0為本申請實施例提供的另一種制作凸起結(jié)構(gòu)方法的流程示意圖，該方法包括:
[0104]步驟S51:在陽極層表面形成介質(zhì)層；
[0105]步驟S52:采用具有不同透光率的掩膜版進行一次光刻工藝，同時形成所述像素隔離結(jié)構(gòu)以及所述凸起結(jié)構(gòu)。
[0106]該實施方式中，采用一層介質(zhì)層，通過該具有不同透光率的掩膜版，進行一次光刻即可同時形成所述像素隔離結(jié)構(gòu)以及所述凸起結(jié)構(gòu)，該實施方式制備如圖5a所示的顯示面板。
[0107]通過上述描述可知，本申請實施例所述制作方法通過現(xiàn)有的半導(dǎo)體制作工藝即可形成上述實施例所述的顯示面板，制作工藝簡單，制作成本較低。
[0108]對所公開的實施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。
【主權(quán)項】
1.一種顯示面板，其特征在于，包括: 基板； 設(shè)置在所述基板同一側(cè)的陽極層以及陰極層，所述陽極層以及陰極層在垂直于所述基板的方向上相對設(shè)置;所述陽極層設(shè)置在所述基板與所述陰極層之間，且所述陽極層分割為多個陽極； 設(shè)置上在所述陽極層與所述陰極層之間的發(fā)光功能層，所述發(fā)光功能層包括至少一層子功能層;所述發(fā)光功能層劃分為成陣列排布的多個像素單元;在垂直于所述基板的方向上，所述像素單元與所述陽極一一相對設(shè)置； 其中，至少兩個在第一方向上相鄰的像素單元之間設(shè)置有隔斷結(jié)構(gòu);所述隔斷結(jié)構(gòu)使得至少一層子功能層在所述兩個像素單元之間斷開;所述第一方向平行于所述基板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，在所述第一方向上相鄰的兩個所述像素單元之間具有像素定義結(jié)構(gòu)； 其中，所述陽極包括:發(fā)光區(qū)；在垂直于所述基板的方向上，所述像素定義結(jié)構(gòu)在所述基板表面的投影與所述發(fā)光區(qū)在所述基板表面的投影不交疊。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，在垂直于所述基板的方向上，所述隔斷結(jié)構(gòu)在所述基板表面的投影與所述發(fā)光區(qū)在所述基板表面的投影不交疊。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述隔斷結(jié)構(gòu)還用于使得所述陰極層在所述兩個像素單元之間斷開。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述隔斷結(jié)構(gòu)沿第二方向延伸，所述第二方向垂直于所述第一方向； 其中，所述顯示面板包括顯示區(qū)；所述隔斷結(jié)構(gòu)貫穿在所述第一方向上相鄰的兩個像素單元的相對區(qū)域。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板，其特征在于，所述隔斷結(jié)構(gòu)貫穿所述顯示區(qū)。7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的顯示面板，其特征在于，所述隔斷結(jié)構(gòu)是設(shè)置在兩個像素單元的同一層子功能層之間的開口；所述開口位于所述像素定義結(jié)構(gòu)背離所述基板的一側(cè)。8.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的顯示面板，其特征在于，所述隔斷結(jié)構(gòu)是設(shè)置在兩個像素單元之間的凸起結(jié)構(gòu);所述凸起結(jié)構(gòu)位于所述像素定義結(jié)構(gòu)背離所述基板的一側(cè);所述凸起結(jié)構(gòu)用于使得所述兩個像素單元的陰極相互隔斷以及發(fā)光功能層相互隔斷。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述像素單元包括第一顏色像素單元，在所述第一方向上，所述第一顏色像素單元與兩側(cè)相鄰的其他像素單元之間設(shè)置有所述隔斷結(jié)構(gòu)。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述第一方向上相鄰的兩個像素單元之間的距離小于預(yù)設(shè)距離。11.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括:如權(quán)利要求1-10任一項所述的顯示面板。12.—種制作方法，用于制作如權(quán)利要求1-10任一項所述的顯示面板，其特征在于，該制作方法包括: 提供一基板； 在所述基板表面形成陽極層； 圖案化所述陽極層，形成多個成陣列排布的陽極； 在圖案化的陽極層表面形成發(fā)光功能層； 在所述發(fā)光功能層表面形成陰極層； 其中，所述發(fā)光功能層包括至少一層子功能層;所述發(fā)光功能層劃分為成陣列排布的多個像素單元;在垂直于所述基板的方向上，所述像素單元與所述陽極一一相對設(shè)置;在第一方向上相鄰的兩個像素單元之間設(shè)置有隔斷結(jié)構(gòu);所述隔斷結(jié)構(gòu)使得至少一層子功能層在所述兩個像素單元之間斷開;所述第一方向平行于所述基板。