晶圓搬運(yùn)裝置及使用方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了晶圓搬運(yùn)裝置及使用方法，該裝置包括基板，水平設(shè)置在基板上的橫軸，豎直設(shè)置在橫軸上的縱軸，以及設(shè)置在縱軸上的氣爪和設(shè)置在氣爪上的拾取臂；所述橫軸為設(shè)置在基板上的清洗橫軸、刷洗橫軸及甩干橫軸；所述縱軸為設(shè)置在清洗橫軸上的沿清洗橫軸水平移動(dòng)的清洗縱軸、設(shè)置在刷洗橫軸上的沿刷洗橫軸水平移動(dòng)的刷洗縱軸以及設(shè)置在甩干橫軸上的沿甩干橫軸水平移動(dòng)的甩干縱軸；所述氣爪設(shè)置在縱軸上并且沿縱軸豎向移動(dòng)。本發(fā)明提供的晶圓搬運(yùn)裝置應(yīng)用于晶圓清洗工位之間的轉(zhuǎn)移，其結(jié)構(gòu)緊湊，工藝布局靈活，晶圓清洗設(shè)備占地面積少，搬運(yùn)效率高，有效避免搬運(yùn)過程中的交叉污染問題，保證晶圓的清洗效果。
【專利說明】
晶圓搬運(yùn)裝置及使用方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及晶圓清洗領(lǐng)域，尤其涉及晶圓搬運(yùn)裝置及使用方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在CMP(ChemicalMechanical Planarizat1n/Polish，化學(xué)機(jī)械平坦化或化學(xué)機(jī)械拋光)工藝之后，需要對(duì)晶圓進(jìn)行清洗，以去除拋光工藝中帶來的所有污染物。
[0003]晶圓清洗通常需要噴淋、超聲、化學(xué)液、干燥等多個(gè)清洗工序，每個(gè)清洗工序在不同的清洗工位進(jìn)行。
[0004]晶圓在各個(gè)工位之間的搬運(yùn)需要借助晶圓搬運(yùn)裝置自動(dòng)完成，考慮到工作效率及避免各清洗流程間交叉污染等問題，一般采用多個(gè)機(jī)械手來完成晶圓搬運(yùn)，通常機(jī)械手的數(shù)量比清洗工位的數(shù)量少I個(gè)。
[0005]傳統(tǒng)的晶圓搬運(yùn)裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜，設(shè)備整體占用空間大，機(jī)械手不能獨(dú)立運(yùn)動(dòng)，工藝靈活性差。
[0006]圖1是傳統(tǒng)晶圓搬運(yùn)裝置技術(shù)方案一的結(jié)構(gòu)示意圖，N個(gè)清洗工位等距離排列，晶圓搬運(yùn)裝置設(shè)置有X軸、Z軸自由度。X軸上水平安裝有N-1個(gè)拾取機(jī)構(gòu)。拾取機(jī)構(gòu)等距離排列，同時(shí)沿Z軸升降和沿X軸水平運(yùn)動(dòng)。
[0007]以上晶圓搬運(yùn)裝置含有多個(gè)拾取機(jī)構(gòu)，但存在以下不足:
(一)X軸只有一個(gè)自由度，所有拾取機(jī)構(gòu)在X軸只能同步移動(dòng);Z軸也只有I個(gè)自由度，所有拾取機(jī)構(gòu)在Z軸也只能做同步移動(dòng)；
(二)由于所有拾取機(jī)構(gòu)在X軸、Z軸兩個(gè)方向只能做同步運(yùn)動(dòng)，而不能獨(dú)立運(yùn)動(dòng)，造成實(shí)際應(yīng)用中工藝靈活性較差；
(三)在拾取機(jī)構(gòu)和清洗工位的間距調(diào)整時(shí)，需要保證所有的拾取機(jī)構(gòu)與清洗工位同時(shí)對(duì)齊，同時(shí)還要保證清洗工位的間距和拾取機(jī)構(gòu)的分布間距嚴(yán)格一致，位置調(diào)整及對(duì)準(zhǔn)工作繁瑣，影響整體的工作效率。
[0008]圖2是傳統(tǒng)晶圓搬運(yùn)裝置技術(shù)方案二的結(jié)構(gòu)示意圖，N個(gè)清洗工位緊密排列，晶圓搬運(yùn)裝置共包含兩套拾取機(jī)構(gòu)，X軸有一個(gè)自由度，即兩套拾取機(jī)構(gòu)在X軸只能做同步運(yùn)動(dòng)；Z軸有兩個(gè)自由度，即兩套拾取機(jī)構(gòu)可以獨(dú)立沿X軸上、下運(yùn)行。但其也存在以下不足:
