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內(nèi)嵌式觸控顯示面板及其制作方法、顯示裝置與流程

文檔序號:11250496閱讀:1642來源:國知局
內(nèi)嵌式觸控顯示面板及其制作方法、顯示裝置與流程

本公開涉及觸控顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種內(nèi)嵌式觸控顯示面板及其制作方法、顯示裝置。



背景技術(shù):

隨著顯示技術(shù)的飛速發(fā)展,觸控顯示技術(shù)已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于手機(jī)、手表、平板電腦等各種顯示產(chǎn)品中。其中,有機(jī)電致發(fā)光二極管(organiclightemittingdiode,oled)顯示器由于具有寬視角、低能耗、產(chǎn)品形態(tài)薄等特點(diǎn)已成為目前的發(fā)展趨勢。

在觸控屏技術(shù)中,相對于電阻式觸控屏,電容式觸控屏具有壽命長、透光率高、可以支持多點(diǎn)觸控等優(yōu)點(diǎn)。并且,電容式觸控屏對噪聲和對地寄生電容也有很好的抑制作用。因此,電容式觸控屏已成為如今觸控屏制造的熱點(diǎn)之一。

其中,投射式電容觸摸屏利用手指接近電容觸摸面板時(shí)所產(chǎn)生的電容變化來實(shí)現(xiàn)觸控功能。投射式電容觸摸屏按照其工作原理劃分時(shí)可以分為自電容式觸摸屏和互電容式觸摸屏,自電容式觸摸屏和互電容式觸摸屏分別基于互電容和自電容的原理實(shí)現(xiàn)對手指觸摸位置的檢測;投射式電容觸摸屏按照其觸摸模組的結(jié)構(gòu)劃分時(shí),又可以分為外掛式和內(nèi)嵌式。其中,內(nèi)嵌式電容觸摸屏將觸控電極結(jié)構(gòu)集成在顯示屏中,具有結(jié)構(gòu)簡單、輕、薄、成本低的優(yōu)點(diǎn),越來越成為觸摸屏的主流技術(shù),例如,越來越廣泛應(yīng)用于各種便攜式智能終端(諸如手機(jī))中。

在內(nèi)嵌式電容觸摸屏中,可以分為on-cell觸摸屏和in-cell觸摸屏,其中in-cell觸控屏又可分為復(fù)合內(nèi)嵌式(hybridin-cell,hic)電容觸摸屏和完全內(nèi)嵌式(fullin-cell,fic)電容觸摸屏。

因此,現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案還存在有待改進(jìn)之處。

需要說明的是,在上述背景技術(shù)部分公開的信息僅用于加強(qiáng)對本公開的背景的理解,因此可以包括不構(gòu)成對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本公開的目的在于提供一種內(nèi)嵌式觸控顯示面板及其制作方法、顯示裝置,進(jìn)而至少在一定程度上克服由于相關(guān)技術(shù)的限制和缺陷而導(dǎo)致的一個(gè)或者多個(gè)問題。

本公開的其他特性和優(yōu)點(diǎn)將通過下面的詳細(xì)描述變得清晰,或者部分地通過本公開的實(shí)踐而習(xí)得。

根據(jù)本公開的一個(gè)方面,提供一種內(nèi)嵌式觸控顯示面板,包括:具有像素區(qū)和觸控電極的陣列基板,以及觸控芯片;其中,

所述觸控電極包括多個(gè)子電極,所述像素區(qū)包括多條與所述子電極一一對應(yīng)的觸控引線,每個(gè)所述子電極通過對應(yīng)的所述觸控引線與所述觸控芯片相連;其中,

