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一種基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元的制作方法

文檔序號:12274107閱讀:246來源:國知局
一種基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及一種存儲單元,尤其是涉及一種基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元。



背景技術(shù):

隨著工藝尺寸進入納米級,功耗成為集成電路設計者不得不關(guān)注的問題。在大部分的數(shù)字系統(tǒng)中存儲器的功耗占據(jù)總電路功耗的比例越來越大。靜態(tài)隨機存取存儲器(SRAM,Static Random Access Memory),在存儲器中是一個重要的組成部分,因而設計低功耗SRAM具有重要的研究意義。靜態(tài)隨機存取存儲器主要由存儲陣列及其他外圍電路構(gòu)成,而存儲陣列由存儲單元構(gòu)成,存儲單元是靜態(tài)隨機存取存儲器的核心,存儲單元直接決定靜態(tài)隨機存取存儲器的性能。

延時、功耗和功耗延時積是體現(xiàn)存儲單元性能的主要三個因素,優(yōu)化這三個因素可以優(yōu)化存儲單元的性能從而提高靜態(tài)隨機存取存儲器整體系統(tǒng)的性能,其中,功耗延時積為功耗和延時的乘積,單位為焦耳,因此功耗延時積是能量的衡量,可以作為一個開關(guān)器件性能的度量。在功耗延時積基本不變的情況下,面積也是制約電路性能的一個重要因素。

FinFET管(鰭式場效晶體管,F(xiàn)in Field-Effect Transistor)是一種新的互補式金氧半導體(CMOS)晶體管,具有功耗低,面積小的優(yōu)點。鑒此,設計一種在不影響電路性能的情況下,電路面積、延時、功耗和功耗延時積均較小的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元具有重要意義。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種在不影響電路性能的情況下,電路面積、延時、功耗和功耗延時積均較小的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元。

本發(fā)明解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為:一種基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元,包括第一FinFET管、第二FinFET管、第三FinFET管、第四FinFET管、第五FinFET管、第六FinFET管和第七FinFET管,所述的第一FinFET管和所述的第二FinFET管均為P型FinFET管,所述的第三FinFET管、所述的第四FinFET管、所述的第五FinFET管、所述的第六FinFET管和所述的第七FinFET管均為N型FinFET管,所述的第一FinFET管和所述的第二FinFET管的鰭的數(shù)量均為2,所述的第三FinFET管、所述的第四FinFET管、所述的第五FinFET管、所述的第六FinFET管和所述的第七FinFET管的鰭的數(shù)量均為1;所述的第一FinFET管的源極和所述的第二FinFET管的源極均接入電源,所述的第一FinFET管的漏極、所述的第二FinFET管的前柵、所述的第二FinFET管的背柵、所述的第三FinFET管的漏極、所述的第四FinFET管的前柵和所述的第五FinFET管的漏極連接且其連接端為所述的讀寫分離存儲單元的輸出端,所述的第一FinFET管的前柵、所述的第一FinFET管的背柵、所述的第二FinFET管的漏極、所述的第三FinFET管的前柵、所述的第四FinFET管的漏極、所述的第六FinFET管的漏極和所述的第七FinFET管的前柵連接且其連接端為所述的讀寫分離存儲單元的反相輸出端;所述的第三FinFET管的源極、所述的第三FinFET管的背柵、所述的第四FinFET管的背柵、所述的第四FinFET管的源極和所述的第七FinFET管的源極均接地;所述的第五FinFET管的前柵、所述的第五FinFET管的背柵、所述的第六FinFET管的背柵和所述的第六FinFET管的前柵連接且其連接線為所述的讀寫分離存儲單元的寫字線;所述的第五FinFET管的源極為所述的讀寫分離存儲單元的寫位線;所述的第六FinFET管的源極為所述的讀寫分離存儲單元的寫位線反向控制端;所述的第七FinFET管的漏極為所述的讀寫分離存儲單元的讀位線;所述的第七FinFET管的背柵為所述的讀寫分離存儲單元的讀字線。

所述的第一FinFET管、所述的第二FinFET管、所述的第三FinFET管、所述的第四FinFET管、所述的第五FinFET管和所述的第六FinFET管均為低閾值FinFET管,所述的第七FinFET管為高閾值FinFET管。

