專利名稱：一種耐蝕性稀土磁體及工件的加工方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種耐蝕性的稀土磁體及工件的加工方法，尤其是涉及具有優(yōu)良耐蝕性和耐熱性保護(hù)涂層的稀土磁體及工件的加工方法。
背景技術(shù)：
NdFeB基永磁體是通過(guò)粉末冶金燒結(jié)成型的產(chǎn)品，孔隙率高、表面狀態(tài)不佳。Nd 標(biāo)準(zhǔn)電極電位比鐵還要負(fù)，在潮濕的空氣中極易被氧化，并且與空氣中的酸性物質(zhì)發(fā)生強(qiáng)烈反應(yīng)而腐蝕，形成釹的氧化物和氫化物而導(dǎo)致材料粉化，嚴(yán)重影響了材料的磁性能，因此 NdFeB基永磁體的防腐問(wèn)題一直是需要解決的主要問(wèn)題。最近NdFeB基永磁體已被廣泛的應(yīng)用于汽車馬達(dá)和電梯電機(jī)中，磁體需在熱的潮濕環(huán)境中工作，并且預(yù)期磁體在使用過(guò)程中會(huì)暴露于鹽的濕氣中，因此必須以較低的成本賦予磁體優(yōu)良的耐蝕性。另外，在馬達(dá)的制作過(guò)程中，盡管是非常短的時(shí)間，磁體會(huì)經(jīng)歷 300°C或以上溫度。在這種情況之下，磁體及其防護(hù)涂層還必須有足夠好的耐熱性。為了改善NdFeB基永磁體的耐腐蝕性，必須對(duì)磁體進(jìn)行表面處理。目前常用的表面處理方式有電鍍鎳、電泳、離子鍍鋁等。電鍍鎳因?yàn)榇嬖诒M管是少量的針孔，使得磁體在鹽霧條件下很容易生銹。電泳漆的耐濕熱性不足并且缺乏足夠的耐熱性。而離子鍍鋁通常具有良好的耐熱性和耐蝕性，但是因?yàn)樾枰笠?guī)模的設(shè)備而難以低成本的實(shí)現(xiàn)。申請(qǐng)?zhí)枮?00380100478的中國(guó)專利申請(qǐng)給出了一種稀土金屬基永磁體上的耐蝕性薄膜，并且給出了在工件上形成表面防護(hù)膜的浸潰旋涂方法。其特征在于將工件置于含有烷基硅酸脂水解聚合物和片鋅顆粒的水溶液中浸潰，然后以離心旋轉(zhuǎn)的方式去除過(guò)量粘附到稀土金屬基永磁體上的處理液，隨即在一定溫度下熱處理，從而得到一層耐蝕性的保護(hù)涂層。這層膜的厚度約為5 15 μ m，能夠耐鹽霧500h。然而含有耐蝕性保護(hù)涂層的這種稀土永磁體并不能滿足我們的目標(biāo)要求，主要體現(xiàn)在耐蝕性以及耐熱性上。在相同的膜厚條件下，需要耐鹽霧IOOOh以上或者刻痕鹽霧實(shí)驗(yàn)達(dá)到500h以上，而且磁體及其保護(hù)膜需要經(jīng)受短時(shí)300°C或以上的高溫。并且專利中所提到的旋轉(zhuǎn)浸潰方法需要專用的設(shè)備，對(duì)磁體產(chǎn)品的形狀及尺寸的限制也比較大，為大規(guī)模應(yīng)用帶來(lái)了一定的局限性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種穩(wěn)定而且方便的方法在稀土永磁體及工件的表面上形成具有優(yōu)良耐蝕性和耐熱性的保護(hù)涂層。本發(fā)明的耐蝕性稀土磁體及工件的加工方法，其特征在于所述方法包括首先將稀土磁體及工件進(jìn)行預(yù)處理；預(yù)處理完成后將磁體及工件在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰2 8分鐘；隨后將磁體及工件在常溫下靜置I 3分鐘；然后對(duì)磁體及工件表面進(jìn)行表面處理；最后將磁體及工件在180 200°C下熱處理5 60分鐘，在磁體及工件表面形成復(fù)合涂層。優(yōu)選地，所述磁體在涂敷液中浸潰的同時(shí)攪拌器對(duì)涂敷液進(jìn)行攪拌混合。
優(yōu)選地，所述預(yù)處理為對(duì)磁體及工件的表面進(jìn)行酸洗、堿性清洗或噴丸處理。優(yōu)選地，所述靜置可以在空氣中進(jìn)行，也可以在真空度小于O. 5Pa的真空環(huán)境下或保護(hù)氣體為氮?dú)饣驓鍤庵羞M(jìn)行。優(yōu)選地，所述表面處理方式為噴丸處理或振磨處理。優(yōu)選地，所述噴丸處理為采用莫氏硬度為6 8，粒度范圍為60 180目的磨料， 在壓縮空氣壓力范圍為O. 2 O. 8MPa下，對(duì)磁體表面進(jìn)行5 15分鐘噴丸，所述磨料可以是金剛砂、氧化鋁、碳化硅或氧化鋯。優(yōu)選地，所述振磨處理是將磨料和工件在振磨機(jī)中振磨O. 25 3分鐘；所述磨料可以為球狀、橢圓形、立方體、三角柱、圓柱、圓錐、三角錐、四角錐、菱形體或各種無(wú)規(guī)則形體；所述磨料的材質(zhì)可以為鐵，碳素鋼、其它的合金鋼、銅及銅合金、鋁及鋁合金、其他的各種金屬、合金或Al203、Si02、Ti02、Zr02、SiC等陶瓷、玻璃、硬質(zhì)塑料等；所述磨料可以單獨(dú)使用也可以混合使用。優(yōu)選地，所述熱處理可以在空氣中進(jìn)行，也可以在真空度不大于O. 5Pa下或保護(hù)氣體為氮?dú)饣驓鍤庵羞M(jìn)行。優(yōu)選地，在磁體及工件表面形成所述復(fù)合涂層的平均厚度為I 40微米。優(yōu)選地，所述復(fù)合涂層中含有片狀鋅粉，其微粒平均長(zhǎng)度為O. I 50微米，平均厚度為O. 01 2微米，并且鋅粉的含量不少于所述復(fù)合涂層重量的30%。經(jīng)過(guò)本發(fā)明方法處理后的磁體的耐腐蝕性能都有了很大提高，而且本方法方便簡(jiǎn)單，不需要專用的設(shè)備，可以節(jié)約成本，同時(shí)提高生產(chǎn)效率。
