚苯 乙烯類，但不限于此。較佳的是，所述基礎(chǔ)膜可是包括聚對(duì)酞酸乙二酯（PET)、聚萘酸乙二酯 或其類似物的聚酯膜。
[0028] 所述基礎(chǔ)膜可具有單層或堆疊二或更多層的多層。
[0029] 所述基礎(chǔ)膜可具有厚度約10微米至約500微米，較佳為約50微米至約250微米。 在此范圍內(nèi)，所述基礎(chǔ)膜可使用作為所述熱轉(zhuǎn)移膜的基礎(chǔ)膜。
[0030] 所述基礎(chǔ)膜可具有模數(shù)約2GPa至約9GPa，例如約3. 5GPa至約7. 5GPa，例如約 3. 5, 3. 6, 3. 7, 3. 8, 3. 9, 4. 0, 4. 1，4. 2, 4. 3, 4. 4, 4. 5, 4. 6, 4. 7,4. 8,4. 9,5. 0,5. 1，5. 2,5. 3， 5. 4, 5. 5, 5. 6, 5. 7, 5. 8, 5. 9, 6. 0, 6. 1，6. 2, 6. 3, 6. 4, 6. 5, 6. 6,6. 7,6. 8,6. 9,7. 0,7. 1，7. 2， 7. 3, 7. 4, 7. 5Ga。在此范圍內(nèi)，可容易地調(diào)整所述光熱轉(zhuǎn)換層或中間層的模數(shù)以便防止凹陷 形成，因此防止由于凹陷的轉(zhuǎn)移失敗。
[0031] 所述基礎(chǔ)膜可具有硬度約200MPa至約1，OOOMPa，例如約300MPa至約800MPa。在 此范圍內(nèi)，所述基礎(chǔ)膜可足夠地支撐所述光熱轉(zhuǎn)換層或中間層。
[0032] 所述基礎(chǔ)膜可具有涂布層，及可經(jīng)聚胺基甲酸酯或聚酯材料的底材顆粒處理以改 良涂布能力。結(jié)果，所述基礎(chǔ)膜可具有表面粗糙度Rpv (在最小波峰與最大波峰間，波峰至 波谷（peak to valley)的高度的差異）約100納米至約200納米，較佳為約100,120,130， 140，150，160，170，180，190,200納米及表面粗糙度Rq(平均粗糙度）約3納米至約15納 米，較佳為約3,4, 5,6, 7,8,9,10,11，12,13,14,15納米。用語(yǔ)所述基礎(chǔ)膜的"表面粗糙度" 可意謂著所述基礎(chǔ)膜的經(jīng)底材處理邊的表面粗糙度。
[0033] 所述光熱轉(zhuǎn)換層可包括用于光熱轉(zhuǎn)換層的組成物的硬化產(chǎn)物，其中所述組成物包 括光熱轉(zhuǎn)換材料及粘著劑，及所述用于光熱轉(zhuǎn)換層的組成物可進(jìn)一步包括起始劑。
[0034] 所述光熱轉(zhuǎn)換材料可包括典型可施加至所述光熱轉(zhuǎn)換層的染料、顏料、碳黑及氧 化鎢的至少一種。較佳的是，所述光熱轉(zhuǎn)換材料可包括碳黑及氧化鎢的至少一種。
[0035] 所述光熱轉(zhuǎn)換材料可以約1重量％至約30重量％的量存在于所述光熱轉(zhuǎn)換層中， 較佳為約10重量％至約20重量％，例如約10,11，12,13,14,15,16,17,18,19, 20重量％。 在此范圍內(nèi)，所述光熱轉(zhuǎn)換層可具有好的光熱轉(zhuǎn)換效率，及可改良轉(zhuǎn)移效率而減少失敗。
[0036] 所述粘著劑可包括紫外線可硬化樹脂、多官能基單體或其混合物