非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種晶圓搬運(yùn)裝置，尤其涉及一種非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]制作一個(gè)晶圓需進(jìn)行數(shù)十甚至數(shù)百道工藝，例如氧化、蝕刻、清洗、雜質(zhì)擴(kuò)散、離子植入及薄膜沉積等，而隨著的科技進(jìn)步，半導(dǎo)體工藝的精密度越來越高，為了避免人為操作上所產(chǎn)生的污染與誤差，幾乎所有的工藝皆已邁向自動(dòng)化控制并于無塵室中操作，以提高良率及增加產(chǎn)能。
[0003]目前常見的晶圓搬運(yùn)方式主要為背接觸式，將機(jī)械手臂接觸于晶圓的底部而進(jìn)行搬運(yùn)，如中國(guó)臺(tái)灣專利公告第586996號(hào)的「晶圓傳送機(jī)械手臂」，包含有一手臂本體，該手臂本體具有一晶圓承載平面、一第一真空通道及一第二真空通道，該晶圓承載平面有多個(gè)第一真空孔及多個(gè)第二真空孔，該些第一真空孔形成于該晶圓承載平面的內(nèi)緣并與該第一真空通道連接導(dǎo)通，該些第二真空孔形成于該晶圓承載平面的外緣并與該第二真空通道連接導(dǎo)通，該第二真空通道與該第一真空通道不互相連接導(dǎo)通，并分別產(chǎn)生真空，以吸附一晶圓的底部，使該晶圓于搬運(yùn)過程中不會(huì)掉落。當(dāng)要放置該晶圓于一平臺(tái)上時(shí)，該晶圓承載平面會(huì)下降使該晶圓被放置于多設(shè)置于該平臺(tái)的緩沖凸出件上，以緩沖該晶圓下降時(shí)所產(chǎn)生的力道，然該些緩沖凸出件需對(duì)應(yīng)該晶圓與該晶圓承載平面的位置而進(jìn)行設(shè)置，而無法全面性的對(duì)應(yīng)設(shè)置于該晶圓的底部，于多次搬運(yùn)后，可能會(huì)因受力不均而造成該晶圓彎曲等損壞。
[0004]而其他晶圓搬運(yùn)方式如中國(guó)臺(tái)灣專利公告第1283036號(hào)的「正面吸附式晶圓擷取手臂」，其包含有至少一機(jī)械手臂、一上臂模塊以及一驅(qū)動(dòng)模塊，該至少一機(jī)械手臂具有一吸附一晶圓的圓錐面，該上臂模塊連接于該至少一機(jī)械手臂以移動(dòng)該至少一機(jī)械手臂，該驅(qū)動(dòng)模塊電性連接于該上臂模塊以控制該上臂模塊的運(yùn)作。藉由該機(jī)械手臂的該圓錐面，而可吸附該晶圓的上表面，進(jìn)而搬運(yùn)該晶圓。然而，在長(zhǎng)期使用后，其取放該晶圓的位置可能會(huì)產(chǎn)生偏移，而當(dāng)要放置該晶圓于一平臺(tái)上時(shí)，由于偏移的關(guān)系，可能會(huì)使該機(jī)械手臂過度下降，而壓到該晶圓，故很容易壓傷或刮傷該晶圓的表面，造成該晶圓的毀壞。
[0005]因此，如何減少該晶圓的底部因受力不均而造成該晶圓彎曲等損壞，以及減少因機(jī)械手臂的偏移而使該晶圓毀壞的問題，實(shí)為相關(guān)業(yè)者所需解決的課題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型的主要目的，在于解決減少該晶圓的底部因受力不均而造成該晶圓損壞的問題。
[0007]本實(shí)用新型的另一目的，在于解決減少因機(jī)械手臂的偏移而使晶圓毀壞的問題。
[0008]為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型提供一種非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置，用以搬運(yùn)一晶圓，其包含有:
[0009]一基座；
[0010]一與該基座樞接并相對(duì)該基座移動(dòng)的移動(dòng)臂，該移動(dòng)臂具有一遠(yuǎn)離該基座的操作端;
[0011]一設(shè)置于該移動(dòng)臂之中的管體，該管體包含有一容置一流體的通道以及一和該通道連通并形成于該操作端的吸取口 ；
[0012]一連接于該通道而使該吸取口產(chǎn)生一吸附該晶圓的吸附力的負(fù)壓裝置；
[0013]—自該操作端朝外延伸而出的上蓋，該上蓋具有一周緣；以及
[0014]—設(shè)置于該周緣的限位模塊，包含有一自該周緣延伸而與該上蓋之間形成一晶圓容置空間并限制該晶圓水平移動(dòng)的限位件以及一連接于該限位件和該周緣之間以提供該限位件一垂直往復(fù)位移的彈性單元。
[0015]上述的非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置，其中該上蓋為一圓盤形狀。
[0016]上述的非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置，其中該彈性單元為一彈簧。
[0017]上述的非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置，其中更包含一設(shè)置于該操作端的感測(cè)元件。
[0018]上述的非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置，其中該流體為氣體或液體。