具體實(shí)施例方式稀土永磁體的制備由公知的技術(shù)和制造方法完成。根據(jù)本發(fā)明，對(duì)所得到的永磁體表面進(jìn)行下面的處理，在其表面上形成一層或數(shù)層保護(hù)膜，從而獲得具有優(yōu)良耐蝕性和耐熱性的稀土永磁體。整個(gè)表面處理的工藝流程是首先對(duì)磁體進(jìn)行預(yù)處理，可采用本領(lǐng)域常規(guī)的預(yù)處理工藝脫脂除油-水洗-酸洗-水洗。作為例子可采用如下方式進(jìn)行，脫脂除油通常采用氫氧化鈉溶液，且用量在10-15g/L，除油時(shí)間為1-5分鐘，水洗采用去離子水進(jìn)行沖洗，酸洗則通常采用1-10%重量百分比的稀硝酸溶液。酸洗時(shí)間則為O. 5 3分鐘。預(yù)處理完成后將磁體在涂敷液中浸潰2 8分鐘，涂敷液在磁體浸潰的過(guò)程中是用攪拌器同時(shí)進(jìn)行攪拌混合的；隨后將磁體在常溫，氣氛為空氣、真空度小于O. 5Pa下的真空環(huán)境、或保護(hù)氣體如氮?dú)狻鍤庵徐o置I 3分鐘；然后對(duì)磁體表面進(jìn)行噴丸處理或振磨處理，目的是保證膜厚均勻。這種表面處理方法使用的加工設(shè)備和裝置簡(jiǎn)單，不必特別制作專用卡具，可大批量、多件同時(shí)加工；不必單件裝卡，加工效率提高。表面噴丸工藝采用的是莫氏硬度為6 8的磨料(如金剛砂、氧化鋁、碳化硅、氧化鋯等)，其粒度范圍為60 180目，壓縮空氣壓力范圍為O. 2 O. 8MPa，噴丸時(shí)間為5 15分鐘。振磨處理工藝采用的是將材質(zhì)為如鐵，碳素鋼、其它的合金鋼、銅及銅合金、鋁及鋁合金、其他的各種金屬、合金或Al203、Si02、Ti02、Zr02、SiC等陶瓷、玻璃、硬質(zhì)塑料等的磨料和磁體一起在振磨機(jī)中振磨O. 25 3分鐘,磨料可以使用球狀、橢圓形、立方體、三角柱、圓柱、圓錐、三角錐、四角錐、菱形體、不定形體、其他的各種形狀的材料，也可以將這些材料單獨(dú)或適當(dāng)?shù)幕旌鲜褂?。作為振磨處理用磨料大小的一個(gè)例子，在磨料為球狀的情況下，其粒徑為約O. 3毫米到I毫米。最后將磁體在180 20(TC熱處理(氣氛為空氣、真空、或保護(hù)氣體如氮?dú)?、氬氣?5 60分鐘，得到具有優(yōu)良耐蝕性和耐熱性的最終產(chǎn)品。磁體產(chǎn)品在涂敷液中浸潰、 固化完成后保護(hù)膜中片狀鋅鋁粉末的重量百分比不少于復(fù)合涂層重量的30%，最佳范圍在 43 65%。本工藝具有普適性，對(duì)于在工件表面形成涂層膜也適用。上述方法同樣適用的工件指的是由鐵、碳素鋼、合金鋼、硬質(zhì)合金等制成的各種物品和部件。下面是本發(fā)明的一些具體實(shí)施例。實(shí)施例I :將磁體在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的磁體在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰8分鐘，隨后將磁體在常溫靜置3分鐘，對(duì)其表面進(jìn)行噴丸處理，工藝為莫氏硬度為6，粒度為60目的金剛砂磨料，壓縮空氣為O. 2MPa， 噴丸時(shí)間為5分鐘。然后將磁體在180°C保溫5分鐘，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為I μ m，并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為O. I μ m，厚度為O. 01 μ m，重量百分比占整個(gè)涂層的30%。分別考察磁體的耐中性鹽霧、刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I 所示。實(shí)施例2 將磁體在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的磁體在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰2min，隨后將磁體在氮?dú)獗Ｗo(hù)下常溫靜置lmin，對(duì)其表面進(jìn)行噴丸處理，工藝為莫氏硬度為8，粒度為180目的氧化鋁磨料，壓縮空氣為O. 8MPa，噴丸時(shí)間為15min。