專利名稱：搬送裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在真空氣氛下搬送例如加熱后的基板等的薄板狀 的工件的搬送裝置。
背景技術(shù)：
作為用于在真空下搬送薄板狀的工件的搬送裝置，具有例如下述 的專利文獻(xiàn)1中公開的裝置。該搬送裝置在旋轉(zhuǎn)基座上設(shè)有一對連桿 臂機構(gòu)，在這些連桿臂機構(gòu)的各個前端部上設(shè)有能夠?qū)⒁壕э@示板用
的玻璃基板等的板狀工件保持水平的柄(hand)。如果旋轉(zhuǎn)基座在固定 基座上圍繞鉛垂軸旋轉(zhuǎn)，則使一對連桿臂機構(gòu)隨之轉(zhuǎn)動，如果連桿臂 機構(gòu)進(jìn)行擺動，則使保持在柄上的板狀工件在水平面內(nèi)直線移動。從 而使板狀工件從規(guī)定位置向其他位置搬送。
作為其他的搬送機構(gòu)，具有例如下述的專利文獻(xiàn)2中公開的裝置。 在該搬送裝置的旋轉(zhuǎn)基座上固定有在連桿臂機構(gòu)擺動時用于支撐所述 柄并引導(dǎo)其沿規(guī)定方向移動的導(dǎo)軌。通過這樣的構(gòu)成，能夠使保持有 板狀工件的柄以更穩(wěn)定的姿勢直線移動。
這樣的搬送裝置，在例如液晶顯示板的制造工序中，多用于板狀 工件向各處理室的搬進(jìn)或搬出。在這樣的制造工序中，所述搬送裝置， 在例如清潔程序中的真空氣氛下搬送加熱后的玻璃基板中使用。
但是，所述的傳統(tǒng)的搬送裝置，在真空氣氛下搬送加熱后的板狀 工件時，在熱的條件方面，會無法承受其使用氣氛。即、在這樣的搬 送裝置的使用中，例如，在大氣壓氣氛氣體下設(shè)置固定基座的狀態(tài)下， 將旋轉(zhuǎn)基座設(shè)置在保持真空狀態(tài)的搬送室內(nèi)部空間內(nèi)。在板狀工件的 搬送時，如果將該加熱后的工件保持在柄上，則由于從該工件輻射的 輻射熱會導(dǎo)致與柄鄰接的連桿臂機構(gòu)變形，從而會導(dǎo)致難以確保搬送 的精度。另外，在真空氣氛下配置旋轉(zhuǎn)基座的情況下，在例如旋轉(zhuǎn)基座的 周邊等的部位設(shè)置用于保持氣密性的真空密封件。在搬送加熱后的板 狀基板的情況下，該真空密封件接受來自板狀工件的熱量，由此可能 導(dǎo)致真空密封件性能下降從而損害氣密性。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2005-186259號公報 專利文獻(xiàn)2:日本特開2005-125479號公報

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明在于提供一種在真空氣氛下搬送加熱后板狀工件時，能夠 解除或者降低受到來自該工件的熱導(dǎo)致的不方便的狀況的搬送裝置。
本發(fā)明提供的搬送裝置，其配置在真空室內(nèi)，具有固定基座、相 對于該固定基座保持為可轉(zhuǎn)動地的旋轉(zhuǎn)基座、支撐于該旋轉(zhuǎn)基座的直 線移動機構(gòu)、和支撐于該直線移動機構(gòu)的柄，其中，在上述旋轉(zhuǎn)基座 的期望的旋轉(zhuǎn)位置通過上述直線移動機構(gòu)的動作，水平保持上述柄上
載置的板狀工件并進(jìn)行搬送，其特征在于在上述旋轉(zhuǎn)基座或者上述 直線移動機構(gòu)的下表面?zhèn)鹊暮线m部位設(shè)有熱輻射面，在形成上述真空 室的壁中的與上述旋轉(zhuǎn)基座的下表面?zhèn)认鄬Φ谋诘闹辽僖徊糠稚显O(shè)有 熱吸收面。
優(yōu)選在上述旋轉(zhuǎn)基座或者上述直線移動機構(gòu)的下表面?zhèn)鹊暮线m部 位設(shè)有反射來自上述的柄側(cè)的熱的熱反射面。