[0019]上述的非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置，其中該限位模塊更包含有一設(shè)置于該限位件遠(yuǎn)離該晶圓容置空間的一側(cè)的第一輔助件，且該第一輔助件接觸于該上蓋。
[0020]上述的非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置，其中該限位模塊更包含有一第二輔助件，該第二輔助件設(shè)置于該第一輔助件相鄰該移動(dòng)臂的一側(cè)，且該第二輔助件接觸于該上蓋的一頂面。
[0021]上述的非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置，其中該限位模塊更包含有一設(shè)置于該第二輔助件相鄰于該頂面的緩沖片。
[0022]綜上所述，本實(shí)用新型具有以下特點(diǎn):
[0023]—、藉由該負(fù)壓裝置連接于該通道而使該吸取口產(chǎn)生該吸附力而吸附該晶圓，并使該晶圓與該操作端保持一操作距離，故本實(shí)用新型可以在不接觸該晶圓的情況下搬運(yùn)該晶圓，以防止該晶圓損壞。
[0024]二、藉由該限位件的設(shè)置，可以限制該晶圓位于該晶圓容置空間，防止該晶圓于搬運(yùn)過程中因遠(yuǎn)離位于該操作端的該吸取口而掉落，以減少生產(chǎn)成本以及增加工藝良率。
[0025]三、藉由該限位件與該彈性單元，而可使本實(shí)用新型放置該晶圓至一平臺(tái)時(shí)，該限位件會(huì)先接觸于該平臺(tái)，該上蓋再下壓該彈性單元，因該吸附力使該晶圓與該操作端保持該操作距離，因此，該上蓋下壓時(shí)可以使該晶圓的底部受力均勻的被放置于該平臺(tái)上，減少現(xiàn)有背接觸式的搬運(yùn)方式會(huì)使該晶圓的底部非全面性的接觸到多設(shè)置于該平臺(tái)上的緩沖凸出件，因受力不均而造成該晶圓彎曲等損害。
[0026]四、當(dāng)該移動(dòng)臂長(zhǎng)期使用而產(chǎn)生偏移時(shí)，該上蓋會(huì)過度下降而壓到該晶圓，因此，該限位件與該彈性單元的設(shè)置可以提供一緩沖作用，可以減少該晶圓被該上蓋壓壞或刮傷。
[0027]以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。
【附圖說明】
[0028]圖1，為本實(shí)用新型第一實(shí)施例的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖2A?圖2D，為本實(shí)用新型第一實(shí)施例的連續(xù)作動(dòng)示意圖；
[0030]圖3，為本實(shí)用新型第二實(shí)施例的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖4，為本實(shí)用新型第三實(shí)施例的剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0032]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)原理和工作原理作具體的描述:
[0033]涉及本實(shí)用新型的詳細(xì)說明及技術(shù)內(nèi)容，現(xiàn)就配合【附圖說明】如下:
[0034]請(qǐng)參閱圖1及圖2A至圖2D所示，為本實(shí)用新型第一實(shí)施例的剖視結(jié)構(gòu)示意圖以及連續(xù)作動(dòng)示意圖。本實(shí)用新型為一種非接觸式晶圓搬運(yùn)裝置，是用以搬運(yùn)一晶圓80，包含有一基座10、一移動(dòng)臂20、一管體30、一負(fù)壓裝置40、一上蓋50以及一限位模塊60，該移動(dòng)臂20與該基座10樞接并相對(duì)該基座10移動(dòng)，且具有一遠(yuǎn)離該基座10的操作端21，該管體30設(shè)置于該移動(dòng)臂20之中，包含有一容置一流體的通道31以及一和該通道31連通并形成于該操作端21的吸取口 32，該負(fù)壓裝置40連接于該通道31而使該吸取口 32產(chǎn)生一吸附該晶圓80的吸附力，該吸附力使該操作端21與該晶圓80保持一操作距離，而可在不接觸到該晶圓80的情況下搬運(yùn)該晶圓80，防止因接觸而造成的損壞，該上蓋50自該操作端21朝外延伸而出，具有一周緣，該限位模塊60設(shè)置于該周緣，包含有一自該周緣延伸而與該上蓋50之間形成一晶圓容置空間63并限制該晶圓80水平移動(dòng)的限位件61以及一連接于該限位件61和該周緣之間以提供該限位件61 —垂直往復(fù)位移的彈性單元62。
[0035]于此實(shí)施例中，該移動(dòng)臂20更包含有多個(gè)支臂22以及多個(gè)設(shè)置于該些支臂22之間的轉(zhuǎn)動(dòng)單元23，藉由該些轉(zhuǎn)動(dòng)單元23的運(yùn)作，而可控制該些支臂22的相對(duì)位置，使該移動(dòng)臂20可以于一特定距離內(nèi)進(jìn)行操作。此外，該基座10更包含有一樞接件11，而該移動(dòng)臂20透過該樞接件11而與該基座10樞接，且該管體30可延伸至該基座10再與該負(fù)壓裝置40連接，然該管體30亦可僅設(shè)置于該移動(dòng)臂20，而不延伸至該基座10。
[0036]