然后將磁體在200°C真空(真空度< O. 5MPa)中保溫 15min，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為5 μ m，并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為O. 5 μ m，厚度為O. 05 μ m，重量百分比占整個(gè)涂層的35%。分別考察磁體的耐中性鹽霧、 刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所示。實(shí)施例3 將磁體在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的磁體在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰5min，隨后將磁體在氬氣保護(hù)下常溫靜置 2min，對(duì)其表面進(jìn)行噴丸處理，工藝為莫氏硬度為7，粒度為120目的碳化硅磨料，壓縮空氣為O. 5MPa，噴丸時(shí)間為lOmin。然后將磁體在190°C氬氣保護(hù)下保溫lOmin，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為10 μ m，并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為I μ m，厚度為
O.I μ m，重量百分比占整個(gè)涂層的40 %。分別考察磁體的耐中性鹽霧、刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所示。實(shí)施例4 將磁體在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的磁體在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰3min，隨后將磁體在真空環(huán)境(真空度
<O. 5MPa)中常溫靜置I. 5min，對(duì)其表面進(jìn)行噴丸處理，工藝為莫氏硬度為6，粒度為150 目的氧化鋯磨料，壓縮空氣為O. 4MPa，噴丸時(shí)間為8min。然后將磁體在180°C氮?dú)獗Ｗo(hù)下保溫8min，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為15 μ m，并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為10 μ m，厚度為O. 5 μ m，重量百分比占整個(gè)涂層的43%。分別考察磁體的耐中性鹽霧、 刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所示。實(shí)施例5 將磁體在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的磁體在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰6min，隨后將磁體在常溫靜置2. 5min，對(duì)其表面進(jìn)行噴丸處理，工藝為莫氏硬度為8，粒度為90目的金剛砂磨料，壓縮空氣為O. 6MPa， 噴丸時(shí)間為12min。然后將磁體在200°C保溫12min，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為20 μ m，并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為15 μ m,厚度為I μ m,重量百分比占整個(gè)涂層的50%。分別考察磁體的耐中性鹽霧、刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所
/Jn ο實(shí)施例6 將磁體在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的磁體在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰3min，隨后將磁體在氮?dú)獗Ｗo(hù)下常溫靜置2. 5min，對(duì)其表面進(jìn)行振磨處理，工藝為將球形碳素鋼磨料和磁體在振磨機(jī)中振磨
O.25min，然后將磁體在180°C保溫5min，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為25 μ m， 并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為20 μ m,厚度為I. 5 μ m，重量百分比占整個(gè)涂層的 55%。分別考察磁體的耐中性鹽霧、刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所示。實(shí)施例7 將磁體在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的磁體在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰6min，隨后將磁體在氬氣保護(hù)下常溫靜置