優(yōu)選上述熱吸收面設(shè)于上述真空室的底面或者上述固定基座的向 上述真空面的露出面的至少一部分。
優(yōu)選設(shè)有向外部排放通過上述吸收面吸收的熱量的冷卻單元。
上述冷卻單元優(yōu)選包括以與設(shè)于上述吸收面的部件接觸的方式饒 設(shè)的制冷劑循環(huán)通路。
優(yōu)選上述直線移動機構(gòu)構(gòu)成為連接多個臂而成的連桿臂機構(gòu)，在 該連桿臂機構(gòu)的上表面?zhèn)鹊暮线m部位設(shè)有上述熱反射面，并且在上述 連桿臂機構(gòu)的下表面?zhèn)鹊暮线m部位設(shè)有上述熱輻射面。
優(yōu)選上述直線移動機構(gòu)還具有支撐在上述旋轉(zhuǎn)基座上，并且引導(dǎo) 上述柄沿規(guī)定方向移動的導(dǎo)軌，在上述導(dǎo)軌和上述柄之間設(shè)有上述熱 反射面。


圖1是本發(fā)明的搬送裝置的整體立體圖。
圖2是圖1所示的搬送裝置的側(cè)視圖。 圖3是圖1所示的搬送裝置的主視圖。 圖4是沿圖2的IV-IV線的局部截面圖。 圖5表示臂的截面構(gòu)造。
圖6是本發(fā)明的搬送裝置配置在真空室內(nèi)狀態(tài)的一例的局部截面
具體實施例方式
以下參照附圖，對本發(fā)明的搬送裝置和具有該搬送裝置的冷卻構(gòu) 造的優(yōu)選實施方式進(jìn)行具體的說明。
圖1至圖4表示本發(fā)明的搬送裝置。搬送裝置A用于搬送例如液 晶顯示板用的基板等的薄板狀工件。如圖1至圖3所示，該搬送裝置A 包括固定基座1、相對于固定基座1保持為可以繞鉛垂軸Os旋轉(zhuǎn)的旋 轉(zhuǎn)基座2、相對于旋轉(zhuǎn)基座2被支撐為可擺動的一對連桿臂機構(gòu)3A、 3B、分別支撐于連桿臂機構(gòu)3A、 3B的柄4A、 4B、用于分別在規(guī)定的 水平方向內(nèi)引導(dǎo)柄4A、 4B的兩組導(dǎo)軌5A、 5B。柄4A、 4B用于將上 述薄板狀工件W以水平姿勢保持。
如圖4具體所示，固定基座1具有中空的大致為圓柱狀的外形的 殼體10，其上端壁向外突出形成凸緣部11。在凸緣部11上形成中心 開口 IIA。
并且，在本實施方式中，在凸緣部ll的上表面設(shè)有吸熱板61。該 吸熱板61由例如在鋁上實施氧化鋁膜處理的表面呈黑色的輻射率大的 材料形成，其上表面為熱吸收面。該輻射率例如為0.9左右。在吸熱板 61的上表面相隔規(guī)定的間隔以大致為同心圓狀設(shè)有作為制冷劑循環(huán)通 路的配管81。用于送出例如作為制冷劑的空氣的泵(無圖示)與該配 管81連接，。吸熱板61、配管81和上述泵發(fā)揮作為將上述熱吸收面吸 收的熱量向外部放出的冷卻單元的作用。另外，圖2和圖3中，對吸 熱板61施加陰影線。在殼體10的內(nèi)部，升降基座12被支撐為可升降。升降基座12具 有圓筒部12A和在該圓筒部12A下端設(shè)置的圖外的外向凸緣部。圓筒 部12A的上端部通過中心開口 11A向上方突出。升降基座12的整體 構(gòu)成為例如通過滾珠絲杠機構(gòu)13能夠沿上下方向移動。
在殼體10的凸緣部11和設(shè)于升降基座12的下端的上述外向凸緣 部之間，以包圍該升降基座12的圓筒部12A的方式設(shè)有波紋管14。 波紋管14伴隨著升降基座12的上下移動進(jìn)行伸縮，對殼體10的凸緣 部11和升降基座12的上述外向凸緣部之間進(jìn)行氣密密封。
旋轉(zhuǎn)基座2具有殼體20和在其下方一體連接的圓筒軸21。圓筒軸 21通過軸承231可轉(zhuǎn)動地支撐于升降基座12的圓筒部12A的內(nèi)部。
在圓筒部12A和圓筒軸21之間還設(shè)有真空密封件241 。該真空密 封件241對該真空密封件241的上側(cè)空間和該真空密封件241的下側(cè) 固定基座1內(nèi)的空間進(jìn)行遮蔽并保持氣密性。