(一)每次取放一片晶圓，需要多次取放動(dòng)作才能完成整個(gè)晶圓傳輸工作，搬運(yùn)效率不尚;
(二)拾取機(jī)構(gòu)在不同的清洗工位之間循環(huán)取放，會(huì)沾染各工位的化學(xué)液，并造成不同清洗工位間的交叉污染。
[0009]綜上所述，亟需一種結(jié)構(gòu)緊湊，工藝靈活、避免交叉污染的晶圓搬運(yùn)裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]本發(fā)明的目的是針對(duì)上述技術(shù)問題，提供一種晶圓搬運(yùn)裝置，應(yīng)用于晶圓清洗工位之間的轉(zhuǎn)移，其結(jié)構(gòu)緊湊，工藝布局靈活，晶圓清洗設(shè)備占地面積少，搬運(yùn)效率高，有效避免搬運(yùn)過程中的交叉污染問題，保證晶圓的清洗效果。
[0011]本發(fā)明的技術(shù)方案:
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了晶圓搬運(yùn)裝置，其包括基板，水平設(shè)置在基板上的橫軸，豎直設(shè)置在橫軸上的縱軸，以及設(shè)置在縱軸上的氣爪和設(shè)置在氣爪上的拾取臂;所述橫軸為設(shè)置在基板上的清洗橫軸、刷洗橫軸及甩干橫軸;所述縱軸為設(shè)置在清洗橫軸上的沿清洗橫軸水平移動(dòng)的清洗縱軸、設(shè)置在刷洗橫軸上的沿刷洗橫軸水平移動(dòng)的刷洗縱軸以及設(shè)置在甩干橫軸上的沿甩干橫軸水平移動(dòng)的甩干縱軸;所述氣爪設(shè)置在縱軸上并且沿縱軸豎向移動(dòng)。
[0012]進(jìn)一步地，所述清洗縱軸設(shè)有一個(gè)，刷洗縱軸設(shè)有兩個(gè)，甩干縱軸設(shè)有一個(gè)。
[0013]進(jìn)一步地，所述清洗縱軸和刷洗縱軸上均設(shè)置有沿清洗縱軸和刷洗縱軸豎向移動(dòng)的調(diào)節(jié)板，與清洗縱軸和刷洗縱軸對(duì)應(yīng)的氣爪連接在調(diào)節(jié)板上。
[0014]進(jìn)一步地，所述調(diào)節(jié)板上設(shè)置有調(diào)節(jié)拾取臂角度用的圓弧形長(zhǎng)槽孔，所述氣爪通過圓弧形長(zhǎng)槽孔連接在調(diào)節(jié)板上。通過圓弧形長(zhǎng)槽孔可調(diào)節(jié)拾取臂的角度，保證拾取臂縱向垂直抓取晶圓，從而保證拾取臂抓取的可靠性。
[0015]進(jìn)一步地，所述甩干縱軸上設(shè)置有沿甩干縱軸豎向移動(dòng)的擺動(dòng)機(jī)構(gòu)，與甩干縱軸對(duì)應(yīng)的氣爪連接在擺動(dòng)機(jī)構(gòu)上。
[0016]進(jìn)一步地，所述擺動(dòng)機(jī)構(gòu)包括沿甩干縱軸豎向移動(dòng)的伺服電機(jī)，以及設(shè)在伺服電機(jī)的輸出軸上的法蘭板，與甩干縱軸對(duì)應(yīng)的氣爪上設(shè)有氣爪安裝板，氣爪安裝板固定在法蘭板上，擺動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)固定在氣爪安裝板上的拾取臂旋轉(zhuǎn)。這樣，拾取臂夾持的晶圓可實(shí)現(xiàn)豎直方向與水平方向的變化，以增加晶圓清洗工藝布局的靈活性。
[0017]進(jìn)一步地，所述氣爪上設(shè)置有傳感器，其為光電型傳感器。傳感器可實(shí)時(shí)檢測(cè)拾取臂的打開、抓件、無件三種狀態(tài)，提升晶圓搬運(yùn)裝置控制水平。
[0018]進(jìn)一步地，所述拾取臂的下部設(shè)置有卡爪，卡爪的內(nèi)側(cè)設(shè)置有卡槽，卡槽的尺寸與晶圓尺寸配合設(shè)置。
[0019]本申請(qǐng)還公開了使用晶圓搬運(yùn)裝置的方法，具體包括以下步驟:
SI，根據(jù)晶圓清洗工藝，確定晶圓搬運(yùn)裝置中的橫軸、縱軸的數(shù)量；
