專利名稱：電磁屏蔽箱體的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及ー種電磁屏蔽箱體。
背景技術(shù)：
伺服器產(chǎn)生的電磁輻射對人體或周邊的電子裝置會產(chǎn)生影響，而伺服器自身箱體一般具有屏蔽的效果，但是在箱體的蓋體和本體接合處會有縫隙產(chǎn)生，如圖I所示，傳統(tǒng)伺服器箱體的本體40包括側(cè)板41。側(cè)板41設(shè)有臺階411。蓋體50包括側(cè)壁51，蓋體50蓋與本體40上，該側(cè)壁51抵持于臺階411位置即可，但是該結(jié)構(gòu)中，側(cè)壁51只遮蓋該側(cè)板41的一部分，側(cè)壁51與側(cè)板41之間的縫隙，容易將電磁波泄漏，影響箱體的屏蔽效果。
實用新型內(nèi)容鑒于以上內(nèi)容，有必要提供一種屏蔽效果較好的電磁屏蔽箱體。ー種電磁屏蔽箱體，其本體、蓋設(shè)于本體的蓋體及擋板,該本體包括兩個相對第一擋壁，該蓋體包括兩個相對側(cè)壁，該側(cè)壁延伸有臺階及與臺階連接的延伸壁，側(cè)壁、臺階及延伸壁形成第二擋壁，當(dāng)蓋體蓋于本體上吋，該第二擋壁從第一擋壁外側(cè)將其遮蔽，該擋板連接該兩個第二擋壁端部，該第二擋壁與第一擋壁之間形成縫隙。優(yōu)選地，該蓋體還包括蓋板，兩個側(cè)壁垂直連接該蓋板的兩側(cè)，該延伸壁由該側(cè)壁端部向延伸壁外側(cè)彎折再向垂直蓋板方向延伸形成，進(jìn)而該延伸壁與側(cè)壁間形成臺階。優(yōu)選地，該本體還包括底板及設(shè)于底板兩側(cè)的側(cè)板，該側(cè)板端部平行于底板彎折再向垂直底板方向延伸形成延伸板，該延伸板與該側(cè)板之間形成抵持臺，該延伸板、側(cè)板及抵持臺形成所述第一擋壁。優(yōu)選地，該延伸板外側(cè)設(shè)有凸起，該側(cè)壁內(nèi)側(cè)相對該側(cè)板外側(cè)的凸起設(shè)有凹部。優(yōu)選地，該蓋體蓋于該本體上，該延伸壁與該側(cè)板相対，該側(cè)壁與該延伸板相対，該臺階位于該抵持臺上，該凸起卡持于該凹部內(nèi)。優(yōu)選地，該第二擋壁、第一擋壁與縫隙形成一波導(dǎo)，波導(dǎo)長度為側(cè)板與側(cè)壁長度及臺階寬度之和。本實用新型電磁屏蔽箱體包括本體及蓋設(shè)于本體的蓋體，該本體設(shè)有第一擋板，該蓋體設(shè)有遮蔽于第一擋板的第二擋板，該第一擋板與第二擋板及縫隙形成波導(dǎo)，可以抑制伺服器的電磁波外泄，增強箱體自身屏蔽效果。

圖I是現(xiàn)有伺服器箱體的示意圖。圖2是本實用新型較佳實施例的電磁屏蔽箱體組裝示意圖。圖3是圖2所示電磁屏蔽箱體分解示意圖。圖4是圖2所示電磁屏蔽箱體沿IV-IV方向剖示圖。主要元件符號說明[0016]
權(quán)利要求1.一種電磁屏蔽箱體，其本體、蓋設(shè)于本體的蓋體及擋板，其特征在于該本體包括兩個相對第一擋壁，該蓋體包括兩個相對側(cè)壁，該側(cè)壁延伸有臺階及與臺階連接的延伸壁，側(cè)壁、臺階及延伸壁形成第二擋壁，當(dāng)蓋體蓋于本體上時，該第二擋壁從第一擋壁外側(cè)將其遮蔽，該擋板連接該兩個第二擋壁端部，該第二擋壁與第一擋壁之間形成有縫隙。
2.如權(quán)利要求I所述的電磁屏蔽箱體，其特征在于該蓋體還包括蓋板，兩個側(cè)壁垂直連接該蓋板的兩側(cè)，該延伸壁由該側(cè)壁端部向延伸壁外側(cè)彎折再向垂直蓋板方向延伸形成，進(jìn)而該延伸壁與側(cè)壁間形成所述臺階。
3.如權(quán)利要求2所述的電磁屏蔽箱體，其特征在于該本體還包括底板及設(shè)于底板兩側(cè)的側(cè)板，該側(cè)板端部平行于底板彎折再向垂直底板方向延伸形成延伸板，該延伸板與該側(cè)板之間形成抵持臺，該延伸板、側(cè)板及抵持臺形成所述第一擋壁。
4.如權(quán)利要求3所述的電磁屏蔽箱體，其特征在于該延伸板外側(cè)設(shè)有凸起，該側(cè)壁內(nèi)側(cè)相對該側(cè)板外側(cè)的凸起設(shè)有凹部。
5.如權(quán)利要求4所述的電磁屏蔽箱體，其特征在于該蓋體蓋于該本體上，該延伸壁與該側(cè)板相対，該側(cè)壁與該延伸板相対，該臺階位于該抵持臺上，該凸起卡持于該凹部內(nèi)。
6.如權(quán)利要求5所述的電磁屏蔽箱體，其特征在于該第二擋壁、第一擋壁與縫隙形成一波導(dǎo)，波導(dǎo)長度為側(cè)板與側(cè)壁長度及臺階寬度之和。
專利摘要一種電磁屏蔽箱體，其本體、蓋設(shè)于本體的蓋體及擋板，該本體包括兩個相對第一擋壁，該蓋體包括兩個相對側(cè)壁，該側(cè)壁延伸有臺階及與臺階連接的延伸壁，側(cè)壁、臺階及延伸壁形成第二擋壁，當(dāng)蓋體蓋于本體上時，該第二擋壁從第一擋壁外側(cè)將其遮蔽，該擋板連接該兩個第二擋壁端部，該第二擋壁與第一擋壁之間形成縫隙。
文檔編號H05K9/00GK202435779SQ201120494720
公開日2012年9月12日 申請日期2011年12月2日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月2日
發(fā)明者柴強, 王軍偉 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司