在圓筒軸21的下端部一體地形成有滑輪21A，該滑輪21A和安裝 在支撐于圓筒部12A內(nèi)的電動機M1的輸出軸上的滑輪之間掛設(shè)有環(huán) 形帶251。由此，如果使電動機M1驅(qū)動，則旋轉(zhuǎn)基座2繞鉛垂軸Os 旋轉(zhuǎn)。
用于使連桿臂機構(gòu)3A、 3B進(jìn)行擺動的傳動軸26、 27以同軸狀插 通在旋轉(zhuǎn)基座2的圓筒軸21中。傳動軸27為圓筒狀的軸，通過軸承 232可旋轉(zhuǎn)地支撐于圓筒軸21的內(nèi)側(cè)。傳動軸26通過軸承233可旋轉(zhuǎn) 地支撐于傳動軸27的內(nèi)側(cè)。
在旋轉(zhuǎn)基座2的殼體20的下表面設(shè)有熱輻射板62。該熱輻射板 62由例如在鋁上實施氧化鋁膜處理的表面呈黑色的輻射率大的材料形 成。該輻射率例如為0.9左右。另外，在圖2和圖3中，在熱輻射板 62施加陰影線。 #
在傳動軸26、 27的上端部設(shè)有滑輪26A、 27A。在滑輪26A、 27A 和連桿臂機構(gòu)3A、3B的旋轉(zhuǎn)軸之間掛設(shè)有環(huán)形帶252、 253。另一方 面，傳動軸26的下端部與支撐于圓筒部12A內(nèi)的電動機M2的輸出軸 連接。在傳動軸27的下端部設(shè)有滑輪27B，該滑輪27B和安裝在支撐 于圓筒部12A內(nèi)的電動機M3的輸出軸上的滑輪之間掛設(shè)有環(huán)形帶 254。如果使電動機M2、 M3驅(qū)動，連桿臂機構(gòu)3A、 3B隨著旋轉(zhuǎn)軸
730的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行擺動。
連桿臂機構(gòu)3A、 3B分別連接有多個臂31~34而構(gòu)成，作為直線 移動機構(gòu)行使功能。臂31~34由例如具有規(guī)定剛性的不銹鋼等金屬構(gòu) 成。連桿臂機構(gòu)3A、 3B的主要構(gòu)成及其操作與現(xiàn)有的相同，因此省 略其詳細(xì)說明。臂31的基端部31A在旋轉(zhuǎn)基座2的殼體20的上部設(shè) 置的開口中通過軸承234支撐為可旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)軸30通過減速機構(gòu)35 與基部31A的下端連接?；?1A和殼體20的上部之間，在軸承234 的上方，設(shè)有用于保持氣密性的真空密封件242。由此，將殼體20內(nèi) 部進(jìn)行氣密密封。
在臂31~34的上表面設(shè)有熱反射板71。熱反射板71例如由不銹鋼 制成。熱反射板71的上表面(與柄4A、 4B相對的表面)被實施鏡面 加工，成為熱反射面。由此，該上表面輻射率變小，該反射率為例如 0.1左右。另外，在圖1中，省略熱反射板71的記載，在圖2和圖3 中，在熱反射板71上施加陰影線。
在臂31-34的下表面設(shè)有熱輻射板63。該熱輻射板63由例如在鋁 上實施氧化鋁膜處理的表面呈黑色的輻射率大的材料形成，其下表面 為熱輻射面。該輻射率例如為0.9左右。另外，在圖2和圖3中，在熱 輻射板63上施加陰影線。
圖5表示臂31的截面結(jié)構(gòu)的一例。在臂31的主要部位，以包圍 其周圍的方式設(shè)有絕熱部件91。熱反射板71和熱輻射板63通過由陶 瓷等形成的絕熱部件91設(shè)置在臂31上。另外，在臂31的側(cè)面部分， 可以設(shè)有與熱輻射板63相同構(gòu)成的熱輻射板64。對其他的臂32~34， 也可以采用與臂31相同的截面構(gòu)造。