S2，根據(jù)晶圓尺寸，設(shè)置拾取臂的結(jié)構(gòu)，并將其固定在氣爪的下部；
S3，搭建晶圓搬運(yùn)裝置，并調(diào)整固定在氣爪上的拾取臂的角度；
S4，根據(jù)晶圓清洗現(xiàn)場(chǎng)，設(shè)置橫軸、縱軸的位置及縱軸、氣爪的移動(dòng)周期；
S5，啟動(dòng)晶圓搬運(yùn)裝置，通過氣爪對(duì)搬運(yùn)過程進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
[0020]本發(fā)明有益效果:
本發(fā)明提供的晶圓搬運(yùn)裝置應(yīng)用于晶圓在清洗工位之間的轉(zhuǎn)移，其結(jié)構(gòu)緊湊，工藝布局靈活，晶圓清洗設(shè)備占地面積少，搬運(yùn)效率高，有效避免搬運(yùn)過程中的交叉污染問題，保證晶圓的清洗效果。
【附圖說明】
[0021]通過結(jié)合以下附圖所作的詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述和/或其他方面和優(yōu)點(diǎn)將變得更清楚和更容易理解，這些附圖只是示意性的，并不限制本發(fā)明，其中:
圖1是傳統(tǒng)晶圓搬運(yùn)裝置技術(shù)方案一的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2是傳統(tǒng)晶圓搬運(yùn)裝置技術(shù)方案二的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3是本發(fā)明實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4是本發(fā)明實(shí)施例的主視圖；
圖5是本發(fā)明實(shí)施例的左視圖；
圖6是本發(fā)明之晶圓夾持示意圖；
圖7是本發(fā)明之調(diào)節(jié)板的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖8是本發(fā)明之?dāng)[動(dòng)機(jī)構(gòu)安裝示意圖；
圖9是拾取臂夾持晶圓的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖10是拾取臂未夾持晶圓的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖11是拾取臂未夾持晶圓時(shí)傳感器與擋片的俯視圖。
[0022]附圖中，各標(biāo)號(hào)所代表的部件如下:
1.基板;2.清洗橫軸；3.清洗縱軸;4.擺動(dòng)機(jī)構(gòu)；5.氣爪;6.拾取臂；7.傳感器;8.調(diào)節(jié)板;9.卡爪；10.晶圓；11.拾取機(jī)構(gòu)；12.X軸；13.Z軸；14.刷洗橫軸；15.甩干橫軸；16.刷洗縱軸;17.甩干縱軸;18.伺服電機(jī);19.法蘭板;20.氣爪安裝板;21.圓弧形長(zhǎng)槽孔;22.擋片。
【具體實(shí)施方式】
[0023]下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明晶圓搬運(yùn)裝置及使用方法進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0024]在此記載的實(shí)施例為本發(fā)明的特定的【具體實(shí)施方式】，用于說明本發(fā)明的構(gòu)思，均是解釋性和示例性的，不應(yīng)解釋為對(duì)本發(fā)明實(shí)施方式及本發(fā)明范圍的限制。除在此記載的實(shí)施例外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還能夠基于本申請(qǐng)權(quán)利要求書和說明書所公開的內(nèi)容采用顯而易見的其它技術(shù)方案，這些技術(shù)方案包括采用對(duì)在此記載的實(shí)施例的做出任何顯而易見的替換和修改的技術(shù)方案。
