專利名稱：：磁頭搬送裝置、磁頭檢查裝置、及磁頭制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種搬送從晶片(wafer)上切下的長形條(rowbar)狀態(tài)的薄膜磁頭(thinfilmmagnetichead)的磁頭搬送裝置、使用所述磁頭搬送裝置的磁頭檢查裝置及磁頭制造方法，本發(fā)明特別是涉及一種可使長形條狀態(tài)的薄膜磁頭對(duì)應(yīng)于檢查裝置的載置部而搬送的磁頭搬送裝置、磁頭檢查裝置及磁頭制造方法。
背景技術(shù)：
：近年來，隨著硬盤驅(qū)動(dòng)器(harddiskdrive,HDD)的面記錄密度(surfacerecordingdensity)的急劇增加，薄膜磁頭的寫入磁道寬度(writetrackwidth)也變得微細(xì)化，從而對(duì)利用薄膜磁頭所包含的記錄頭(元件)而寫入到磁盤上的寫入磁道寬度準(zhǔn)確地進(jìn)行檢查的技術(shù)的重要性正不斷增加。以往，是利用光學(xué)顯微鏡(opticalmicroscope)來實(shí)施薄膜磁頭中所包含的記錄頭(元件)的形狀測(cè)定，但隨著磁道寬度的微細(xì)化，寫入磁道寬度達(dá)到了光學(xué)系統(tǒng)分辨率(resolution)或光學(xué)系統(tǒng)分辨率以下，由此，難以利用光學(xué)顯微鏡來測(cè)定記錄頭(元件)的形狀。因此，最近正在使用一種掃描式電子顯微鏡(scanningelectronmicroscopy,SEM)來代替光學(xué)顯微鏡而實(shí)施記錄頭(元件)的形狀測(cè)定。然而，使用SEM所進(jìn)行的測(cè)定是一種破壞性檢查(destructiveinspection)，而且與光學(xué)顯微鏡相同，僅僅是對(duì)記錄頭(元件)的物理形狀進(jìn)行測(cè)定，從而會(huì)存在如下問題，即，難以對(duì)與實(shí)際寫入到磁盤上的磁性的有效磁道寬度(寫入磁道寬度)的相關(guān)關(guān)系進(jìn)行測(cè)定。另外，即便是在使用原子間力顯微鏡(AtomicForceMicroscope,AFM)來測(cè)定記錄頭(元件)形狀的技術(shù)的情況下，也會(huì)存在與上述相同的問題。最近，日本專利特開2003-248911號(hào)公報(bào)中揭示了一種磁頭測(cè)定裝置，此磁頭測(cè)定裝置以如下方式而構(gòu)成可使用磁力顯微鏡(magneticforcemicroscope,MFM)，對(duì)作為記錄頭的磁場(chǎng)特性(magneticfieldcharacteristics)的磁場(chǎng)飽和現(xiàn)象進(jìn)行視覺上的觀察。當(dāng)像以往那樣使用掃描式電子顯微鏡(SEM)或者原子間力顯微鏡(AFM)來測(cè)定磁頭(記錄頭)的形狀時(shí)，雖然可以對(duì)記錄頭(元件)的物理形狀進(jìn)行測(cè)定，但無法測(cè)定出實(shí)際寫入到磁盤上的磁性的有效磁道寬度(寫入磁道寬度)。因此，以往是在磁頭與懸臂件(suspension)一體化之后的狀態(tài)(磁頭懸架組件(headgimbalassembly,HGA)狀態(tài))或者模擬HGA狀態(tài)下，使用被稱為自旋支架(spin-stand)的頭盤(headdisk)專用的測(cè)定裝置，來對(duì)寫入磁道寬度進(jìn)行檢查。然而，使用自旋支架的檢查如果不是在HGA狀態(tài)或者模擬HGA狀態(tài)這樣的磁頭制造的最終工序中進(jìn)行，則會(huì)無法實(shí)施所述寫入磁道寬度的檢查，因此就提高生產(chǎn)性、或者可應(yīng)對(duì)制造時(shí)要求早期反饋(feedback)的觀點(diǎn)來說并不太理想。因此，本案申請(qǐng)人提出了一種磁頭檢查方法及裝置，可以在制造工序中途的盡可能早的階段對(duì)長形條狀態(tài)的磁頭進(jìn)行寫入磁道寬度的檢查(日本專利特開2003-248911號(hào)公報(bào)及日本專利特愿2008-263746號(hào)公報(bào))。而且，在所述申請(qǐng)案中，也提及了將長形條狀4態(tài)的薄膜磁頭搬送到檢查裝置的載置臺(tái)(table)的階差部的搬送機(jī)構(gòu)。所述搬送機(jī)構(gòu)將多個(gè)長形條狀態(tài)的薄膜磁頭以45度的傾斜角排列儲(chǔ)存在托盤(tray)上，從所述托盤上利用鉤爪(hookfinger)的吊鉤部分來鉤住長形條的兩端并吊起，使用操控機(jī)器人(handlingrobot)來移動(dòng)并搬送所述薄膜磁頭，將其定位載置在載置臺(tái)的階差部，由于儲(chǔ)存在托盤上的所有長形條狀態(tài)的薄膜磁頭是以45度的傾斜角保持著，因此需要專用的鉤爪，用來懸掛處于所述傾斜狀態(tài)的長形條狀態(tài)的薄膜磁頭。