至少一子電極具有至少一非導(dǎo)電區(qū)域,所述至少一非導(dǎo)電區(qū)域至少部分位于所述觸控引線與所述至少一子電極的正投影區(qū)域內(nèi)。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中,所述內(nèi)嵌式觸控顯示面板為oled顯示面板,其包括oled陰極;其中,所述觸控電極復(fù)用所述oled陰極。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中,所述觸控引線用于在顯示階段向所述觸控電極傳遞顯示驅(qū)動信號;在觸控階段向所述觸控電極傳遞觸控掃描信號,且將發(fā)生觸控位置處的所述觸控電極產(chǎn)生的觸控信號傳輸?shù)剿鲇|控芯片。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中,所述多個(gè)子電極為呈矩陣排列的方形電極塊。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中,所述內(nèi)嵌式顯示面板還包括:擋墻,所述擋墻用于將各個(gè)相鄰的子電極分隔開來。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中,所述擋墻還形成于所述至少一非導(dǎo)電區(qū)域。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中,所述擋墻為倒梯形。

在本公開的一種示例性實(shí)施例中,所述擋墻由負(fù)性光刻膠材料制作形成。

根據(jù)本公開的一個(gè)方面,提供一種顯示裝置,包括如上述的內(nèi)嵌式觸控顯示面板。

根據(jù)本公開的一個(gè)方面,提供一種用于制作上述的內(nèi)嵌式觸控顯示面板的方法,包括:

在襯底基板上形成像素區(qū),所述像素區(qū)包括多條觸控引線;

在形成有像素區(qū)的襯底基板上形成擋墻;

在形成有擋墻的襯底基板上蒸鍍電極材料膜層形成多個(gè)子電極;

其中,每個(gè)所述子電極通過對應(yīng)的所述觸控引線與觸控芯片相連;至少一子電極具有至少一非導(dǎo)電區(qū)域,所述至少一非導(dǎo)電區(qū)域至少部分位于所述觸控引線與所述至少一子電極的正投影區(qū)域內(nèi)。

本公開的某些實(shí)施例的內(nèi)嵌式觸控顯示面板及其制作方法、顯示裝置中,通過在觸控電極的子電極與其對應(yīng)觸控引線的正投影區(qū)域內(nèi)設(shè)置至少一非導(dǎo)電區(qū)域,從而能夠減少觸控引線對子電極的電容影響,提高該內(nèi)嵌式觸控顯示面板的信噪比,提高其觸控精度。

應(yīng)當(dāng)理解的是,以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的,并不能限制本公開。

附圖說明

此處的附圖被并入說明書中并構(gòu)成本說明書的一部分,示出了符合本公開的實(shí)施例,并與說明書一起用于解釋本公開的原理。顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本公開的一些實(shí)施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1示出一種現(xiàn)有的內(nèi)嵌式觸控顯示面板的像素結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖2示出圖1所示的內(nèi)嵌式觸控顯示面板的觸控效果的示意圖。

圖3示出一種現(xiàn)有的內(nèi)嵌式觸控顯示面板陰極pattern結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖4示出另一種現(xiàn)有的內(nèi)嵌式觸控顯示面板陰極pattern結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖5示出本公開示例性實(shí)施例中一種內(nèi)嵌式觸控顯示面板的示意圖。

圖6示出本公開示例性實(shí)施例中另一種內(nèi)嵌式觸控顯示面板的示意圖。

圖7示出本公開示例性實(shí)施例中一種內(nèi)嵌式觸控顯示面板的制作方法的流程圖。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在將參考附圖更全面地描述示例實(shí)施方式。然而,示例實(shí)施方式能夠以多種形式實(shí)施,且不應(yīng)被理解為限于在此闡述的范例;所描述的特征、結(jié)構(gòu)或特性可以以任何合適的方式結(jié)合在一個(gè)或更多實(shí)施方式中。在下面的描述中,提供許多具體細(xì)節(jié)從而給出對本公開的實(shí)施方式的充分理解。然而,本領(lǐng)域技術(shù)人員將意識到,可以實(shí)踐本公開的技術(shù)方案而省略所述特定細(xì)節(jié)中的一個(gè)或更多,或者可以采用其它的方法、組元、裝置、步驟等。