導(dǎo)軌5A、 5B支撐在旋轉(zhuǎn)基座2的導(dǎo)向部件22上，具有作為直線 移動機構(gòu)的機能。具體而言，如圖4所示，旋轉(zhuǎn)基座2具有連接在殼 體20的中央上方的支柱部20A，在該支柱部20A的上部一體設(shè)有導(dǎo)向 部件22。
在導(dǎo)向部件22的下表面設(shè)有熱輻射板65。該熱輻射板65由例如 在鋁上實施氧化鋁膜處理的表面呈黑色的放射率大的材料形成，其下 表面為熱輻射面。該放射率例如為0.9左右。另外，圖2和圖3中，在 熱輻射板65上施加陰影。柄4A通過滑塊40A支撐在內(nèi)側(cè)的兩個導(dǎo)軌5A上。柄4B繞過柄 4A的側(cè)面通過滑塊40B支撐在外側(cè)的兩個導(dǎo)軌5B上。沿導(dǎo)向部件22 的長度方向延伸的多個叉狀保持片41A、41B —體形成在柄4A、4B上， 上述薄板狀工件W被載置保持在這些保持片41A、 41B上。連桿臂機 構(gòu)3B的臂34 (圖4中位于左側(cè))的前端部可旋轉(zhuǎn)地連接在柄4B上。 在柄4A上設(shè)有經(jīng)過外側(cè)導(dǎo)軌5B的下方向外側(cè)延伸的延長部42A。連 桿臂機構(gòu)3A的臂34 (圖4中位于右側(cè))的前端部可旋轉(zhuǎn)地連接在延 長部42A上。
在導(dǎo)向部件22的上方還設(shè)有熱反射板72。熱反射板72通過支撐 部配置在柄4A、 4B (保持片41A、 41 B)和導(dǎo)軌5A、 5B之間，當(dāng)在 保持片41A、 41B上載置加熱后的工件W時，其用于反射來自工件W 的熱量。如圖1和圖4所示，熱反射板72以不對柄4A、 4B造成干擾 的方式分割成3片設(shè)置。熱反射板72例如由不銹鋼制成。熱反射板72 的上表面(與柄4A、 4B相對的面)被實施鏡面加工，形成熱反射面。 由此，輻射率變小，該反射率例如為0.1左右。另外，在圖2和圖3 中，在熱反射板72施加陰影線。
如果一側(cè)的連桿臂機構(gòu)3A進(jìn)行擺動，則與其連動，下側(cè)的柄4A 支撐在內(nèi)側(cè)的兩個導(dǎo)軌5A上，并進(jìn)行水平滑動。如果另一側(cè)的連桿臂 機構(gòu)3B進(jìn)行擺動，則上側(cè)的柄4B以不對柄4A造成干擾的方式支撐 在外側(cè)的兩個導(dǎo)軌5B上，并進(jìn)行水平滑動。此時，連接柄4A和連桿 臂機構(gòu)3A的延長部42A不受導(dǎo)向部件22的妨礙地進(jìn)行滑動。這樣， 載置于柄4A、 4B的保持片41A、 41B上的工件W以穩(wěn)定的姿勢被搬 送。
在例如液晶顯示板的制造工序中，上述構(gòu)成的搬送裝置A用于將 工件向處理室搬入或者搬出。此時，搬送裝置A在真空氣氛下配置例 如在周邊配置有多個處理室的輸送室中。
圖6表示搬送裝置A二在作為真空室的輸送室B內(nèi)配置的狀態(tài)的一 例。在輸送室B的側(cè)壁設(shè)有與負(fù)載鎖定室或處理室連通的通路，在該 通路中，設(shè)有只在與負(fù)載鎖定室或處理室之間搬送工件W時開放的閘 門(未圖示)。在輸送室B的底壁上，形成由用于安裝搬送裝置A的 開口。搬送裝置A通過固定基座1的凸緣部ll以密封狀態(tài)固定在輸送室B中，在凸緣部11的上方的部件以位于輸送室B的內(nèi)部空間的方式 配置。搬送裝置A中的該部件處于真空氣氛下。根據(jù)這樣的構(gòu)成，輸 送室B的底壁和與其連接的搬送裝置A的凸緣部11成為構(gòu)成輸送室B 的內(nèi)部空間的壁。
在輸送室B的底壁的上表面設(shè)有吸熱版66。該吸熱板66由例如 在鋁上實施氧化鋁膜處理的表面呈黑色的輻射率大的材料形成，其上 表面成為熱吸收面。該輻射率例如為0.9左右。在吸熱板66的上表面， 相隔規(guī)定的間隔設(shè)有作為制冷劑循環(huán)通路的配管82。用于送出例如作 為制冷劑的水的泵(未圖示)與該配管82連接。吸熱板66、配管82 以及上述泵發(fā)揮作為將上述熱吸收面吸收的熱量向外部放出的冷卻單 元的作用。