另一方面，對(duì)長形條狀態(tài)的薄膜磁頭進(jìn)行加工或者檢查時(shí)，在各工序之間進(jìn)行搬送時(shí)會(huì)使用各種各樣的托盤(收納箱)，且每種收納箱中的長形條狀態(tài)的薄膜磁頭的收納狀態(tài)或姿勢(shì)等(傾斜角度等)各不相同。另外，在各工序中途進(jìn)行檢查的檢查裝置，需要使長形條狀態(tài)的薄膜磁頭朝向固定方向而進(jìn)行檢查，因此在進(jìn)行長形條狀態(tài)的薄膜磁頭的自動(dòng)檢查的情況下，需要在檢查前后使長形條狀態(tài)的薄膜磁頭旋轉(zhuǎn)、或者對(duì)準(zhǔn)(alignment)的機(jī)構(gòu)。但是，長形條狀態(tài)的薄膜磁頭是寬度約1mm、高度約0.20.3mm、長度約4070mm的細(xì)長的矩形板狀，而且在所述矩形板狀的長度方向上形成著約90個(gè)左右的磁頭滑塊(headslider)，因此具有在形狀上很難處理的問題。由此可見，上述現(xiàn)有的磁頭搬送裝置與使用上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為了解決上述存在的問題，相關(guān)廠商莫不費(fèi)盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品及方法又沒有適切的結(jié)構(gòu)及方法能夠解決上述問題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的問題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新的磁頭搬送裝置、磁頭檢查裝置、及磁頭制造方法，實(shí)屬當(dāng)前重要研發(fā)課題之一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有的磁頭搬送裝置存在的缺陷，而提供一種新型的磁頭搬送裝置、磁頭檢查裝置、及磁頭制造方法，所要解決的技術(shù)問題是使其在提供一種在搬送長形條狀態(tài)的薄膜磁頭時(shí)可自如地改變所述薄膜磁頭的姿勢(shì)的磁頭搬送裝置、磁頭檢查裝置、及磁頭制造方法，非常適于實(shí)用。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。為達(dá)到上述目的，依據(jù)本發(fā)明的磁頭搬送裝置的第一特征在于搬送從晶片上切下的形狀為細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭，且構(gòu)成為可以任意地選擇垂直安裝與水平安裝，所述垂直安裝是以所述長形條狀態(tài)的磁頭的與長度方向成垂直的截面形狀即長方形的長邊部分相對(duì)于水平線成垂直的方式進(jìn)行安裝，所述水平安裝是以所述長邊部分相對(duì)于水平線成平行的方式進(jìn)行安裝。搬送從晶片上切下的細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭的搬送裝置，可以進(jìn)行垂直安裝與水平安裝此兩種安裝。由此，相對(duì)于在各工序之間進(jìn)行搬送時(shí)垂直或水平安裝的托盤，可容易地進(jìn)行長形條狀態(tài)的薄膜磁頭的搬送。本發(fā)明的磁頭搬送裝置的第二特征在于搬送從晶片上切下的形狀為細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭，且構(gòu)成為可以將所述長形條狀態(tài)的磁頭的姿勢(shì)從垂直安裝狀態(tài)轉(zhuǎn)換成水平安裝狀態(tài)，并且可以將所述長形條狀態(tài)的磁頭的姿勢(shì)從所述水平安裝狀態(tài)轉(zhuǎn)換成所述垂直狀態(tài)，所述垂直安裝狀態(tài)以與所述長形條狀態(tài)的磁頭的長度方向成垂直的截面形狀即長方形的長邊部分相對(duì)于水平線成垂直的方式進(jìn)行安裝，所述水平安裝狀態(tài)是以所述長邊部分相對(duì)于水平線成平行的方式進(jìn)行安裝。搬送細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭的搬送裝置，可以進(jìn)行垂直安裝與水平安裝此兩種安裝，并且在各工序之間進(jìn)行搬送時(shí)可以將所述磁頭的姿勢(shì)從垂直改為水平、從水平改為垂直。根據(jù)所述第一或第二特征所述的磁頭搬送裝置，本發(fā)明的磁頭搬送裝置的第三特征在于構(gòu)成為可將所述長形條狀態(tài)的磁頭以所述長邊部分相對(duì)于水平線傾斜成規(guī)定角度的狀態(tài)的姿勢(shì)而傾斜安裝。搬送裝置可進(jìn)行處于垂直安裝與水平安裝之間的傾斜狀態(tài)的傾斜安裝。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題還采用以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)。為達(dá)到上述目的，依據(jù)本發(fā)明的磁頭檢查裝置的第一特征在于檢查從晶片上切下的形狀為細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭的特性，且包括磁頭搬送機(jī)構(gòu)，從以所述長形條狀態(tài)的磁頭的與長度方向成垂直的截面形狀即長方形的長邊部分相對(duì)于水平線成垂直的方式而垂直安裝的托盤機(jī)構(gòu)上接收所述長形條狀態(tài)的磁頭，將所述長形條狀態(tài)的磁頭的姿勢(shì)轉(zhuǎn)換成以所述長邊部分相對(duì)于水平線成平行的方式進(jìn)行安裝的水平安裝狀態(tài)，并將處于所述水平安裝狀態(tài)的所述長形條狀態(tài)的磁頭，以成為水平安裝狀態(tài)的方式搬送到檢查平臺(tái)(stage)的載置部。使用所述搬送裝置，從垂直安裝著長形條狀態(tài)的磁頭的托盤上接收長形條狀態(tài)的磁頭，并將所述磁頭水平安裝在磁頭檢查裝置的檢查平臺(tái)上的載置臺(tái)上。根據(jù)所述第一特征所述的磁頭檢查裝置，本發(fā)明的磁頭檢查裝置的第二特征在于包括懸臂(cantilever)機(jī)構(gòu)，在前端具備磁性探針，且以規(guī)定頻率激振；探針(probe)機(jī)構(gòu)，與水平安裝在所述檢查平臺(tái)的載置部的所述長形條狀態(tài)的磁頭的磁頭滑塊的連接端子相接觸，并將勵(lì)磁用信號(hào)供給到所述磁頭的記錄頭；掃描機(jī)構(gòu)，使所述磁性探針在保持在距離所述記錄頭的記錄部表面相當(dāng)于磁頭相對(duì)于磁盤的懸浮高度的位置處的狀態(tài)下，沿著被供給有所述勵(lì)磁用信號(hào)且水平安裝在所述檢查平臺(tái)的載置部上的所述磁頭的記錄部表面而掃描移動(dòng)；檢測(cè)機(jī)構(gòu)，在所述掃描機(jī)構(gòu)的掃描過程中對(duì)所述懸臂機(jī)構(gòu)的激振狀態(tài)進(jìn)行檢測(cè)；以及運(yùn)算機(jī)構(gòu)，根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)出的表示所述懸臂機(jī)構(gòu)的激振狀態(tài)的信號(hào)，而計(jì)算出所述磁頭的有效磁道寬度。在如下的磁頭檢查裝置中應(yīng)用所述搬送裝置將記錄信號(hào)(勵(lì)磁用信號(hào))從焊盤(bondingpad)輸入到長形條狀態(tài)的薄膜磁頭，并使用在距離相當(dāng)于磁頭的懸浮高度的位置處進(jìn)行掃描移動(dòng)的磁力顯微鏡(MFM)，來直接觀察由薄膜磁頭所包含的記錄頭(元件)而產(chǎn)生的磁場(chǎng)的情況，由此，是對(duì)所產(chǎn)生的磁場(chǎng)形狀進(jìn)行測(cè)定而不是對(duì)記錄頭(元件)的物理形狀進(jìn)行測(cè)定，從而可非破壞地實(shí)施磁性的有效磁道寬度的檢查。根據(jù)所述第一特征所述的磁頭檢查裝置，本發(fā)明的磁頭檢查裝置的第三特征在于包括原子間力顯微鏡的懸臂機(jī)構(gòu)，以規(guī)定頻率激振；磁場(chǎng)檢測(cè)機(jī)構(gòu)，包含所述懸臂機(jī)構(gòu)上設(shè)置的霍爾(Hall)元件或磁阻(MagnetoResistanceJR)元件；探針機(jī)構(gòu)，與水平安裝在所述檢查平臺(tái)的載置部的所述長形條狀態(tài)的磁頭的磁頭滑塊的連接端子相接觸，并將勵(lì)磁用信號(hào)供給到所述磁頭的記錄頭；掃描機(jī)構(gòu)，使所述磁場(chǎng)檢測(cè)機(jī)構(gòu)在保持在距離所述記錄頭的記錄部表面相當(dāng)于磁頭相對(duì)于磁盤的懸浮高度的位置處的狀態(tài)下，沿著被供給有所述勵(lì)磁用信號(hào)且水平安裝在所述檢查平臺(tái)的載置部上的所述磁頭的記錄部表面而掃描移動(dòng)；檢測(cè)機(jī)構(gòu)，在所述掃描機(jī)構(gòu)的掃描過程中對(duì)從所述磁場(chǎng)檢測(cè)機(jī)構(gòu)所輸出的信號(hào)進(jìn)行檢測(cè)；以及運(yùn)算機(jī)構(gòu)，根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)所檢測(cè)出的信號(hào)，而計(jì)算出所述磁頭的有效磁道寬度。在如下的磁頭檢查裝置中應(yīng)用所述搬送裝置將記錄信號(hào)(勵(lì)磁用信號(hào))從焊盤輸入到長形條狀態(tài)的薄膜磁頭，并使用在距離相當(dāng)于磁頭的懸浮高度的位置處進(jìn)行掃描移動(dòng)的原子間力顯微鏡(MFM)的懸臂機(jī)構(gòu)上所設(shè)置的霍爾元件或者M(jìn)R元件，來直接觀察由薄膜磁頭所包含的記錄頭(元件)而產(chǎn)生的磁場(chǎng)的情況，由此，是對(duì)所產(chǎn)生的磁場(chǎng)形狀進(jìn)行測(cè)定而不是對(duì)記錄頭(元件)的物理形狀進(jìn)行測(cè)定，從而可非破壞地實(shí)施磁性的有效磁道寬度的檢查。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問題另外還采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)。為達(dá)到上述目的，依據(jù)本發(fā)明提出的磁頭制造方法的第一特征在于經(jīng)過如下工序而制造磁頭晶片工序，進(jìn)行成膜、研磨(milling)、清洗等的工序；長形條工序，從所述晶片工序結(jié)束后的晶片上將條狀的長形條切斷并切下，并對(duì)所述長形條進(jìn)行拋光(lapping)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(acrylonitrilebutadienestyrene,ABS)面加工、清洗、碳保護(hù)膜成膜等的工序；記錄頭測(cè)試工序，從以所述條狀的長形條的與長度方向成垂直的截面形狀即長方形的長邊部分相對(duì)于水平線成垂直的方式而垂直安裝的托盤機(jī)構(gòu)上接收所述長形條，將所述長形條的姿勢(shì)轉(zhuǎn)換成以所述長邊部分相對(duì)于水平線成平行的方式進(jìn)行安裝的水平安裝狀態(tài)，并將處于所述水平安裝狀態(tài)的所述長形條，以成為水平安裝狀態(tài)的方式搬送到檢查平臺(tái)的載置部，并且使用磁力顯微鏡、掃描式霍爾探針顯微鏡或者掃描式磁阻效應(yīng)顯微鏡，而對(duì)所述條狀的長形條內(nèi)的磁頭的有效磁道寬度進(jìn)行測(cè)定；讀出頭測(cè)試工序，對(duì)所述條狀的長形條測(cè)定讀出頭的電磁轉(zhuǎn)換特性(electromagneticconversioncharacteristic)；滑塊工序,將所述條狀的長形條切斷加工成芯片狀，并進(jìn)行清洗、檢查；以及磁頭懸架組件工序，將已加工成所述芯片狀的磁頭與懸臂件加以接合，并進(jìn)行清洗、檢查。從長形條工序開始直到記錄頭測(cè)試工序?yàn)橹?，是使用所述搬送裝置來搬送長形條狀態(tài)的磁頭。根據(jù)所述第一特征所述的磁頭制造方法，本發(fā)明的磁頭制造方法的第二特征在于所述記錄頭測(cè)試工序是在已將勵(lì)磁用信號(hào)供給到所述條狀的長形條內(nèi)的磁頭的記錄頭部的狀態(tài)下，使磁力顯微鏡的懸臂機(jī)構(gòu)的磁性探針在保持在距離所述磁頭的記錄部表面相當(dāng)于磁頭相對(duì)于磁盤的懸浮高度的位置處的狀態(tài)下，沿著所述磁頭的記錄頭部的表面而掃描移動(dòng)，以檢測(cè)表示所述懸臂機(jī)構(gòu)的激振狀態(tài)的信號(hào)，并根據(jù)檢測(cè)出的信號(hào)而對(duì)所述磁頭的有效磁道寬度進(jìn)行測(cè)定。在記錄頭測(cè)試工序中使用所述第二特征所述的磁頭檢查裝置。根據(jù)所述第一特征所述的磁頭制造方法，本發(fā)明的磁頭制造方法的第三特征在于所述記錄頭測(cè)試工序是在已將勵(lì)磁用信號(hào)供給到所述條狀的長形條內(nèi)的磁頭的記錄頭部的狀態(tài)下，使原子間力顯微鏡的懸臂機(jī)構(gòu)上所設(shè)置的霍爾元件或MR元件在保持在距離所述磁頭的記錄部表面相當(dāng)于磁頭相對(duì)于磁盤的懸浮高度的位置處的狀態(tài)下，沿著所述磁頭的記錄頭部的表面而掃描移動(dòng)，以檢測(cè)來自所述霍爾元件或MR元件的信號(hào)，并根據(jù)檢測(cè)出的信號(hào)而對(duì)所述磁頭的有效磁道寬度進(jìn)行測(cè)定。在記錄頭測(cè)試工序中使用所述第三特征中所述的磁頭檢查裝置。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本發(fā)明磁頭搬送裝置、磁頭檢查裝置、及磁頭制造方法至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果根據(jù)本發(fā)明，具有在搬送長形條狀態(tài)的薄膜磁頭時(shí)可自如地改變所述薄膜磁頭的姿勢(shì)的效果。綜上所述，本發(fā)明是有關(guān)于一種磁頭搬送裝置、磁頭檢查裝置、及磁頭制造方法，在搬送長形條狀態(tài)的薄膜磁頭時(shí)可自如地改變所述薄膜磁頭的姿勢(shì)。搬送從晶片上切下的細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭的搬送裝置可以進(jìn)行垂直安裝與水平安裝此兩種安裝。搬送細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭的搬送裝置可以進(jìn)行垂直安裝與水平安裝此兩種安裝，并且在各工序之間進(jìn)行搬送時(shí)可以將所述磁頭的姿勢(shì)從垂直改變?yōu)樗?、從水平改變?yōu)榇怪?。搬送裝置可以進(jìn)行處于垂直安裝與水平安裝之間的傾斜狀態(tài)的傾斜安裝。由此，相對(duì)于各工序之間進(jìn)行搬送時(shí)垂直或者水平安裝的托盤，可容易地進(jìn)行長形條狀態(tài)的薄膜磁頭的搬送。上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。圖1是表示本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)的磁頭檢查裝置的概略構(gòu)成的圖。圖2是表示收納長形條的托盤的情況的圖。圖3是表示圖1的檢查平臺(tái)的載置部的詳細(xì)構(gòu)成的圖。圖4是表示本發(fā)明的磁頭搬送裝置的動(dòng)作的一例的圖。圖5是表示將圖4的托盤以覆蓋長形條供給部的方式而向下側(cè)移動(dòng)，由此將托盤上的長形條垂直安裝在長形條供給部上的狀態(tài)的圖。圖6(A)、⑶、(C)、⑶是表示長形條供給部的構(gòu)成的圖。圖7是表示將垂直安裝在長形條供給部上的長形條的姿勢(shì)改為傾斜45度的狀態(tài)的圖。圖8是表示在長形條供給部中姿勢(shì)已改為傾斜45度的長形條此次將姿勢(shì)改為水平安裝的狀態(tài)的圖。圖9(A)、(B)是表示圖1的磁頭檢查裝置的檢查方式的概要圖，且圖9(A)、(B)是將磁頭部的構(gòu)成放大而表示的概念圖。圖10是表示本發(fā)明的包含使用MFM的記錄頭的檢查工序的磁頭制造工序的一例的圖。圖11是表示本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)的磁頭檢查裝置的其他實(shí)施例的概略構(gòu)成的圖。圖12是表示圖11的磁頭檢查裝置的檢查方式的概要圖，且圖12是將磁頭部的構(gòu)成放大而表示的概念圖。1長形條Ia底面Ib后側(cè)面7懸臂部10檢查平臺(tái)11:X平臺(tái)12:Y平臺(tái)13:Ζ平臺(tái)20:壓電驅(qū)動(dòng)器30控制部41半導(dǎo)體激光元件42、43反射鏡44位移傳感器50差動(dòng)放大器60=DC轉(zhuǎn)換器70反饋控制器71掃描方向80發(fā)送器90霍爾元件91托盤92長形條供給部93、94長形條支承部95長形條固定基準(zhǔn)部98、99連結(jié)構(gòu)件121載置部122階差部122a底面122b后表面具體實(shí)施例方式為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提出的磁頭搬送裝置、磁頭檢查裝置、及磁頭制造方法其具體實(shí)施方式、結(jié)構(gòu)、方法、步驟、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。有關(guān)本發(fā)明的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)及功效，在以下配合參考圖式的較佳實(shí)施例的詳細(xì)說明中將可清楚的呈現(xiàn)。為了方便說明，在以下的實(shí)施例中，相同的元件以相同的編號(hào)表示。圖1是表示本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)的磁頭檢查裝置的概略構(gòu)成的圖。圖2是表示收納長形條的托盤的情況的圖。圖1的磁頭檢查裝置中，可在將滑塊(slider)單體(芯片(chip))切下的前一工序的長形條(由磁頭滑塊排列而成的區(qū)塊(block))的狀態(tài)下，對(duì)MR磁頭、巨磁阻(GiantMagnetoResistive,GMR)磁頭、隧道磁阻(tunnelingmagnetoresistive,TMR)磁頭等(以下稱為MR磁頭)的有效磁道寬度進(jìn)行測(cè)定。通常，長形條是從晶片上切下4cm7cm左右的細(xì)長的塊體。一個(gè)長形條是由60個(gè)90個(gè)左右的磁頭滑塊排列而構(gòu)成。本實(shí)施形態(tài)的磁頭檢查裝置構(gòu)成為如下，即，將所述長形條1作為工件(work)而進(jìn)行規(guī)定的檢查。如圖2所示，通常是在長形條1的短軸方向(圖2的左右方向)上按照規(guī)定間隔排列著20根30根左右的多根長形條1，而收納在托盤91內(nèi)。圖1中，長形條1是垂直安裝在托盤91上。所謂垂直安裝，是指以長形條的與長軸方向垂直的截面中的長方形的長度方向，成為與水平線垂直的方向(重力方向)的方式進(jìn)行安裝。所謂水平安裝，是指以長形條的與長軸方向垂直的截面中的長方形的長度方向，成為與水平線平行的方向的方式進(jìn)行安裝。未圖示的操控機(jī)器人將長形條1從托盤91中一根一根地取出，并搬送到檢查平臺(tái)10上。對(duì)于已搬送并設(shè)置在檢查平臺(tái)10上的長形條1而言，是按照下述方式進(jìn)行檢查。圖3是表示圖1的檢查平臺(tái)的載置部的詳細(xì)構(gòu)成的圖。檢查平臺(tái)10包括可使長形條1在X、Y方向上移動(dòng)的X平臺(tái)11、γ平臺(tái)12。長形條1通過將其長軸方向的單側(cè)面與Y平臺(tái)12上的載置部121的基準(zhǔn)面一次碰觸而得到定位。即，在Y平臺(tái)12的上表面設(shè)置著用以對(duì)長形條1進(jìn)行定位的載置部121。在所述載置部121的上表面?zhèn)冗叢?，設(shè)置著與長形條1的形狀大致吻合的階差部122。長形條1通過分別與所述階差部122的底面122a及側(cè)面122b相抵接，而水平安裝地載置在規(guī)定位置上。長形條1的底面Ia與階差部122的底面122a相抵接，長形條1的后側(cè)面(具有磁頭的各連接端子一面的相反面)Ib與階差部122的后表面122b相抵接。各抵接面122a、122b具備基準(zhǔn)面，所述基準(zhǔn)面成為分別與X平臺(tái)11的移動(dòng)方向(X軸)以及Z平臺(tái)13的移動(dòng)方向(Z軸)平行、且正交的位置關(guān)系，因此，可通過將長形條1抵接設(shè)置在Y平臺(tái)12的階差部122的底面122a及后表面122b上，而執(zhí)行在X方向與Z方向上的定位。雖未圖示，但在Y平臺(tái)12的上方設(shè)置著用以對(duì)位置偏移量進(jìn)行測(cè)定的相機(jī)(camera)。圖4是表示本發(fā)明的磁頭搬送裝置的動(dòng)作的一例的圖。如圖2所示，在托盤91內(nèi)垂直安裝著長形條1，但是在檢查平臺(tái)10的載置部121中必須水平安裝長形條1。因此，需要將長形條1從垂直安裝轉(zhuǎn)換成水平安裝的機(jī)構(gòu)。本發(fā)明的磁頭搬送裝置具備將垂直安裝在托盤91上的長形條1轉(zhuǎn)換成水平安裝的功能。托盤91形成為無底面板的箱型中空，且在托盤91的內(nèi)壁面兩側(cè)，具有用以在垂直方向上保持長形條1的兩端部的凹部。長形條1通過插入到所述凹部中而利用其自重進(jìn)行垂直安裝。如圖4所示，將垂直安裝著長形條1的托盤91安裝在配置于圖1的檢查平臺(tái)10附近的長形條供給部92上。S卩，如圖4所示，由于托盤91不具有底面板，因此以從底面覆蓋長形條供給部92的方式向下側(cè)移動(dòng)而安裝。圖5是表示將托盤91以覆蓋長形條供給部92的方式而向下側(cè)移動(dòng)，由此將托盤91上的長形條1垂直安裝在長形條供給部92上的狀態(tài)的圖。長形條供給部92包括長形條支承部93、94及長形條固定基準(zhǔn)部95。圖6(A)、(B)、(C)、(D)是表示長形條供給部的構(gòu)成的圖，圖6(A)是從上往下觀察長形條供給部的俯視圖，圖6(B)是從右側(cè)觀察圖6(A)的長形條供給部圖的側(cè)視圖，圖6(C)是從下側(cè)觀察圖6(A)的長形條供給部圖的側(cè)視圖，圖6(D)是從下側(cè)觀察作為圖6(A)的長形條供給部之一部分的長形條固定基準(zhǔn)部的側(cè)視圖。如圖5及圖6(A)、(B)、(C)、(D)所示，長形條供給部92包括長形條固定基準(zhǔn)部95，用以將多根長形條1按照規(guī)定間隔而水平安裝；及長形條支承部93、94，設(shè)置在所述長形條固定基準(zhǔn)部95的左右(圖6(A)、(B)、(C)、(D)的上下)兩側(cè)，且用以將長形條1從垂直安裝經(jīng)過傾斜45度安裝而轉(zhuǎn)換成水平安裝。長形條支承部93、94形成為由傾斜45度線與垂線組合而成的鋸齒狀，且形成為在水平方向上切掉所述鋸齒狀的前端部的形狀。鋸齒狀的凹部的底面部具有與長形條1的短軸方向相同程度的長度的水平部。通過在所述水平部上載置長形條1的短軸面(圖3的長形條1的后側(cè)面lb)，而將長形條1垂直安裝在長形條支承部93、94上。長形條支承部93、94經(jīng)由連結(jié)構(gòu)件98、99而結(jié)合。長形條固定基準(zhǔn)部95位于由長形條支承部93、94與連結(jié)構(gòu)件98、99隔開而成的空間內(nèi)，且構(gòu)成為在所述空間內(nèi)向上下方向(圖6(B)的左右方向)上自如地移動(dòng)。關(guān)于長形條固定基準(zhǔn)部95的移動(dòng)機(jī)構(gòu)省略了圖示。另外，長形條支承部93、94沿著左右(圖6(A)、⑶、(C)、⑶的上下)兩端部的長度方向(圖6(A)、⑶的左右方10向)而具有多個(gè)用以將長形條1水平安裝的凹部。所述凹部的形狀是以能夠載置長形條1的長軸面(圖3的長形條1的底面la)的長度而形成。圖7是表示垂直安裝在長形條供給部92上的長形條1的姿勢(shì)已改為傾斜45度的狀態(tài)的圖。即，如圖6(A)、(B)、(C)、(D)所示，垂直安裝在長形條供給部92上的長形條1通過長形條支承部93、94而向下方下降(長形條固定基準(zhǔn)部95相對(duì)地向上側(cè)上升)，以解除垂直方向的限制，長形條1因自重而沿著長形條支承部93、94的鋸齒狀的傾斜45度線傾倒，姿勢(shì)從垂直安裝改為傾斜45度安裝。當(dāng)要將長形條1傾斜45度而安裝在檢查平臺(tái)10的載置部121上時(shí)，是在圖7的狀態(tài)下由長形條供給部92安裝長形條1。圖8是表示在長形條供給部92中姿勢(shì)已改為傾斜45度的長形條1此次將姿勢(shì)改變?yōu)樗桨惭b的狀態(tài)的圖。本實(shí)施形態(tài)中，由于長形條1必須水平安裝在檢查平臺(tái)10的載置部121上，因此通過將長形條支承部93、94從圖7的狀態(tài)進(jìn)一步向下方下降(長形條固定基準(zhǔn)部95相對(duì)地向上側(cè)上升)，而將長形條1水平地安裝(水平安裝)在作為搬送基準(zhǔn)的固定面(長形條固定基準(zhǔn)部95的平面)上。另外，利用長形條支承部93、94的鋸齒狀的傾斜45度線的傾斜面與垂直面，而限制長形條1在水平方向上的移動(dòng)，因此可以充分地確保搬送部中的長形條1的位置精度。利用操控機(jī)器人來吸附保持如圖8那樣水平安裝的長形條1的上表面并加以保持，然后直接以所述姿勢(shì)而水平安裝在檢查平臺(tái)10的載置部121上。此外，在所述實(shí)施形態(tài)中，說明了在沿著長形條支承部93、94的鋸齒狀的傾斜45度線而傾斜的狀態(tài)下保持長形條1的情況，但通過搭載能夠任意改變長形條支承部93、94的傾斜線的角度的機(jī)構(gòu)，可以在長形條1以任意角度傾斜的狀態(tài)下進(jìn)行保持。例如，在長形條支承部93、94的傾斜線部分安裝能夠利用連桿(link)機(jī)構(gòu)而自如地改變傾斜角的機(jī)構(gòu)，由此可自如地改變傾斜角。另外，在所述實(shí)施形態(tài)中，說明了將所述長形條從垂直安裝的托盤91上直接垂直安裝在長形條支承部93、94上的情況，但當(dāng)托盤傾斜安裝時(shí)，可預(yù)先將長形條支承部設(shè)為可傾斜安裝的狀態(tài)，然后從托盤上傳送長形條。將長形條1抵接設(shè)置在Y平臺(tái)12的階差部122的底面122a與后表面122b，而完成規(guī)定的定位時(shí)，長形條1吸附保持在載置部121上，且未圖示的探針卡(probecard)的探針前端與長形條1的前側(cè)面的端子相接觸(contact)。由此，長形條1的磁頭的記錄頭用線圈(coil)成為可勵(lì)磁的狀態(tài)。在圖1中，Z平臺(tái)13使磁力顯微鏡(MFM)的懸臂部7沿著Z方向移動(dòng)。檢查平臺(tái)10的X平臺(tái)11、Y平臺(tái)12、Z平臺(tái)13分別由壓電平臺(tái)(piezo-stage)構(gòu)成。壓電驅(qū)動(dòng)器(piezodriver)20對(duì)所述檢查平臺(tái)10的各X平臺(tái)11、Y平臺(tái)12、Ζ平臺(tái)13(壓電平臺(tái))進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制。控制部30由控制用電腦(computer)構(gòu)成，所述控制用電腦以包含監(jiān)視器(monitor)的個(gè)人電腦(personalcomputer,PC)作為基本構(gòu)成。