[0025]本說明書的附圖為示意圖，輔助說明本發(fā)明的構(gòu)思，示意性地表示各部分的形狀及其相互關(guān)系。請(qǐng)注意，為了便于清楚地表現(xiàn)出本發(fā)明實(shí)施例的各部件的結(jié)構(gòu)，各附圖之間并未按照相同的比例繪制。相同的參考標(biāo)記用于表示相同的部分。
[0026]圖3是本發(fā)明實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖，其包括基板I，水平設(shè)置在基板I上的橫軸，豎直設(shè)置在橫軸上的縱軸，以及設(shè)置在縱軸上的氣爪5和設(shè)置在氣爪5上的拾取臂6;氣爪5可控制拾取臂6的開合，從而順利夾取晶圓。
[0027]所述橫軸為設(shè)置在基板I上的清洗橫軸2、刷洗橫軸14及甩干橫軸15;所述縱軸為設(shè)置在清洗橫軸2上的沿清洗橫軸2水平移動(dòng)的清洗縱軸3、設(shè)置在刷洗橫軸14上的沿刷洗橫軸14水平移動(dòng)的刷洗縱軸16以及設(shè)置在甩干橫軸15上的沿甩干橫軸15水平移動(dòng)的甩干縱軸17;所述氣爪5設(shè)置在縱軸上并且沿縱軸豎向移動(dòng)。
[0028]圖4是本發(fā)明實(shí)施例的主視圖，基板I上設(shè)置有三套橫軸，S卩，清洗橫軸2、刷洗橫軸14及甩干橫軸15;所述清洗縱軸3設(shè)有一個(gè)，刷洗縱軸16設(shè)有兩個(gè)，甩干縱軸17設(shè)有一個(gè)，縱軸上共計(jì)設(shè)置四套縱軸，即，清洗縱軸3、刷洗縱軸16及甩干縱軸17，清洗縱軸3設(shè)置在清洗橫軸2上，一對(duì)刷洗縱軸16設(shè)置在刷洗橫軸14上，甩干縱軸17設(shè)置在甩干橫軸15上。
[0029]所述清洗縱軸3和刷洗縱軸16上均設(shè)置有沿清洗縱軸3和刷洗縱軸16豎向移動(dòng)的調(diào)節(jié)板8，與清洗縱軸3和刷洗縱軸16對(duì)應(yīng)的氣爪5連接在調(diào)節(jié)板8上。調(diào)節(jié)板8可沿縱軸移動(dòng)，從而帶動(dòng)其上的氣爪5移動(dòng)。
[0030]圖5是本發(fā)明實(shí)施例的左視圖，調(diào)節(jié)板8安裝在縱軸上，氣爪5固定在調(diào)節(jié)板8上，拾取臂6設(shè)置在氣爪5上，氣爪5上設(shè)置有傳感器7，氣爪5控制拾取臂6的開合，傳感器7可實(shí)時(shí)檢測(cè)拾取臂6的打開、抓件、無件三種狀態(tài)。
[0031]圖6是本發(fā)明之晶圓夾持示意圖，晶圓10由拾取臂6上的卡爪9夾持。
[0032]圖7是本發(fā)明之調(diào)節(jié)板結(jié)構(gòu)示意圖，其上設(shè)置有圓弧形長(zhǎng)槽孔21，通過圓弧形長(zhǎng)槽孔21可調(diào)節(jié)拾取臂6的角度，保證拾取臂6縱向垂直抓取晶圓，以保證拾取臂6抓取的可靠性;拾取臂6的下部設(shè)置有卡爪9，卡爪9的內(nèi)側(cè)設(shè)置有卡槽，卡槽的尺寸與晶圓尺寸配合設(shè)置。
[0033]圖8所示為本發(fā)明之?dāng)[動(dòng)結(jié)構(gòu)的安裝示意圖，擺動(dòng)機(jī)構(gòu)4設(shè)置在甩干縱軸17上，其由伺服電機(jī)18驅(qū)動(dòng)，擺動(dòng)機(jī)構(gòu)4的輸出軸安裝有法蘭板19，氣爪安裝板20固定在法蘭板19上，擺動(dòng)機(jī)構(gòu)4帶動(dòng)固定在氣爪安裝板20上的拾取臂6旋轉(zhuǎn)一定角度。
[0034]擺動(dòng)結(jié)構(gòu)4由伺服電機(jī)18驅(qū)動(dòng)，法蘭板19固定在伺服電機(jī)18的輸出軸上，氣爪安裝板20安裝在法蘭板19上。伺服電機(jī)18帶動(dòng)固定在氣爪安裝板20上的拾取臂6旋轉(zhuǎn)一定角度，擺動(dòng)機(jī)構(gòu)4可將拾取臂6夾持的晶圓由豎直方向變換成水平方向。這樣，拾取臂6夾持的晶圓1可實(shí)現(xiàn)豎直方向與水平方向的變化，以增加晶圓清洗工藝布局的靈活性。
