本公開(kāi)涉及激光裝置、激光裝置的波長(zhǎng)控制方法和電子器件的制造方法。
背景技術(shù):
1、近年來(lái),在半導(dǎo)體曝光裝置中,隨著半導(dǎo)體集成電路的微細(xì)化和高集成化,要求分辨率的提高。因此,從曝光用光源發(fā)射的光的短波長(zhǎng)化得以發(fā)展。例如,作為曝光用的氣體激光裝置,使用輸出波長(zhǎng)大約為248nm的激光的krf準(zhǔn)分子激光裝置、以及輸出波長(zhǎng)大約為193nm的激光的arf準(zhǔn)分子激光裝置。
2、krf準(zhǔn)分子激光裝置和arf準(zhǔn)分子激光裝置的自然振蕩光的譜線寬度較寬,為350~400pm。因此,在利用使krf和arf激光這種紫外線透過(guò)的材料構(gòu)成投影透鏡時(shí),有時(shí)產(chǎn)生色差。其結(jié)果,分辨率可能降低。因此,需要將從氣體激光裝置輸出的激光的譜線寬度窄帶化到能夠無(wú)視色差的程度。因此,在氣體激光裝置的激光諧振器內(nèi),為了使譜線寬度窄帶化,有時(shí)具有包含窄帶化元件(標(biāo)準(zhǔn)具、光柵等)的窄帶化模塊(line?narrowing?module:lnm)。下面,將譜線寬度被窄帶化的氣體激光裝置稱(chēng)為窄帶化氣體激光裝置。
3、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
4、專(zhuān)利文獻(xiàn)
5、專(zhuān)利文獻(xiàn)1:美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)第2021/0226414號(hào)
6、專(zhuān)利文獻(xiàn)2:國(guó)際公開(kāi)第2021/015919號(hào)
7、專(zhuān)利文獻(xiàn)3:國(guó)際公開(kāi)第2020/231946號(hào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本公開(kāi)的1個(gè)觀點(diǎn)的激光裝置具有:波長(zhǎng)可變的第1半導(dǎo)體激光器,其輸出連續(xù)振蕩的第1激光;第1放大器,其進(jìn)行第1激光的脈沖化和放大,而輸出第1脈沖激光;波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換系統(tǒng),其通過(guò)使用第1脈沖激光的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換,而輸出第2脈沖激光;準(zhǔn)分子放大器,其對(duì)第2脈沖激光進(jìn)行放大,而輸出第3脈沖激光;監(jiān)視器模塊,其計(jì)測(cè)第3脈沖激光的波長(zhǎng);以及處理器,其周期性地變更第3脈沖激光的目標(biāo)波長(zhǎng),根據(jù)以相同的目標(biāo)波長(zhǎng)輸出的第3脈沖激光的波長(zhǎng)的計(jì)測(cè)值,控制用于對(duì)第1半導(dǎo)體激光器的波長(zhǎng)進(jìn)行變更的電流,以使第3脈沖激光的波長(zhǎng)成為目標(biāo)波長(zhǎng)。
2、本公開(kāi)的1個(gè)觀點(diǎn)的激光裝置的波長(zhǎng)控制方法包含以下步驟:通過(guò)第1半導(dǎo)體激光器輸出連續(xù)振蕩的第1激光;進(jìn)行第1激光的脈沖化和放大,而輸出第1脈沖激光;通過(guò)使用第1脈沖激光的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換,而輸出第2脈沖激光;對(duì)第2脈沖激光進(jìn)行放大,而輸出第3脈沖激光;計(jì)測(cè)第3脈沖激光的波長(zhǎng);周期性地變更第3脈沖激光的目標(biāo)波長(zhǎng);以及根據(jù)以相同的目標(biāo)波長(zhǎng)輸出的第3脈沖激光的波長(zhǎng)的計(jì)測(cè)值,控制用于對(duì)第1半導(dǎo)體激光器的波長(zhǎng)進(jìn)行變更的電流,以使第3脈沖激光的波長(zhǎng)成為目標(biāo)波長(zhǎng)。
3、本公開(kāi)的1個(gè)觀點(diǎn)的電子器件的制造方法包含以下步驟:通過(guò)激光裝置生成第3脈沖激光,將第3脈沖激光輸出到曝光裝置,在曝光裝置內(nèi)在感光基板上曝光第3脈沖激光,以制造電子器件,激光裝置具有:波長(zhǎng)可變的第1半導(dǎo)體激光器,其輸出連續(xù)振蕩的第1激光;第1放大器,其進(jìn)行第1激光的脈沖化和放大,而輸出第1脈沖激光;波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換系統(tǒng),其通過(guò)使用第1脈沖激光的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換,而輸出第2脈沖激光;準(zhǔn)分子放大器,其對(duì)第2脈沖激光進(jìn)行放大,而輸出第3脈沖激光;監(jiān)視器模塊,其計(jì)測(cè)第3脈沖激光的波長(zhǎng);以及處理器,其周期性地變更第3脈沖激光的目標(biāo)波長(zhǎng),根據(jù)以相同的目標(biāo)波長(zhǎng)輸出的第3脈沖激光的波長(zhǎng)的計(jì)測(cè)值,控制用于對(duì)第1半導(dǎo)體激光器的波長(zhǎng)進(jìn)行變更的電流,以使第3脈沖激光的波長(zhǎng)成為目標(biāo)波長(zhǎng)。
1.一種激光裝置,其具有:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光裝置,其中,
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光裝置,其中,
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光裝置,其中,
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光裝置,其中,
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光裝置,其中,
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光裝置,其中,
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光裝置,其中,
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光裝置,其中,
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的激光裝置,其中,
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的激光裝置,其中,
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光裝置,其中,
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光裝置,其中,
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光裝置,其中,
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的激光裝置,其中,
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光裝置,其中,
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的激光裝置,其中,
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的激光裝置,其中,
19.一種激光裝置的波長(zhǎng)控制方法,其包含以下步驟:
20.一種電子器件的制造方法,其包含以下步驟: