技術(shù)編號:39729726
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開涉及激光裝置、激光裝置的波長控制方法和電子器件的制造方法。背景技術(shù)、近年來,在半導(dǎo)體曝光裝置中,隨著半導(dǎo)體集成電路的微細(xì)化和高集成化,要求分辨率的提高。因此,從曝光用光源發(fā)射的光的短波長化得以發(fā)展。例如,作為曝光用的氣體激光裝置,使用輸出波長大約為nm的激光的krf準(zhǔn)分子激光裝置、以及輸出波長大約為nm的激光的arf準(zhǔn)分子激光裝置。、krf準(zhǔn)分子激光裝置和arf準(zhǔn)分子激光裝置的自然振蕩光的譜線寬度較寬,為~pm。因此,在利用使krf和arf激光這種紫外線透過的材...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。