[0035]所述氣爪5上設(shè)置有傳感器7，其為光電傳感器。圖9是拾取臂夾持晶圓的結(jié)構(gòu)示意圖，傳感器7設(shè)置在一只拾取臂6上，而擋片22設(shè)置在另一只拾取臂6上。當(dāng)拾取臂6夾持晶圓時(shí)，氣爪5向內(nèi)移動(dòng)，在下端晶圓10的作用下，拾取臂6之間存在一定的間隙，擋片22未擋住傳感器7，此時(shí)，晶圓1被夾持。
[0036]圖10是拾取臂未夾持晶圓的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖所示，拾取臂6下部沒有晶圓10，則拾取臂6向內(nèi)移動(dòng)，擋片22擋住傳感器7，此時(shí)，晶圓10未被夾持。晶圓搬運(yùn)裝置通過傳感器7的信號(hào)不同，判定晶圓10是否被夾持。此時(shí)，擋片22擋住了傳感器7，如圖11為拾取臂未夾持晶圓時(shí)傳感器與擋片的俯視圖。
[0037]本發(fā)明還公開了晶圓搬運(yùn)裝置的使用方法，包括以下步驟:
SI，根據(jù)晶圓清洗工藝，確定晶圓搬運(yùn)裝置中的橫軸、縱軸的數(shù)量；
S2，根據(jù)晶圓尺寸，設(shè)置拾取臂6的結(jié)構(gòu)，并將其固定在氣爪5的下部；
具體的，根據(jù)晶圓尺寸，設(shè)置位于拾取臂6下部卡爪9的尺寸，使晶圓與卡爪9貼合緊密。
[0038]S3，搭建晶圓搬運(yùn)裝置，并調(diào)整固定在氣爪5上的拾取臂6的角度；
S4，根據(jù)晶圓清洗現(xiàn)場(chǎng)，設(shè)置橫軸、縱軸的位置及縱軸、氣爪5的移動(dòng)周期；
S5，啟動(dòng)晶圓搬運(yùn)裝置，通過氣爪5對(duì)搬運(yùn)過程進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
[0039]具體的，通過氣爪5上的傳感器7對(duì)搬運(yùn)過程進(jìn)行監(jiān)測(cè)，監(jiān)測(cè)拾取臂6的打開、抓片、無片等狀態(tài)。
[0040]下面結(jié)合本實(shí)施例，具體說明晶圓搬運(yùn)裝置的使用方法，本實(shí)施例中，基板I上設(shè)置有三套橫軸，g卩，清洗橫軸2、刷洗橫軸14及甩干橫軸15;橫軸上設(shè)置有四套縱軸，S卩，清洗縱軸3、刷洗縱軸16及甩干縱軸17，清洗縱軸3設(shè)置在清洗橫軸2上，一對(duì)刷洗縱軸16設(shè)置在刷洗橫軸14上，甩干縱軸17設(shè)置在甩干橫軸15上。
[0041]清洗橫軸2上的清洗縱軸3對(duì)應(yīng)晶圓清洗單元，刷洗橫軸14上的一對(duì)刷洗縱軸16對(duì)應(yīng)晶圓的刷洗單兀，用干橫軸15上的用干縱軸17對(duì)應(yīng)晶圓的用干單兀。
[0042]縱軸上設(shè)置的拾取臂6可實(shí)現(xiàn)晶圓的抓取，并搬運(yùn)至下一個(gè)工序，其中，甩干橫軸15上的一套甩干縱軸17設(shè)置有擺動(dòng)機(jī)構(gòu)4，其可將晶圓由豎直方向變換為水平方向，拾取臂6夾持的晶圓1直接放置在甩干單元上，實(shí)現(xiàn)晶圓的甩干。
[0043]本申請(qǐng)?zhí)峁┑木A搬運(yùn)裝置應(yīng)用于晶圓清洗工位之間的轉(zhuǎn)移，其結(jié)構(gòu)緊湊，工藝布局靈活，搬運(yùn)效率高，能夠有效避免搬運(yùn)過程中的交叉污染問題，保證晶圓的清洗效果。
[0044]本發(fā)明不局限于上述實(shí)施方式，任何人在本發(fā)明的啟示下都可得出其他各種形式的產(chǎn)品，但不論在其形狀或結(jié)構(gòu)上作任何變化，凡是具有與本申請(qǐng)相同或相近似的技術(shù)方案，均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于:包括基板(I)，水平設(shè)置在基板(I)上的橫軸，豎直設(shè)置在橫軸上的縱軸，以及設(shè)置在縱軸上的氣爪(5)和設(shè)置在氣爪(5)上的拾取臂(6);所述橫軸為設(shè)置在基板(I)上的清洗橫軸(2)、刷洗橫軸(14)及甩干橫軸(15);所述縱軸為設(shè)置在清洗橫軸(2)上的沿清洗橫