需要指出的是,在附圖中,為了圖示的清晰可能會夸大層和區(qū)域的尺寸。而且可以理解,當(dāng)元件或?qū)颖环Q為在另一元件或?qū)印吧稀睍r(shí),它可以直接在其他元件上,或者可以存在中間的層。另外,可以理解,當(dāng)元件或?qū)颖环Q為在另一元件或?qū)印跋隆睍r(shí),它可以直接在其他元件下,或者可以存在一個(gè)以上的中間的層或元件。另外,還可以理解,當(dāng)層或元件被稱為在兩層或兩個(gè)元件“之間”時(shí),它可以為兩層或兩個(gè)元件之間唯一的層,或還可以存在一個(gè)以上的中間層或元件。通篇相似的參考標(biāo)記指示相似的元件。

圖1示出一種現(xiàn)有的內(nèi)嵌式觸控顯示面板的像素結(jié)構(gòu)的示意圖。圖2示出圖1所示的內(nèi)嵌式觸控顯示面板的觸控效果的示意圖。

圖1和2分別為現(xiàn)有內(nèi)嵌自感電容式oled面板結(jié)構(gòu)示意圖及其觸控效果示意圖。該內(nèi)嵌自感電容式oled面板可以包括玻璃基板(tftglass)、像素區(qū)(pixel)和觸控電極(sensor)的陣列基板,以及觸控芯片(touchdriveric,tic)、顯示驅(qū)動芯片(displaydriveric,ddi)、柔性電路板(flexibleprintedcircuitfpc)、柵極(gate)等。其中觸控電極(sensor)可以通過tpm(touchpatternmetal,觸控金屬線)連接像素區(qū)(pixel)的觸控芯片,實(shí)現(xiàn)觸控位置和/或大小的檢測。

由于有機(jī)材料及金屬對氧氣及水氣相當(dāng)敏感,制作完成后,需經(jīng)過封裝(encapsulation)保護(hù)處理。

現(xiàn)有內(nèi)嵌自感容式oled面板的主要方案為利用工藝制程讓陰極(cathode)分割成不同的區(qū)塊,采用分時(shí)驅(qū)動的方案,即在顯示階段陰極(cathode)作為普通的顯示陰極,與像素陽極形成壓差,oled發(fā)光;在觸控階段,陰極(cathode)作為觸控電極(sensor)塊進(jìn)行觸控工作的檢測。

圖3示出一種現(xiàn)有的內(nèi)嵌式觸控顯示面板陰極pattern結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖1和2所示的內(nèi)嵌式觸控顯示面板的一種陰極分割方案可以如圖3所示,利用隔離柱將陰極分割不同的陰極塊(s11、s12…s1n,s21、s22…s2n,sm1、sm2…smn等),其中m和n均為大于等于1的正整數(shù)。

該方案的主要問題在于,為各個(gè)陰極塊通過面板(panel)邊的金屬線引出到ic(integratedcircuit,集成電路)端(這里的ic端可以為觸控芯片或者觸控芯片和顯示驅(qū)動芯片的集成芯片),由于各個(gè)陰極塊距離ic的距離不同,導(dǎo)致ic信號到各個(gè)陰極塊的irdrop(電壓降)不同,在顯示和觸控階段,各陰極塊的信號量不同,觸控的均一性不好。

圖4示出另一種現(xiàn)有的內(nèi)嵌式觸控顯示面板陰極pattern結(jié)構(gòu)的示意圖。

圖4為內(nèi)嵌式觸控顯示面板的另一種陰極分割方案,其通過在像素區(qū)打孔,使陰極塊向下導(dǎo)通再通過金屬線連接至ic端,能夠改進(jìn)irdrop,提高觸控均一性。但是該方案存在的一個(gè)問題是:陰極塊下面的像素區(qū)內(nèi)的金屬線可能會同時(shí)通過很多陰極塊,即每個(gè)陰極塊下面會可能同時(shí)存在多條金屬線(例如陰極塊s1n下面同時(shí)通過三條金屬線),從而連接到ic端,而一條金屬線通過不同的陰極塊時(shí),該金屬線會對通過的陰極塊的電容產(chǎn)生影響,從而影響手指觸控的信號檢測,影響信號的信噪比。