2.5min,對(duì)其表面進(jìn)行振磨處理，工藝為將橢圓形銅磨料、立方體形鋁合金磨料和磁體在振磨機(jī)中振磨O. 5min，然后將磁體在190°C氬氣保護(hù)下保溫lOmin，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為30 μ m,并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為35 μ m,厚度為2 μ m,重量百分比占整個(gè)涂層的60%。分別考察磁體的耐中性鹽霧、刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所示。實(shí)施例8 將磁體在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的磁體在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰5min，隨后將磁體在真空環(huán)境(真空度
<O. 5MPa)中常溫靜置2min，對(duì)其表面進(jìn)行振磨處理，工藝為將圓柱形氧化鋁磨料、圓錐形二氧化硅磨料、三角錐形二氧化鋯磨料和磁體在振磨機(jī)中振磨lmin，然后將磁體在180°C氮?dú)獗Ｗo(hù)下保溫8min，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為35 μ m，并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為45 μ m,厚度為2 μ m,重量百分比占整個(gè)涂層的60 %。分別考察磁體的耐中性鹽霧、刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所示。實(shí)施例9 將磁體在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的磁體在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰5min，隨后將磁體常溫靜置2min，對(duì)其表面進(jìn)行振磨處理，工藝為將菱形碳化硅磨料和磁體在振磨機(jī)中振磨2min，然后將磁體在 200°C保溫12min，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為40 μ m，并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為30 μ m,厚度為2 μ m,重量百分比占整個(gè)涂層的65%。分別考察磁體的耐中性鹽霧、刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所示。實(shí)施例10 將磁體在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的磁體在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰5min，隨后將磁體在氮?dú)獗Ｗo(hù)下常溫靜置 2min,對(duì)其表面進(jìn)行振磨處理，工藝為將圓錐形二氧化硅磨料、三角錐形二氧化鋯磨料、菱形碳化硅磨料以及無(wú)規(guī)則形狀的硬質(zhì)塑料磨料和磁體在振磨機(jī)中振磨3min，然后將磁體在 200°C保溫12min，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為40 μ m，并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為50 μ m,厚度為2 μ m,重量百分比占整個(gè)涂層的60%。分別考察磁體的耐中性鹽霧、刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所示。實(shí)施例11 將Q235鋼工件在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的工件在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰6min，隨后將磁體常溫靜置2. 5min, 對(duì)其表面進(jìn)行噴丸處理，工藝為莫氏硬度為8，粒度為90目的金剛砂磨料，壓縮空氣為
