熔點(diǎn)合金材料為銦錫鉍鋅合金材料，所述銦錫鉍鋅合金材料的熔點(diǎn)在50°C到60°C之間，所述銦錫秘鋅合金材料包括如下質(zhì)量百分含量的組分:銦46%?50% ;錫 12 ?20% ;鉍 28 ?42% ;鋅 O ?10%。
[0102]優(yōu)選的，所述銦錫鉍鋅合金材料包括如下質(zhì)量百分含量的組分:1η(銦)50% ;Sn(錫)16% ;Bi(鉍)34% ;Zn(鋅)0%。
[0103]優(yōu)選的，所述銦錫鉍鋅合金材料包括如下質(zhì)量百分含量的組分:1η(銦)56.5% ;Sn(錫)12% ;Bi(鉍)31% ;Zn(鋅)0.5%。
[0104]如圖3所示，所述柔性顯示器件100包括長(zhǎng)寬比相對(duì)較低的第一導(dǎo)電圖形130和長(zhǎng)寬比相對(duì)較高的第二導(dǎo)電圖形150，所述第一導(dǎo)電圖形130由普通金屬材料制成，所述第二導(dǎo)電圖形150由低熔點(diǎn)合金材料制成。
[0105]本實(shí)施例與實(shí)施例一不同之處在于，所述柔性顯示器件100的第二導(dǎo)電圖形150由低熔點(diǎn)合金材料制成，而不是采用自修復(fù)型導(dǎo)電膠。
[0106]【實(shí)施例三】
[0107]請(qǐng)參考圖4，其為本發(fā)明實(shí)施例三的柔性顯示器件的制造方法的工藝流程圖。如圖4所示，所述柔性顯示器件的制造方法包括:
[0108]步驟一:提供一柔性基板；
[0109]步驟二:在所述柔性基板上形成顯示器件層；
[0110]步驟三:在所述顯示器件層上形成第一導(dǎo)電圖形；
[0111]步驟四:在所述顯示器件層和第一導(dǎo)電圖形上形成第一介電絕緣層，對(duì)所述第一介電絕緣層進(jìn)行刻蝕以形成溝槽；
[0112]步驟五:在所述溝槽中形成第二導(dǎo)電圖形；
[0113]其中，所述第一導(dǎo)電圖形由自修復(fù)導(dǎo)電材料制成，所述第二導(dǎo)電圖形由非自修復(fù)導(dǎo)電材料制成。
[0114]下面將結(jié)合具體實(shí)施例和附圖5，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)闡述。
[0115]首先，提供一柔性基板210。本實(shí)施例中，所述柔性基板210為塑料基板。在其他實(shí)施例中，所述柔性基板210也可以采用其他柔性材質(zhì)，例如樹脂或者橡膠等，只要所述柔性基板210作為柔性顯示器的外殼符合柔軟度的要求即可。
[0116]接著，在所述柔性基板210上形成顯示器件層220。所述顯示器件層220包括柵極、柵極絕緣層、有源層、源極和漏極，所述柵極、柵極絕緣層、有源層、源極和漏極分別通過不同的構(gòu)圖工藝制成。其中，所述柵極、源極和漏極均采用導(dǎo)電材料制成，例如鉬(Mo)、鉬鋁鉬(Mo/Al/Mo)、鈦(Ti)、鈦鋁鈦(Ti/Al/Ti)等金屬材料。所述有源層的材料采用多晶硅或銦鎵鋅氧化物(indium gallium zinc oxide，簡(jiǎn)稱IGZ0)。所述柵極絕緣層采用透明非晶氧化物制成，例如二氧化硅(Si02)、氮化硅(SiNx)或二氧化硅(Si02)與氮化硅(SiNx)的組合物等。
[0117]然后，采用自修復(fù)導(dǎo)電材料在所述顯示器件層220上形成第一導(dǎo)電圖形230。形成第一導(dǎo)電圖形230的具體過程包括:首先，通過噴墨打印工藝或旋涂工藝在所述顯示器件層220上形成自修復(fù)型導(dǎo)電膠層；接著，通過光刻工藝在所述自修復(fù)型導(dǎo)電膠層上形成圖形化的光阻層；然后，以所述圖形案化的光阻層為掩膜對(duì)所述自修復(fù)型導(dǎo)電膠層進(jìn)行刻蝕，以形成第一導(dǎo)電圖形230。