本發(fā)明實(shí)施方式首先提供了一種內(nèi)嵌式觸控顯示面板,可以包括:具有像素區(qū)(pixel)和觸控電極(sensor)的陣列基板,以及觸控芯片。其中,所述觸控電極可以包括多個(gè)子電極,所述像素區(qū)可以包括多條與所述子電極一一對應(yīng)的觸控引線(例如金屬線),每個(gè)所述子電極通過對應(yīng)的所述觸控引線與所述觸控芯片相連。其中,至少一子電極具有至少一非導(dǎo)電區(qū)域,所述至少一非導(dǎo)電區(qū)域至少部分位于所述觸控引線與所述至少一子電極的正投影區(qū)域內(nèi)。

需要說明的是,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該知道,該陣列基板的像素區(qū)由矩陣排列的多個(gè)像素單元構(gòu)成,而每個(gè)像素單元包括至少三個(gè)子像素單元,其中,每個(gè)子像素單元包括薄膜晶體管,薄膜晶體管包括柵極、柵絕緣層、有源層、源極和漏極。

本發(fā)明實(shí)施例中,各子電極一般需要通過與其對應(yīng)的觸控引線與該觸控芯片實(shí)現(xiàn)電性連接,因此,在具體實(shí)施時(shí),在本實(shí)施例提供的上述內(nèi)嵌式觸控顯示面板中,各條觸控引線與各子電極一一對應(yīng)。其中,各子電極通過對應(yīng)的觸控引線與觸控芯片電性連接。這樣實(shí)現(xiàn)了各子電極與觸控芯片的電性連接。

根據(jù)電容公式:c=εs/4πkd,其中,c為觸控電極的一個(gè)子電極與觸控引線形成的電容結(jié)構(gòu)的電容,ε為處于間距d處的絕緣電解質(zhì)的介電常數(shù),s為該子電極與觸控引線形成的電容結(jié)構(gòu)的正對面積,k為靜電力常數(shù),d為該子電極與觸控引線之間的間距。由于本發(fā)明實(shí)施例通過在子電極內(nèi)部設(shè)置非導(dǎo)電區(qū)域,且該非導(dǎo)電區(qū)域至少部分位于所述子電極與通過該子電極下方的觸控引線的正投影區(qū)域內(nèi),因此,能夠減小該子電極與通過該子電極下方的觸控引線形成的電容結(jié)構(gòu)的正對面積s,從而能夠減小該電容結(jié)構(gòu)的電容,最終提高了該內(nèi)嵌式觸控顯示面板觸控時(shí)的信噪比,并提高了觸控檢測精度。

下面通過圖5和圖6對本發(fā)明實(shí)施方式提供的內(nèi)嵌式觸控顯示面板進(jìn)行詳細(xì)說明。

圖5示出本公開示例性實(shí)施例中一種內(nèi)嵌式觸控顯示面板的示意圖。

需要說明的是,hic通過傳統(tǒng)的雙層觸控引線設(shè)計(jì),采用的是互電容原理,是實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控的傳統(tǒng)技術(shù);fic采用單層觸控引線設(shè)計(jì),采用的是自電容原理,實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控。hic需要兩層觸控引線,而fic將觸控引線集中到一層,只增加一道光罩,同時(shí)fpc數(shù)量減少到一片。因此,下面的實(shí)施例中均以fic的單層觸控引線為例進(jìn)行舉例說明,但本公開并不限定于此,其也可以適用于hic的雙層觸控引線,只要應(yīng)用了本方案的通過在子電極內(nèi)部設(shè)置非導(dǎo)電區(qū)域,且該非導(dǎo)電區(qū)域至少部分位于該子電極與觸控引線的正投影區(qū)域內(nèi)來減小該子電極與該觸控引線形成的電容結(jié)構(gòu)的電容的原理,均屬于本方案的保護(hù)范圍之內(nèi)。

在示例性實(shí)施例中,所述內(nèi)嵌式觸控顯示面板可以為oled顯示面板,其包括oled陰極;其中,所述觸控電極可以復(fù)用所述oled陰極。但本公開并不限定于此,在其他實(shí)施例中,所述內(nèi)嵌式觸控顯示面板還可以為lcd顯示面板等任意其他類型的顯示面板,相應(yīng)的,所述觸控電極可以復(fù)用公共電極。

oled的基本結(jié)構(gòu)是由一薄而透明具半導(dǎo)體特性的銦錫氧化物(ito),與電力的正極相連,再加上另一個(gè)金屬陰極(cathode),包成如三明治的結(jié)構(gòu)。整個(gè)結(jié)構(gòu)層中包括了:空穴傳輸層、發(fā)光層(emittingmateriallayer,el)與電子傳輸層。當(dāng)電力供應(yīng)至適當(dāng)電壓時(shí),正極空穴與陰極電荷就會在發(fā)光層中結(jié)合,產(chǎn)生光亮,依其配方不同產(chǎn)生紅、綠和藍(lán)rgb三原色,構(gòu)成基本色彩。其陰極和陽極分別向相互垂直的方向延伸,發(fā)光層設(shè)置于陰極和陽極之間。進(jìn)行顯示時(shí),陰極逐行施加直流電壓,陽極同時(shí)施加灰階電壓,通過控制交疊區(qū)域發(fā)光層兩側(cè)電壓實(shí)現(xiàn)發(fā)光層發(fā)光亮度的控制,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)oled的顯示。

在陰極部分,為了增加元件的發(fā)光效率,電子與電洞的注入通常需要低功函數(shù)(lowworkfunction)的ag、al、ca、in、li與mg等金屬,或低功函數(shù)的復(fù)合金屬來制作陰極(例如:mg-ag鎂銀)。

在示例性實(shí)施例中,所述觸控引線用于在顯示階段向所述觸控電極傳遞顯示驅(qū)動信號;在觸控階段向所述觸控電極傳遞觸控掃描信號,且將發(fā)生觸控位置處的所述觸控電極產(chǎn)生的觸控信號傳輸?shù)剿鲇|控芯片。

由于觸控電極是由多個(gè)子電極組成的,為了減少顯示階段和觸控階段的相互干擾,可以采用顯示階段和觸控階段分時(shí)驅(qū)動的方式,并且,在具體實(shí)施時(shí)還可以將顯示用的顯示驅(qū)動芯片和觸控芯片整合為一個(gè)芯片,這樣可以進(jìn)一步降低生產(chǎn)成本。

這里,所述顯示階段,是指在所述陣列基板應(yīng)用于觸控顯示面板的情況下,用以實(shí)現(xiàn)顯示圖像功能的時(shí)間段;所述觸控階段,是指在所述陣列基板應(yīng)用于觸控顯示面板的情況下,用以實(shí)現(xiàn)觸控功能的時(shí)間階段。在具體操作過程中,采用對所述子電極分時(shí)驅(qū)動(指顯示階段和觸控階段分開驅(qū)動)的模式,即,在顯示階段,將所述子電極作為oled陰極,并為所述子電極和oled陽極施加實(shí)現(xiàn)顯示圖像功能的相應(yīng)電壓,從而實(shí)現(xiàn)顯示圖像的功能;在觸控階段,所述子電極為觸控電極,并為所述子電極施加實(shí)現(xiàn)觸控功能的相應(yīng)電壓,同時(shí)使陽極不工作,以避免對觸控的影響。

在圖5所示的實(shí)施例中,所述多個(gè)子電極為呈矩陣排列的方形電極塊。但本公開并不限定于此,各電極例如還可以為條狀電極。

其中,所述子電極的形狀可以為矩形,例如圖5所示的大小相同的正方形,其中各子電極可對應(yīng)多個(gè)像素單元。但本公開并不限定于此,各子電極的形狀可以相同也可以不相同,面積大小可以相同也可以不相同。當(dāng)各子電極的形狀大小均相同時(shí),更有利于保證手指觸控時(shí),觸控的均一性。