在搬送裝置A運轉(zhuǎn)時，如果將加熱到例如250 400'C的玻璃基板 等的工件W在真空氣氛下進(jìn)行反復(fù)搬送，則旋轉(zhuǎn)基板2和連桿臂機構(gòu) 3A、 3B容易接收到來自工件W的熱量。設(shè)在旋轉(zhuǎn)基板2和連桿臂機 構(gòu)3A、 3B的旋轉(zhuǎn)部分的真空密封件241、 242，直至某種程度的溫度 時保持氣密性，超過規(guī)定的耐用溫度時則氣密性會受到損害。另外， 由于臂31 34等由不銹鋼等金屬形成，溫度越高會由于熱膨脹等在大 小上產(chǎn)生越大的誤差。導(dǎo)軌5A、 5B也會由于熱膨脹導(dǎo)致大小上產(chǎn)生 較大的誤差。
對此，本實施方式中，在與連桿臂機構(gòu)3A、 3B的柄4A、 4B相對 的面或者柄4A、 4B與導(dǎo)軌5A、 5B之間，設(shè)有用于反射來自柄4A、 4B上保持的工件W的熱量的熱輻射板71、 72。因此，從工件W反射 的輻射熱量，通過該熱反射板71、 72的熱反射面被反射。因此，可以 防止由于從接近連桿臂機構(gòu)3A、 3B以及導(dǎo)軌5A、 5B的工件W直接 發(fā)出的輻射熱量而導(dǎo)致的不當(dāng)過熱。
另外，本實施方式中，如圖6所示，在旋轉(zhuǎn)基座2以及連桿臂機 構(gòu)3A、 3B的下表面?zhèn)鹊暮线m部位，設(shè)有熱輻射板62、 63、 65。而且， 在形成輸送室B的壁面中的與旋轉(zhuǎn)基座2的下表面相對的壁面(輸送 室B的底壁的上表面以及與其連接的凸緣部11的上表面)上，設(shè)有在 表面具有熱吸收面的吸熱板61、 66，在該吸熱板6K 66的熱吸收面上 設(shè)有作為制冷劑循環(huán)通路的配管81、 82。因此，即使由于沒有被上述熱反射板71、 72反射而向熱反射板71、 72的周邊傳遞的輻射熱，或 來自工件W的熱傳導(dǎo)，旋轉(zhuǎn)基座2和連桿臂機構(gòu)3A、 3B接收到熱量， 該熱量也會從相對高溫的熱輻射板62、63、65向相對低溫的吸熱板61、 66輻射。并且通過吸熱板61、 66吸收的熱量，通過配管81、 82中流 通的制冷劑向輸送室B的外部迅速放出。因此，通過這樣的構(gòu)成，能 夠防止連桿臂機構(gòu)3A、 3B和導(dǎo)軌5A、 5B的過熱。
根據(jù)本實施方式的構(gòu)成，即使通過搬送裝置A搬送加熱后的工件 W，也能夠?qū)碜怨ぜ的熱量有效地向輸送室B的外部排出。因此， 能夠防止連桿臂機構(gòu)3A、 3B和導(dǎo)軌5A、 5B由于過熱導(dǎo)致的熱膨脹產(chǎn) 生較大的尺寸誤差。因此，能使柄4A、 4B進(jìn)行正確操作，在真空氣 氛下以良好的精度平穩(wěn)地搬送加熱后的工件W。另外，不會對設(shè)于旋 轉(zhuǎn)基座2和連桿臂機構(gòu)3A、 3B的旋轉(zhuǎn)部分的真空密封件241、 242的 氣密性造成損壞。
以上，對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明的范圍不受 上述實施方式的限制。本發(fā)明的搬送裝置各部分的具體構(gòu)成，在不超 出發(fā)明的思想的范圍內(nèi)可以進(jìn)行種種變更。
在上述實施方式中，作為冷卻單元，在形成真空室的壁的內(nèi)側(cè)設(shè) 有構(gòu)成冷卻單元的制冷劑循環(huán)通路，但是，也可以取而代之，將制冷 劑循環(huán)通路設(shè)在形成真空室的壁的外側(cè)。另外，作為冷卻單元的構(gòu)成， 也可以在形成真空室的壁的外側(cè)或者壁內(nèi)設(shè)置散熱片，以該散熱片進(jìn) 行散熱冷卻。