[0118]本實(shí)施例中，所述自修復(fù)導(dǎo)電材料為自修復(fù)型導(dǎo)電膠，所述自修復(fù)型導(dǎo)電膠能夠自動(dòng)修復(fù)因外力破壞產(chǎn)生的膠體微裂紋。所述自修復(fù)型導(dǎo)電膠包括填充有銀納米線的導(dǎo)電膠、含有多孔炭材料的導(dǎo)電膠或含有銦的熱可修復(fù)型導(dǎo)電膠。
[0119]其中，所述填充有銀納米線的導(dǎo)電膠是核殼結(jié)構(gòu)的納米粒子，所述核殼結(jié)構(gòu)的納米粒子的殼為聚苯乙烯，所述核殼結(jié)構(gòu)的納米粒子的核為分散有銀納米線的聚硫醇與二甲基苯胺的混合物。所述填充有銀納米線的導(dǎo)電膠制備方法采用乳液聚合法，通過乳液聚合法將核殼結(jié)構(gòu)的納米粒子分散在填充有銀納米線的各項(xiàng)同性導(dǎo)電膠的膠體中。
[0120]所述含有多孔炭材料的導(dǎo)電膠的成分包括環(huán)氧樹脂、固化促進(jìn)劑、環(huán)氧稀釋劑份、乳化劑、含孔碳材料粉末、去離子水和囊壁材料，所述含有多孔炭材料的導(dǎo)電膠的制備方法采用乳液聚合法。
[0121]所述含有銦的熱可修復(fù)型導(dǎo)電膠的成分包括環(huán)氧樹脂、片狀銀粉、固化劑、固化促進(jìn)劑、聚甲基丙烯酸酯微粉、銦填料和偶聯(lián)劑等材料，所述含有銦的熱可修復(fù)型導(dǎo)電膠的通過固固混合和固液混合工藝制備而成。其中，所述含有銦的熱可修復(fù)型導(dǎo)電膠，在加熱到150 °C時(shí)可自動(dòng)修復(fù)受損膠體。
[0122]形成第一導(dǎo)電圖形230之后，在所述第一導(dǎo)電圖形230上形成金屬擴(kuò)散阻擋層260。如圖5所示，所述金屬擴(kuò)散阻擋層260包覆在所述第一導(dǎo)電圖形230上，將所述自修復(fù)型導(dǎo)電膠封閉住。
[0123]此后，在所述金屬擴(kuò)散阻擋層260上形成第一介電絕緣層240，并對(duì)所述第一介電絕緣層240進(jìn)行刻蝕以形成溝槽。所述第一介電絕緣層240能夠保護(hù)其下面的第一導(dǎo)電圖形230，避免所述第一導(dǎo)電圖形230與后續(xù)形成的第二導(dǎo)電圖形250短路。
[0124]之后，采用非自修復(fù)導(dǎo)電材料在所述溝槽中形成第二導(dǎo)電圖形250ο形成第二導(dǎo)電圖形250的具體過程包括:首先，通過濺鍍工藝、化學(xué)氣相沉積工藝或旋涂工藝在所述第一介電絕緣層240上及溝槽中形成非自修復(fù)導(dǎo)電材料層；接著，通過光刻工藝在所述非自修復(fù)導(dǎo)電材料層上形成圖形化的光阻層；然后，以所述圖形案化的光阻層為掩膜對(duì)所述非自修復(fù)導(dǎo)電材料層進(jìn)行刻蝕，去除所述溝槽外的非自修復(fù)導(dǎo)電材料層，以形成第二導(dǎo)電圖形250。
[0125]其中，所述非自修復(fù)導(dǎo)電材料為鉬(Mo)、鉬鋁鉬(Mo/Al/Mo)、鈦(Ti)、鈦鋁鈦(Ti/Al/Ti)等金屬材料。
[0126]所述第一導(dǎo)電圖形230與第二導(dǎo)電圖形250都是通過一次構(gòu)圖工藝形成的，所述第一導(dǎo)電圖形230的線寬相對(duì)較小、長(zhǎng)度相對(duì)較長(zhǎng)(長(zhǎng)寬比相對(duì)較高)，所述第二導(dǎo)電圖形250的線寬相對(duì)較大、長(zhǎng)度相對(duì)較短(長(zhǎng)寬比相對(duì)較低)。
[0127]形成第二導(dǎo)電圖形250之后，在所述第二導(dǎo)電圖形250上依次形成易流動(dòng)的介電層270和第二介電絕緣層280。
[0128]在第二介電絕緣層280之前形成易流動(dòng)的介電層270，能夠使得后續(xù)形成的第二介電絕緣層280的表面更加平整，進(jìn)而平坦化柔性顯示器件的表面。
[0129]本實(shí)施例中，所述第一介電絕緣層240和第二介電絕緣層280均由氧化物、氮化物或者氧氮化合物制成，所述易流動(dòng)的介電層270由硼磷硅玻璃(BPTEOS)制成。
[0130]后續(xù)按照現(xiàn)有的工藝在所述第二介電絕緣層280上完成OLED發(fā)光器件的蒸鍍或者液晶材料的填充，之后進(jìn)行切割和封裝，從而形成完整的柔性顯示器件200。所述柔性顯示器件200包括:柔性基板210 ;形成于所述柔性基板210上的顯示器件層220 ;形成于所述顯示器件層220的第一導(dǎo)電圖形230 ;形成于在所述顯示器件層220和第一導(dǎo)電圖形230上的第一介電絕緣層240 ;形成于所述第一介電絕緣層240中的溝槽；形成于所述溝槽中的第二導(dǎo)電圖形250。
[0131]如圖5所示，所述柔性顯示器件200還包括:形成于所述第一導(dǎo)電圖形230上的金屬擴(kuò)散阻擋層260，所述金屬擴(kuò)散阻擋層260位于所述第一導(dǎo)電圖形230與所述第一介電絕緣層240之間或所述顯示器件層220與第一介電絕緣層240之間。
[0132]如圖5所示，所述柔性顯示器件200還包括:形成于所述第二導(dǎo)電圖形250上的易流動(dòng)的介電層270和第二介電絕緣層280，所述易流動(dòng)的介電層270位于所述第二導(dǎo)電圖形250與第二介電絕緣層280之間或所述第一介電絕緣層240與第二介電絕緣層280之間。
[0133]本實(shí)施例中，所述柔性顯示器件200包括長(zhǎng)寬比相對(duì)較高的第一導(dǎo)電圖形230和長(zhǎng)寬比相對(duì)較低的第二導(dǎo)電圖形250，所述第一導(dǎo)電圖形230由自修復(fù)型導(dǎo)電膠制成，所述第二導(dǎo)電圖形250由鉬(Mo)、鉬鋁鉬(Mo/Al/Mo)、鈦(Ti)、鈦鋁鈦(Ti/Al/Ti)等普通金屬材料制成，所述第一介電絕緣層240和第二介電絕緣層280均由氧化物、氮化物或者氧氮化合物制成，所述易流動(dòng)的介電層270由硼磷硅玻璃(BPTEOS)制成。
[0134]本實(shí)施例中，所述第一導(dǎo)電圖形230包括交叉設(shè)置且相互獨(dú)立的柵線和數(shù)據(jù)線，所述柔性顯示器件200的柵線和數(shù)據(jù)線均為自修復(fù)金屬線，所述自修復(fù)金屬線在斷裂后能夠?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)修復(fù)。所述第二導(dǎo)電圖形250包括金屬焊墊(Pad)等長(zhǎng)寬比相對(duì)較低的器件。
[0135]【實(shí)施例四】
[0136]請(qǐng)參考圖4，其為本發(fā)明實(shí)施例三的柔性顯示器件的制造方法的工藝流程圖。如圖4所示，所述柔性顯示器件的制造方法包括:
[0137]步驟一:提供一柔性基板；
[0138]步驟二:在所述柔性基板上形成顯示器件層；
[0139]步驟三:在所述顯示器件層上形成第一導(dǎo)電圖形；
[0140]步驟四:在所述顯示器件層和第一導(dǎo)電圖形上形成第一介電絕緣層，對(duì)所述第一介電絕緣層進(jìn)行刻蝕以形成溝槽；
[0141]步驟五:在所述溝槽中形成第二導(dǎo)電圖形；
[0142]其中，所述第一導(dǎo)電圖形由自修復(fù)導(dǎo)電材料制成，所述第二導(dǎo)電圖形由非自修復(fù)導(dǎo)電材料制成。
[0143]具體的，本實(shí)施例中的步驟一、步驟二、步驟四、步驟五的內(nèi)容與實(shí)施例三中的步驟一、步驟二、步驟四、步驟五的內(nèi)容相同，在此不再一一贅述，具體內(nèi)容和相應(yīng)的參數(shù)請(qǐng)參見實(shí)施例三中的步驟一、步驟二、步驟四、步驟五。本實(shí)施例的目的