在示例性實(shí)施例中,各條觸控引線設(shè)置于該內(nèi)嵌式觸控顯示面板的像素區(qū)的一金屬層。該金屬層可以包括:多個(gè)與所述子電極一一對應(yīng)的基臺;所述基臺設(shè)置有過孔,所述子電極通過所述基臺與相應(yīng)的所述觸控引線相連。

具體地,本實(shí)施例提供的上述內(nèi)嵌式觸控顯示面板中,為了實(shí)現(xiàn)子電極與觸控引線的連接,需要對子電極與觸控引線之間進(jìn)行過孔連接,為了便于實(shí)施過孔工藝,因此在金屬層上設(shè)置與各子電極一一對應(yīng)的基臺,這樣在基臺位置便于實(shí)施過孔工藝,有助于實(shí)現(xiàn)子電極與觸控引線的良好電性連接。

需要說明的是,雖然圖5的實(shí)施例中繪示的過孔u(yù)為圓形的,但本公開并不限定于此,過孔的形狀可以是任意的。

其中,當(dāng)所述陣列基板應(yīng)用于內(nèi)嵌式觸控顯示面板時(shí),根據(jù)所述內(nèi)嵌式觸控顯示面板的尺寸不同,所述子電極的尺寸也不盡相同,在此不做限定。一般地,對于6寸以下的觸控顯示面板,方形子電極的邊長可以為3.5-5mm之間。

需要說明的是,在制造上述內(nèi)嵌式觸控顯示面板本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)像素區(qū)的寬度以及實(shí)際要求的觸控電極密度來設(shè)置所包含的子電極的數(shù)量。本發(fā)明實(shí)施例中對子電極的具體數(shù)量不進(jìn)行限定。

在圖5所示的實(shí)施例中,單個(gè)子電極m設(shè)計(jì)成5mm乘以5mm左右的方形電極塊,然后將該子電極用一根觸控引線n連接至觸控芯片內(nèi)部,通過觸控芯片給該子電極施加驅(qū)動信號,并且該子電極m可以自己接收反饋信號,即當(dāng)手指未觸控時(shí),子電極m所承受的電容為一固定值,當(dāng)手指觸控時(shí),子電極m承受的電容為手指電容加上原有電容,由于電容大小不同,信號的rc延遲(resistancecapacitancedelay)時(shí)間也不相同,這樣手指觸控的前后就會接收到不一樣的電信號,從而實(shí)現(xiàn)觸控點(diǎn)的確定,其中由于手指為直接耦合的方式,故手指引起的觸控變化量會比較大,觸控點(diǎn)易于確定。

繼續(xù)參考圖5,為本發(fā)明實(shí)施例提供的減小各觸控引線對各子電極電容影響的設(shè)計(jì)方案。具體的,在金屬觸控引線與子電極正對面積或者正投影區(qū)域處對子電極設(shè)置非導(dǎo)電區(qū)域q(例如打孔),這樣做的好處是,子電極與金屬觸控引線正投影區(qū)域至少部分面積鏤空或者填充非導(dǎo)電材料,這部分的金屬觸控引線不會對子電極的電容有影響,從而提高手指觸控信號的信噪比,同時(shí)提高觸控檢測的精度。

需要說明的是,雖然圖5中的非導(dǎo)電區(qū)域q設(shè)置為長方形,但本公開對此不作限定,非導(dǎo)電區(qū)域q可以是任意形狀。此外,雖然圖5中的各非導(dǎo)電區(qū)域q是同樣形狀同樣大小的長方形,但本公開并不限定于此,各個(gè)非導(dǎo)電區(qū)域q可以是不同的形狀,并可以具有不同的大小。另外,圖示中是為了清楚顯示出該非導(dǎo)電區(qū)域q的目的,特意將該非導(dǎo)電區(qū)域q繪示的較大,但實(shí)際應(yīng)用中,只要該非導(dǎo)電區(qū)域q能夠至少部分設(shè)置于該子電極內(nèi)部且位于該子電極與該觸控引線的正投影區(qū)域內(nèi)即可。