軸(2)水平移動(dòng)的清洗縱軸(3)、設(shè)置在刷洗橫軸(14)上的沿刷洗橫軸(14)水平移動(dòng)的刷洗縱軸(16)以及設(shè)置在甩干橫軸(15)上的沿甩干橫軸(15)水平移動(dòng)的甩干縱軸(17);所述氣爪(5)設(shè)置在縱軸上并且沿縱軸豎向移動(dòng)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于，所述清洗縱軸(3)設(shè)有一個(gè)，刷洗縱軸(16)設(shè)有兩個(gè)，甩干縱軸(17)設(shè)有一個(gè)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于，所述清洗縱軸(3)和刷洗縱軸(16)上均設(shè)置有沿清洗縱軸(3)和刷洗縱軸(16)豎向移動(dòng)的調(diào)節(jié)板(8)，與清洗縱軸(3)和刷洗縱軸(16)對(duì)應(yīng)的氣爪(5)連接在調(diào)節(jié)板(8)上。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)板(8)上設(shè)置有調(diào)節(jié)拾取臂(6)角度用的圓弧形長(zhǎng)槽孔(21)，所述氣爪(5)通過圓弧形長(zhǎng)槽孔(21)連接在調(diào)節(jié)板(8)上。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于，所述甩干縱軸(17)上設(shè)置有沿甩干縱軸(17)豎向移動(dòng)的擺動(dòng)機(jī)構(gòu)(4)，與甩干縱軸(17)對(duì)應(yīng)的氣爪(5)連接在擺動(dòng)機(jī)構(gòu)(4)上。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于，所述擺動(dòng)機(jī)構(gòu)(4)包括沿甩干縱軸(17)豎向移動(dòng)的伺服電機(jī)(18)，以及設(shè)在伺服電機(jī)(18)的輸出軸上的法蘭板(19)，與甩干縱軸(17)對(duì)應(yīng)的氣爪(5)上設(shè)有氣爪安裝板(20)，氣爪安裝板(20)固定在法蘭板(19)上，擺動(dòng)機(jī)構(gòu)(4)帶動(dòng)固定在氣爪安裝板(20)上的拾取臂(6)旋轉(zhuǎn)。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于，所述氣爪(5)上設(shè)置有傳感器(7)，其為光電型傳感器。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓搬運(yùn)裝置，其特征在于，所述拾取臂(6)的下部設(shè)置有卡爪(9)，卡爪(9)的內(nèi)側(cè)設(shè)置有卡槽，卡槽的尺寸與晶圓尺寸配合設(shè)置。9.使用權(quán)利要求1?8中任意一項(xiàng)所述晶圓搬運(yùn)裝置的方法，其特征在于，包括以下步驟: SI，根據(jù)晶圓清洗工藝，確定晶圓搬運(yùn)裝置中的橫軸、縱軸的數(shù)量； S2，根據(jù)晶圓尺寸，設(shè)置拾取臂(6)的結(jié)構(gòu)，并將其固定在氣爪(5)的下部； S3，搭建晶圓搬運(yùn)裝置，并調(diào)整固定在氣爪(5)上的拾取臂(6)的角度； S4，根據(jù)晶圓清洗現(xiàn)場(chǎng)，設(shè)置橫軸、縱軸的位置及縱軸、氣爪(5)的移動(dòng)周期； S5，啟動(dòng)晶圓搬運(yùn)裝置，通過氣爪(5 )對(duì)搬運(yùn)過程進(jìn)行監(jiān)測(cè)。
【文檔編號(hào)】H01L21/677GK105870045SQ201610287822
【公開日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年5月4日
【發(fā)明人】費(fèi)玖海, 張志軍, 劉丹, 史霄
【申請(qǐng)人】中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所