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述在圖案化的陽極層表面形成發(fā)光功能層之前，還包括: 在所述陽極層的一側(cè)形成像素定義層； 圖案化所述像素定義層，以暴露出對應(yīng)所述像素單元的至少部分所述陽極層。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制作方法，其特征在于，設(shè)置有所述隔斷結(jié)構(gòu)的子功能層的形成過程包括: 通過蒸鍍工藝，采用設(shè)定形狀的掩膜版形成所述子功能層； 其中，所述掩膜版包括沿第二方向延伸的條形遮擋區(qū)域，在蒸鍍形成所述子功能層時，所述條形遮擋區(qū)域用于在所述子功能層上形成開口。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制作方法，其特征在于，所述在所述發(fā)光功能層表面形成陰極層包括: 通過蒸鍍工藝，采用所述掩膜版在所述發(fā)光功能層表面形成所述陰極層； 其中，在蒸鍍形成所述陰極層時，所述條形遮擋區(qū)域用于在所述陰極層上形成開口；在垂直于所述基板的方向上，所述陰極層上的開口與所述子功能層上的開口相對設(shè)置。16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制作方法，其特征在于，所述在所述發(fā)光功能層表面形成陰極層包括: 通過蒸鍍工藝，在所述發(fā)光功能層表面形成陰極層。17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述在圖案化的陽極層表面形成發(fā)光功能層，在所述發(fā)光功能層表面形成陰極層包括: 在所述陽極層表面形成像素隔離結(jié)構(gòu)以及位于所述像素隔離結(jié)構(gòu)表面的凸起結(jié)構(gòu)；通過蒸鍍工藝，在所述基板設(shè)置有所述陽極層的一側(cè)形成發(fā)光功能層以及陰極層，所述發(fā)光功能層位于所述陰極層與所述陽極層之間； 其中，所述凸起結(jié)構(gòu)用于使得所述發(fā)光功能層以及所述陰極層在與所述凸起結(jié)構(gòu)相對的位置處斷開。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的制作方法，其特征在于，所述在所述陽極層表面形成像素隔離結(jié)構(gòu)以及位于所述像素隔離結(jié)構(gòu)表面的凸起結(jié)構(gòu)包括: 在所述陽極層表面形成第一介質(zhì)層； 通過第一次光刻工藝圖案化所述第一介質(zhì)層，形成像素隔離結(jié)構(gòu)； 在所述像素隔離結(jié)構(gòu)表面形成第二介質(zhì)層； 通過第二次光刻工藝圖案化所述第二介質(zhì)層，形成所述凸起結(jié)構(gòu)。19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的制作方法，其特征在于，所述在所述陽極層表面形成像素隔離結(jié)構(gòu)以及位于所述像素隔離結(jié)構(gòu)表面的凸起結(jié)構(gòu)包括: 在陽極層表面形成介質(zhì)層； 采用具有不同透光率的掩膜版進行一次光刻工藝，同時形成所述像素隔離結(jié)構(gòu)以及所述凸起結(jié)構(gòu)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種顯示面板、電子設(shè)備以及制作方法，該顯示面板包括：基板；設(shè)置在基板同一側(cè)的陽極層以及陰極層，陽極層以及陰極層在垂直于基板的方向上相對設(shè)置；陽極層設(shè)置在所述基板與所述陰極層之間，且陽極層分割為多個陽極；設(shè)置上在所述陽極層與所述陰極層之間的發(fā)光功能層，所述發(fā)光功能層包括至少一層子功能層；所述發(fā)光功能層劃分為成陣列排布的多個像素單元；在垂直于所述基板的方向上，所述像素單元與所述陽極一一相對設(shè)置；至少兩個在第一方向上相鄰的像素單元之間設(shè)置有隔斷結(jié)構(gòu)；所述隔斷結(jié)構(gòu)使得至少一層子功能層在所述兩個像素單元之間斷開；所述第一方向平行于所述基板。該顯示面板避免了泄漏發(fā)光問題，保證了圖像顯示的效果。
【IPC分類】H01L27/32, H01L21/77
【公開號】CN105552107
【申請?zhí)枴緾N201610112703
【發(fā)明人】熊志勇, 濱田佑次
【申請人】上海天馬有機發(fā)光顯示技術(shù)有限公司, 天馬微電子股份有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2016年2月29日