另外，作為直線移動機構(gòu)，也可以采用不具有對柄進(jìn)行導(dǎo)向的導(dǎo) 軌的構(gòu)成。另外，作為直線移動機構(gòu)，也可以采用通過柄驅(qū)動可移動 地支撐于導(dǎo)軌上的柄的機構(gòu)取代連桿臂機構(gòu)。
ii
權(quán)利要求
1.一種搬送裝置，其配置在真空室內(nèi)，包括固定基座、相對于該固定基座保持為可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)基座、支撐于該旋轉(zhuǎn)基座的直線移動機構(gòu)、和支撐于該直線移動機構(gòu)的柄，在所述旋轉(zhuǎn)基座的期望的旋轉(zhuǎn)位置通過所述直線移動機構(gòu)的動作，水平保持所述柄上載置的工件并進(jìn)行搬送，其特征在于在所述旋轉(zhuǎn)基座或者所述直線移動機構(gòu)的下表面?zhèn)鹊暮线m部位設(shè)有熱輻射面，在形成所述真空室的壁中的、與所述旋轉(zhuǎn)基座的下表面?zhèn)认鄬Φ谋诘闹辽僖徊糠稚希O(shè)有熱吸收面。
2. 如權(quán)利要求1所述的搬送裝置，其特征在于 在所述旋轉(zhuǎn)基座或者所述直線移動機構(gòu)的上表面?zhèn)鹊暮线m部位，設(shè)有反射來自所述柄側(cè)的熱量的熱反射面。
3. 如權(quán)利要求1所述的搬送裝置，其特征在于 所述熱吸收面設(shè)置在所述真空室的底面或者所述固定基座的向所述真空室的露出面的至少一部分上。
4. 如權(quán)利要求1所述的搬送裝置，其特征在于 設(shè)有向外部排出由所述吸收面吸收的熱量的冷卻單元。
5. 如權(quán)利要求4所述的搬送裝置，其特征在于 所述冷卻單元包括以與設(shè)有所述熱吸收面的部件接觸的方式繞設(shè)的制冷劑循環(huán)通路。
6. 如權(quán)利要求1所述的搬送裝置，其特征在于 所述直線移動機構(gòu)構(gòu)成為，連接多個臂而成的連桿臂機構(gòu)， 在該連桿臂機構(gòu)的上表面?zhèn)鹊暮线m部位設(shè)有所述熱反射面，并且在所述連桿臂機構(gòu)的下表面?zhèn)鹊暮线m部位設(shè)有所述熱輻射面。
7.如權(quán)利要求6所述的搬送裝置，其特征在于-所述直線移動機構(gòu)還具有支撐在所述旋轉(zhuǎn)基座上，并用于引導(dǎo)所 述柄沿規(guī)定方向移動的導(dǎo)軌，在所述導(dǎo)軌和所述柄之間設(shè)有所述熱反射面。
全文摘要
本發(fā)明提供一種搬送裝置(A)，其配置于真空室(B)內(nèi)，包括固定基座(1)、相對于固定基座(1)保持為可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)基座(2)、支撐于旋轉(zhuǎn)基座(2)的直線移動機構(gòu)(3A、3B)、和支撐于直線機構(gòu)(3A、3B)的柄(4A、4B)，通過直線移動機構(gòu)(3A、3B)的動作對載置于柄(4A、4B)的工件(W)進(jìn)行搬送。在旋轉(zhuǎn)基座(2)或者直線移動機構(gòu)(3A、3B)的下表面?zhèn)鹊倪m當(dāng)部位設(shè)有熱輻射板(62、63、65)，在形成真空室(B)的壁中的與旋轉(zhuǎn)基座(2)的下表面?zhèn)认鄬Φ谋谏显O(shè)有吸熱板(61、66)。
文檔編號H01L21/677GK101627467SQ20078005193
公開日2010年1月13日 申請日期2007年3月2日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月2日
發(fā)明者佐渡大介, 岡本啟, 宮本玲, 松尾英樹, 西森康博 申請人:株式會社大亨