所述的第一FinFET管、所述的第二FinFET管、所述的第三FinFET管、所述的第四FinFET管、所述的第五FinFET管和所述的第六FinFET管均的閾值電壓均為0.1v,所述的第七FinFET管的閾值電壓為0.6v。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點在于通過第一FinFET管、第二FinFET管、第三FinFET管、第四FinFET管、第五FinFET管、第六FinFET管和第七FinFET管這七個FinFET管構(gòu)成基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元,第一FinFET管和第二FinFET管均為P型FinFET管,第三FinFET管、第四FinFET管、第五FinFET管、第六FinFET管和第七FinFET管均為N型FinFET管,第一FinFET管和第二FinFET管的鰭的數(shù)量均為2,第三FinFET管、第四FinFET管、第五FinFET管、第六FinFET管和第七FinFET管的鰭的數(shù)量均為1;第一FinFET管的源極和第二FinFET管的源極均接入電源,第一FinFET管的漏極、第二FinFET管的前柵、第二FinFET管的背柵、第三FinFET管的漏極、第四FinFET管的前柵和第五FinFET管的漏極連接且其連接端為讀寫分離存儲單元的輸出端,第一FinFET管的前柵、第一FinFET管的背柵、第二FinFET管的漏極、第三FinFET管的前柵、第四FinFET管的漏極、第六FinFET管的漏極和第七FinFET管的前柵連接且其連接端為讀寫分離存儲單元的反相輸出端;第三FinFET管的源極、第三FinFET管的背柵、第四FinFET管的背柵、第四FinFET管的源極和第七FinFET管的源極均接地;第五FinFET管的前柵、第五FinFET管的背柵、第六FinFET管的背柵和第六FinFET管的前柵連接且其連接線為讀寫分離存儲單元的寫字線;第五FinFET管的源極為讀寫分離存儲單元的寫位線;第六FinFET管的源極為讀寫分離存儲單元的寫位線反向控制端;第七FinFET管的漏極為讀寫分離存儲單元的讀位線;第七FinFET管的背柵為讀寫分離存儲單元的讀字線;本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元讀寫操作分離,寫字線WRWL為高電平,第五FinFET管和第六FinFET管導通,寫位線WRBL進行讀操作,寫位線WRBL和寫位線反向控制端之間形成電位差,讀位線RDWL為高電平時,第七FinFET管作為分柵管用于讀操作,讀操作完成通過寫操作控制進行寫操作,不會破壞存儲單元數(shù)據(jù),從而存儲單元有更多的優(yōu)化空間用于提高寫噪聲容限,其內(nèi)包含的FinFET管的背柵接至高電壓/低電壓,或者接為同柵,可調(diào)整各晶體管的性能,從而改善存儲單元的噪聲容,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元具有正確的工作邏輯,并且其電路結(jié)構(gòu)簡單,采用數(shù)量較少的晶體管來實現(xiàn)存儲單元功能,讀操作和寫操作分開,讀寫互不干擾,延時、功耗和功耗延時積均較小;

當?shù)谝籉inFET管、第二FinFET管、第三FinFET管、第四FinFET管、第五FinFET管和第六FinFET管均為低閾值FinFET管,第七FinFET管為高閾值FinFET管時。第一FinFET管、第二FinFET管、第五FinFET管和第六FinFET管均為低閾值FinFET管且均為共柵連接模式,保證電路速度。第三FinFET管和第四FinFET管背柵接地,降低電路功耗。第七FinFET管為高閾值FinFET管保證電路功能正確且功耗較低。

當?shù)谝籉inFET管、第二FinFET管、第三FinFET管、第四FinFET管、第五FinFET管和第六FinFET管均的閾值電壓均為0.1v,第七FinFET管的閾值電壓為0.6v時,閾值電壓為0.1v時,F(xiàn)inFET管運行速度快;閾值電壓為0.6v時,F(xiàn)inFET管功耗較低。

附圖說明

圖1為BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典存儲單元的電路圖;

圖2為本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元的電路圖;

圖3為標準電壓(1v)下,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元在BSIMIMG標準工藝下的仿真波形圖;

圖4為超閾值電壓(0.8v)下,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元在BSIMIMG標準工藝下的仿真波形圖。

具體實施方式

以下結(jié)合附圖實施例對本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元作進一步詳細描述。

實施例一:如圖2所示,一種基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元,包括第一FinFET管M1、第二FinFET管M2、第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5、第六FinFET管M6和第七FinFET管M7,第一FinFET管M1和第二FinFET管M2均為P型FinFET管,第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5、第六FinFET管M6和第七FinFET管M7均為N型FinFET管,第一FinFET管M1和第二FinFET管M2的鰭的數(shù)量均為2,第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5、第六FinFET管M6和第七FinFET管M7的鰭的數(shù)量均為1;第一FinFET管M1的源極和第二FinFET管M2的源極均接入電源,第一FinFET管M1的漏極、第二FinFET管M2的前柵、第二FinFET管M2的背柵、第三FinFET管M3的漏極、第四FinFET管M4的前柵和第五FinFET管M5的漏極連接且其連接端為讀寫分離存儲單元的輸出端,第一FinFET管M1的前柵、第一FinFET管M1的背柵、第二FinFET管M2的漏極、第三FinFET管M3的前柵、第四FinFET管M4的漏極、第六FinFET管M6的漏極和第七FinFET管M7的前柵連接且其連接端為讀寫分離存儲單元的反相輸出端;第三FinFET管M3的源極、第三FinFET管M3的背柵、第四FinFET管M4的背柵、第四FinFET管M4的源極和第七FinFET管M7的源極均接地;第五FinFET管M5的前柵、第五FinFET管M5的背柵、第六FinFET管M6的背柵和第六FinFET管M6的前柵連接且其連接線為讀寫分離存儲單元的寫字線WRWL;第五FinFET管M5的源極為讀寫分離存儲單元的寫位線WRBL;第六FinFET管M6的源極為讀寫分離存儲單元的寫位線反向控制端第七FinFET管M7的漏極為讀寫分離存儲單元的讀位線RDBL;第七FinFET管M7的背柵為讀寫分離存儲單元的讀字線RDWL。

實施例二:如圖2所示,一種基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元,包括第一FinFET管M1、第二FinFET管M2、第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5、第六FinFET管M6和第七FinFET管M7,第一FinFET管M1和第二FinFET管M2均為P型FinFET管,第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5、第六FinFET管M6和第七FinFET管M7均為N型FinFET管,第一FinFET管M1和第二FinFET管M2的鰭的數(shù)量均為2,第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5、第六FinFET管M6和第七FinFET管M7的鰭的數(shù)量均為1;第一FinFET管M1的源極和第二FinFET管M2的源極均接入電源,第一FinFET管M1的漏極、第二FinFET管M2的前柵、第二FinFET管M2的背柵、第三FinFET管M3的漏極、第四FinFET管M4的前柵和第五FinFET管M5的漏極連接且其連接端為讀寫分離存儲單元的輸出端,第一FinFET管M1的前柵、第一FinFET管M1的背柵、第二FinFET管M2的漏極、第三FinFET管M3的前柵、第四FinFET管M4的漏極、第六FinFET管M6的漏極和第七FinFET管M7的前柵連接且其連接端為讀寫分離存儲單元的反相輸出端;第三FinFET管M3的源極、第三FinFET管M3的背柵、第四FinFET管M4的背柵、第四FinFET管M4的源極和第七FinFET管M7的源極均接地;第五FinFET管M5的前柵、第五FinFET管M5的背柵、第六FinFET管M6的背柵和第六FinFET管M6的前柵連接且其連接線為讀寫分離存儲單元的寫字線WRWL;第五FinFET管M5的源極為讀寫分離存儲單元的寫位線WRBL;第六FinFET管M6的源極為讀寫分離存儲單元的寫位線反向控制端第七FinFET管M7的漏極為讀寫分離存儲單元的讀位線RDBL;第七FinFET管M7的背柵為讀寫分離存儲單元的讀字線RDWL。

本實施例中,第一FinFET管M1、第二FinFET管M2、第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5和第六FinFET管M6均為低閾值FinFET管,第七FinFET管M7為高閾值FinFET管。

實施例三:如圖2所示,一種基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元,包括第一FinFET管M1、第二FinFET管M2、第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5、第六FinFET管M6和第七FinFET管M7,第一FinFET管M1和第二FinFET管M2均為P型FinFET管,第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5、第六FinFET管M6和第七FinFET管M7均為N型FinFET管,第一FinFET管M1和第二FinFET管M2的鰭的數(shù)量均為2,第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5、第六FinFET管M6和第七FinFET管M7的鰭的數(shù)量均為1;第一FinFET管M1的源極和第二FinFET管M2的源極均接入電源,第一FinFET管M1的漏極、第二FinFET管M2的前柵、第二FinFET管M2的背柵、第三FinFET管M3的漏極、第四FinFET管M4的前柵和第五FinFET管M5的漏極連接且其連接端為讀寫分離存儲單元的輸出端,第一FinFET管M1的前柵、第一FinFET管M1的背柵、第二FinFET管M2的漏極、第三FinFET管M3的前柵、第四FinFET管M4的漏極、第六FinFET管M6的漏極和第七FinFET管M7的前柵連接且其連接端為讀寫分離存儲單元的反相輸出端;第三FinFET管M3的源極、第三FinFET管M3的背柵、第四FinFET管M4的背柵、第四FinFET管M4的源極和第七FinFET管M7的源極均接地;第五FinFET管M5的前柵、第五FinFET管M5的背柵、第六FinFET管M6的背柵和第六FinFET管M6的前柵連接且其連接線為讀寫分離存儲單元的寫字線WRWL;第五FinFET管M5的源極為讀寫分離存儲單元的寫位線WRBL;第六FinFET管M6的源極為讀寫分離存儲單元的寫位線反向控制端第七FinFET管M7的漏極為讀寫分離存儲單元的讀位線RDBL;第七FinFET管M7的背柵為讀寫分離存儲單元的讀字線RDWL。

本實施例中,第一FinFET管M1、第二FinFET管M2、第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5和第六FinFET管M6均為低閾值FinFET管,第七FinFET管M7為高閾值FinFET管。

本實施例中,第一FinFET管M1、第二FinFET管M2、第三FinFET管M3、第四FinFET管M4、第五FinFET管M5和第六FinFET管M6均的閾值電壓均為0.1v,第七FinFET管M7的閾值電壓為0.6v。

為了驗證本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元的優(yōu)益性,在BSIMIMG標準工藝下,電路的輸入頻率為400MHz、800MHz、1GHz、2G的條件下,使用電路仿真工具HSPICE對本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元和圖1所示的BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典六管存儲單元這兩種電路的性能進行仿真對比,其中,BSIMIMG工藝庫對應的電源電壓為1V。標準電壓(1v)下,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元基于BSIMIMG標準工藝仿真波形圖如圖3所示;超閾值電壓(0.8v)下,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元基于BSIMIMG標準工藝仿真波形圖如圖4所示。分析圖3和圖4可知,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元具有正確的工作邏輯。

表1為在BSIMIMG標準工藝下,輸入頻率為400MHz時,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元和圖1所示的BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典六管存儲單元兩種電路的性能比較圖。

表1

從表1中可以得出:本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元與和圖1所示的BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典六管存儲單元相比,延時降低了7.4%,平均總功耗降低了1.7%,功耗延時積降低了8.8%。

表2為在BSIMIMG標準工藝下,輸入頻率為400MHz時,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元和圖1所示的BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典六管存儲單元兩種電路的性能比較圖。

表2

從表2中可以得出:本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元與和圖1所示的BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典六管存儲單元相比,延時降低了7.4%,平均總功耗降低了2.4%,功耗延時積降低了9.5%。

表3為在BSIMIMG標準工藝下,輸入頻率為1G Hz時,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元和圖1所示的BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典六管存儲單元兩種電路的性能比較圖。

表3

從表3中可以得出:本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元與和圖1所示的BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典六管存儲單元相比,延時降低了7.4%,平均總功耗降低了2.6%,功耗延時積降低了9.8%。

表4為在BSIMIMG標準工藝下,輸入頻率為2G Hz時,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元和圖1所示的BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典六管存儲單元兩種電路的性能比較圖。

表4

從表4中可以得出:本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元與和圖1所示的BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典六管存儲單元相比,延時降低了7.4%,平均總功耗降低了3.3%,功耗延時積降低了10.5%。

由上述的比較數(shù)據(jù)可見,在不影響電路性能的前提下,本發(fā)明的基于FinFET器件的讀寫分離存儲單元和圖1所示的BSIMIMG工藝庫中經(jīng)典六管存儲單元相比較,延時得到優(yōu)化,運行速度得到了提高;電路的功耗和功耗延時積也得到了優(yōu)化。

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