O.6MPa，噴丸時(shí)間為12min。然后將磁體在200°C保溫12min，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為30 μ m,并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為15 μ m,厚度為I μ m,重量百分比占整個(gè)涂層的50%。分別考察磁體的耐中性鹽霧、刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所示。實(shí)施例12 將Q235鋼工件在12g/L的氫氧化鈉溶液中進(jìn)行脫脂除油35分鐘，采用去離子水進(jìn)行沖洗，在4%重量百分比的稀硝酸溶液進(jìn)行酸洗時(shí)間2分鐘，進(jìn)行去離子水沖洗。然后將預(yù)處理后的工件在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰5min，隨后將磁體在氮?dú)獗Ｗo(hù)下常溫靜置2min，對(duì)其表面進(jìn)行振磨處理，工藝為將圓柱形氧化鋁磨料、圓錐形二氧化硅磨料、 三角錐形二氧化鋯磨料和磁體在振磨機(jī)中振磨lmin，然后將磁體在180°C氮?dú)獗Ｗo(hù)下保溫 8min，得到最終產(chǎn)品。其中復(fù)合涂層的厚度為40 μ m，并且復(fù)合涂層中片狀鋅粉的平均長(zhǎng)度為10 μ m，厚度為2 μ m，重量百分比占整個(gè)涂層的60%。分別考察磁體的耐中性鹽霧、刻痕鹽霧水平以及耐熱性指標(biāo)。結(jié)果如表I所示。表I
權(quán)利要求
1.一種耐蝕性稀土磁體及工件的加工方法，其特征在于所述方法包括首先將稀土磁體及工件進(jìn)行預(yù)處理；預(yù)處理完成后將磁體及工件在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸潰 2 8分鐘；隨后將磁體及工件在常溫下靜置I 3分鐘；然后對(duì)磁體及工件表面進(jìn)行表面處理；最后將磁體及工件在180 20(TC下熱處理5 60分鐘，在磁體及工件表面形成復(fù)合涂層。
2.一種如權(quán)利要求I所述的加工方法，其特征在于所述磁體在涂敷液中浸潰的同時(shí)攪拌器對(duì)涂敷液進(jìn)行攪拌混合。
3.—種如權(quán)利要求I所述的加工方法，其特征在于所述預(yù)處理為對(duì)磁體及工件的表面進(jìn)行酸洗、堿性清洗或噴丸處理。
4.一種如權(quán)利要求I所述的加工方法，其特征在于所述靜置可以在空氣中進(jìn)行，也可以在真空度小于O. 5Pa的真空環(huán)境下或保護(hù)氣體為氮?dú)饣驓鍤庵羞M(jìn)行。
5.一種如權(quán)利要求I所述的加工方法，其特征在于所述表面處理方式為噴丸處理或振磨處理。
6.一種如權(quán)利要求5所述的加工方法，其特征在于所述噴丸處理為采用莫氏硬度為 6 8，粒度范圍為60 180目的磨料，在壓縮空氣壓力范圍為O. 2 O. 8MPa下，對(duì)磁體表面進(jìn)行5 15分鐘噴丸，所述磨料可以是金剛砂、氧化鋁、碳化硅或氧化鋯。
7.—種如權(quán)利要求5所述的加工方法，其特征在于所述振磨處理是將磨料和工件在振磨機(jī)中振磨O. 25 3分鐘；所述磨料可以為球狀、橢圓形、立方體、三角柱、圓柱、圓錐、 三角錐、四角錐、菱形體或各種無(wú)規(guī)則形體；所述磨料的材質(zhì)可以為鐵，碳素鋼、其它的合金鋼、銅及銅合金、鋁及鋁合金、其他的各種金屬、合金或A1203、SiO2, TiO2, ZrO2, SiC等陶瓷、 玻璃、硬質(zhì)塑料等；所述磨料可以單獨(dú)使用也可以混合使用。
8.—種如權(quán)利要求I所述的加工方法，其特征在于所述熱處理可以在空氣中進(jìn)行，也可以在真空度不大于O. 5Pa下或保護(hù)氣體為氮?dú)饣驓鍤庵羞M(jìn)行。
9.一種如權(quán)利要求1-8所述的加工方法，其特征在于在磁體及工件表面形成所述復(fù)合涂層的平均厚度為I 40微米。
10.一種如權(quán)利要求9所述的加工方法，其特征在于所述復(fù)合涂層中含有片狀鋅粉， 其微粒平均長(zhǎng)度為O. I 50微米，平均厚度為O. 01 2微米，并且鋅粉的含量不少于所述復(fù)合涂層重量的30%。
全文摘要
一種耐蝕性稀土磁體及工件的加工方法，其特征在于所述方法包括首先將稀土磁體及工件進(jìn)行預(yù)處理；預(yù)處理完成后將磁體及工件在水性環(huán)氧富鋅硅烷涂敷液中浸漬2～8分鐘；隨后將磁體及工件在常溫下靜置1～3分鐘；然后對(duì)磁體及工件表面進(jìn)行表面處理；最后將磁體及工件在180～200℃下熱處理5～60分鐘，在磁體及工件表面形成復(fù)合涂層。本發(fā)明能夠提供一種穩(wěn)定而且方便的方法在稀土永磁體及工件的表面上形成具有優(yōu)良耐蝕性和耐熱性的保護(hù)涂層。
文檔編號(hào)H01F41/02GK102610354SQ201110024629
公開日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2011年1月24日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月24日
發(fā)明者李正, 梁奕, 王湛, 胡伯平, 陳國(guó)安, 饒曉雷 申請(qǐng)人:北京中科三環(huán)高技術(shù)股份有限公司