技術(shù)編號：39729726
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開涉及激光裝置、激光裝置的波長控制方法和電子器件的制造方法。背景技術(shù)、近年來，在半導(dǎo)體曝光裝置中，隨著半導(dǎo)體集成電路的微細(xì)化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，從曝光用光源發(fā)射的光的短波長化得以發(fā)展。例如，作為曝光用的氣體激光裝置，使用輸出波長大約為nm的激光的krf準(zhǔn)分子激光裝置、以及輸出波長大約為nm的激光的arf準(zhǔn)分子激光裝置。、krf準(zhǔn)分子激光裝置和arf準(zhǔn)分子激光裝置的自然振蕩光的譜線寬度較寬，為～pm。因此，在利用使krf和arf激光這種紫外線透過的材...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。