在其他實(shí)施例中,該非導(dǎo)電區(qū)域q可以設(shè)置為比圖5所示的實(shí)施例中更細(xì)長的形狀,從而大致完全將該子電極與該觸控引線的正投影區(qū)域?qū)?yīng)的該部分子電極設(shè)置為非導(dǎo)電區(qū)域,一方面,因?yàn)樵撟与姌O與該觸控電極正對面積處完全為非導(dǎo)電區(qū)域,從而能夠最大程度的減小該子電極與該觸控電極形成的電容結(jié)構(gòu)的電容,更有利于提高觸控信噪比及觸控精度;另一方面,還能夠增大該子電極的導(dǎo)電區(qū)域面積,從而提高該子電極對手指電容觸控的感應(yīng)靈敏度。

圖6示出本公開示例性實(shí)施例中另一種內(nèi)嵌式觸控顯示面板的示意圖。

在示例性實(shí)施例中,所述內(nèi)嵌式顯示面板還可以包括:擋墻(例如圖示中的a),所述擋墻用于將各個(gè)相鄰的子電極分隔開來。

在示例性實(shí)施例中,所述擋墻(例如圖示中的b)還形成于所述至少一非導(dǎo)電區(qū)域。

在示例性實(shí)施例中,所述擋墻為倒梯形。

其中,擋墻的橫截面為上底邊大于下底邊的倒梯形,通過使擋墻橫截面為上底邊大于下底邊的倒梯形,可以直接向顯示面板上蒸鍍電極材料膜層,并通過擋墻將相鄰的子電極、各子電極和各子電極內(nèi)部的各非導(dǎo)電區(qū)域隔離開來,從而通過一次蒸鍍即可制造出上述實(shí)施例中的子電極結(jié)構(gòu),因此本發(fā)明實(shí)施例可以進(jìn)一步簡化上述內(nèi)嵌式觸控顯示面板的制造工藝。

在示例性實(shí)施例中,所述擋墻由負(fù)性光刻膠材料制作形成。

具體為,結(jié)合工藝,利用負(fù)性光刻膠材料擋墻,對子電極之間進(jìn)行隔離,同時(shí)在子電極內(nèi)部設(shè)置非導(dǎo)電區(qū)域例如打孔。負(fù)性光刻膠材料擋墻的作用是,在進(jìn)行el和cathode蒸鍍時(shí),對cathode進(jìn)行隔離,從而形成觸控電極所需的pattern,實(shí)現(xiàn)cathode按照所需形狀進(jìn)行蒸鍍。

本發(fā)明實(shí)施例通過減小子電極與觸控引線之間的正對面積,進(jìn)而減小子電極與觸控引線形成平板電容器的正對面積,減小子電極與觸控引線的寄生耦合電容,從而提升觸控信號的精度。具體為利用特殊的工藝設(shè)計(jì),進(jìn)行擋墻的生成,從而在cathode蒸鍍時(shí),使得cathode與觸控芯片正投影區(qū)域,cathode會鏤空形成孔或填充非導(dǎo)電材料。即通過在sensor內(nèi)部挖空的形式,減小金屬觸控引線對子電極的電容影響,從而提高觸控的信號的信噪比,提高觸控檢測精度。

以上僅為自電容內(nèi)嵌式觸控顯示面板結(jié)構(gòu)的一個(gè)具體實(shí)施例,在實(shí)際生產(chǎn)和應(yīng)用中,自電容內(nèi)嵌式觸控顯示面板的具體結(jié)構(gòu)不限于此,可根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)需要,增減或改變其膜層結(jié)構(gòu),以便適用于多種模式的顯示面板,在此不做限定。

進(jìn)一步地,本發(fā)明實(shí)施方式還提供了一種顯示裝置,包括如上述發(fā)明實(shí)施例中的內(nèi)嵌式觸控顯示面板。

該顯示裝置可以為:手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。對于該顯示裝置的其它必不可少的組成部分均為本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)該理解具有的,在此不做贅述,也不應(yīng)作為對本發(fā)明的限制。該顯示裝置的實(shí)施可以參見上述結(jié)構(gòu)的實(shí)施例,重復(fù)之處不再贅述。

圖7示出本公開示例性實(shí)施例中一種內(nèi)嵌式觸控顯示面板的制作方法的流程圖。

如圖7所示,上述實(shí)施例中的內(nèi)嵌式觸控顯示面板的制作方法可以包括以下步驟。

在步驟s100中,在襯底基板上形成像素區(qū),所述像素區(qū)包括多條觸控引線。

在步驟s110中,在形成有像素區(qū)的襯底基板上形成擋墻。

在示例性實(shí)施例中,步驟s110可以包括:

在形成有像素區(qū)的襯底基板上形成負(fù)性光刻膠膜層;

在負(fù)性光刻膠膜層上方設(shè)置掩膜板并對負(fù)性光刻膠進(jìn)行曝光;

對曝光后的負(fù)性光刻膠膜層進(jìn)行顯影形成擋墻。

由于在曝光過程中光線會發(fā)生一定程度的散射,所以通過上述步驟獲得的擋墻的橫截面為上底邊大于下底邊的倒梯形。

在步驟s120中,在形成有擋墻的襯底基板上蒸鍍電極材料膜層形成多個(gè)子電極。

其中,每個(gè)所述子電極通過對應(yīng)的所述觸控引線與觸控芯片相連;至少一子電極具有至少一非導(dǎo)電區(qū)域,所述至少一非導(dǎo)電區(qū)域至少部分位于所述觸控引線與所述至少一子電極的正投影區(qū)域內(nèi)。

由于擋墻的橫截面為上底邊大于下底邊的倒梯形,所以在蒸鍍過程中擋墻能夠自動將相鄰的子電極以及子電極內(nèi)部的各非導(dǎo)電區(qū)域隔離開,形成具有非導(dǎo)電區(qū)域的子電極。上述實(shí)施例中通過一次蒸鍍工藝即可形成各子電極及其內(nèi)部的非導(dǎo)電區(qū)域,省略了一次構(gòu)圖工藝,因此本發(fā)明實(shí)施例可以簡化內(nèi)嵌式觸控顯示面板的制造工藝。

此外,上述內(nèi)嵌式觸控顯示面板的制作方法中各步驟的具體細(xì)節(jié)已經(jīng)在對應(yīng)的內(nèi)嵌式觸控顯示面板中進(jìn)行了詳細(xì)的描述,因此此處不再贅述。而且,盡管在附圖中以特定順序描述了本公開中方法的各個(gè)步驟,但是,這并非要求或者暗示必須按照該特定順序來執(zhí)行這些步驟,或是必須執(zhí)行全部所示的步驟才能實(shí)現(xiàn)期望的結(jié)果。附加的或備選的,可以省略某些步驟,將多個(gè)步驟合并為一個(gè)步驟執(zhí)行,以及/或者將一個(gè)步驟分解為多個(gè)步驟執(zhí)行等。

本領(lǐng)域技術(shù)人員在考慮說明書及實(shí)踐這里公開的發(fā)明后,將容易想到本公開的其它實(shí)施方案。本申請旨在涵蓋本公開的任何變型、用途或者適應(yīng)性變化,這些變型、用途或者適應(yīng)性變化遵循本公開的一般性原理并包括本公開未公開的本技術(shù)領(lǐng)域中的公知常識或慣用技術(shù)手段。說明書和實(shí)施例僅被視為示例性的,本公開的真正范圍和精神由所附的權(quán)利要求指出。

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