如圖1所示，在載置于檢查平臺(tái)10的Y平臺(tái)12上的載置部121上的長形條1的上方的相向的位置處，配置著將前端尖細(xì)的磁性探針作為自由端的懸臂部7。懸臂部7安裝在Z平臺(tái)13的下側(cè)所設(shè)置的激振構(gòu)件上。激振構(gòu)件由壓電元件構(gòu)成，并根據(jù)來自壓電驅(qū)動(dòng)器20的激振電壓(excitingvoltage)而施加有頻率在機(jī)械共振頻率附近的交流電壓，從而使磁性探針在上下方向上振動(dòng)。位移(displacement)檢測(cè)部包括半導(dǎo)體激光元件41、反射鏡42、43及位移傳感器(displacementsensor)44，其中位移傳感器44包含雙束光探測(cè)器(photo-detector)元件。從半導(dǎo)體激光元件41射出的光經(jīng)反射鏡42反射后，照射到懸臂部7上，因此所述反射光朝向反射鏡43反射。由懸臂部7所反射的反射光經(jīng)反射鏡43進(jìn)一步反射后，被導(dǎo)入至位移傳感器44中。差動(dòng)放大器(differentialamplifier)50對(duì)從位移傳感器44輸出的兩個(gè)信號(hào)的差分信號(hào)實(shí)施規(guī)定的運(yùn)算處理，并將經(jīng)規(guī)定運(yùn)算處理后的信號(hào)輸出到直流(directcurrent,DC)轉(zhuǎn)換器(converter)60中。也就是，差動(dòng)放大器50將與位移傳感器44所輸出的兩個(gè)信號(hào)的差分相對(duì)應(yīng)的位移信號(hào)輸出到DC轉(zhuǎn)換器60中。DC轉(zhuǎn)換器60由均方根值-直流(RootMeanSquaredvaluetoDirectCurrent,RMS-DC)轉(zhuǎn)換器構(gòu)成，所述均方根值_直流轉(zhuǎn)換器將差動(dòng)放大器50所輸出的位移信號(hào)轉(zhuǎn)換成有效值的直流信號(hào)。從差動(dòng)放大器50輸出的位移信號(hào)是與懸臂部7的位移相對(duì)應(yīng)的信號(hào)，因懸臂部7發(fā)生振動(dòng)，所以所述位移信號(hào)成為交流信號(hào)。從DC轉(zhuǎn)換器60輸出的信號(hào)被輸出到反饋控制器(feedbackcontroller)70中。反饋控制器70將從DC轉(zhuǎn)換器60輸出的信號(hào)作為用以對(duì)懸臂部7當(dāng)前的振動(dòng)大小進(jìn)行監(jiān)視的信號(hào)，而輸出到控制部30中，并且將從DC轉(zhuǎn)換器60輸出的信號(hào)作為用以對(duì)懸臂部7的激振的大小進(jìn)行調(diào)整的Z平臺(tái)13的控制用信號(hào)，而輸出到壓電驅(qū)動(dòng)器20中。由控制部30對(duì)所述信號(hào)進(jìn)行監(jiān)視，并根據(jù)所述信號(hào)的值對(duì)壓電驅(qū)動(dòng)器20的Z平臺(tái)13進(jìn)行控制，由此在測(cè)定開始前，便調(diào)整好懸臂部7的初始位置。本實(shí)施形態(tài)中，是將硬盤驅(qū)動(dòng)器的磁頭懸浮高度設(shè)定為懸臂部7的初始位置。發(fā)送器(transmitter)80將用以激振懸臂部7的振蕩信號(hào)供給到壓電驅(qū)動(dòng)器20中。壓電驅(qū)動(dòng)器20根據(jù)來自所述發(fā)送器80的振蕩信號(hào)，而使懸臂部7以規(guī)定的頻率振動(dòng)。圖9(A)、(B)是表示圖1的磁頭檢查裝置的檢查方式的概要的圖，圖9(A)是將磁頭部的構(gòu)成放大而表示的圖，圖9(B)是表示懸臂部的位移信號(hào)的一例的圖。如圖1及圖9(A)所示，利用Z平臺(tái)13來對(duì)懸臂部7進(jìn)行定位，以使懸臂部7的磁性探針的前端部位于距離長形條1上所形成的磁頭的表面相當(dāng)于磁頭懸浮高度Hf的高度處。使懸臂部7相對(duì)于長形條1(磁頭)而相對(duì)地沿著掃描方向71進(jìn)行掃描。本實(shí)施形態(tài)中，是通過X平臺(tái)11及Y平臺(tái)12而使長形條1移動(dòng)。此時(shí)，磁頭的記錄頭受到交流(alternatingcurrent,AC)勵(lì)磁，因此懸臂部7與AC勵(lì)磁同步而發(fā)生位移。懸臂部7的位移狀態(tài)如圖9(B)所示的位移信號(hào)那樣，因此通過對(duì)所述位移信號(hào)進(jìn)行檢測(cè)，而可以檢測(cè)出磁頭的有效磁道寬度。而且，也可不對(duì)記錄頭進(jìn)行AC勵(lì)磁，而是作為通常的MFM進(jìn)行檢查，由此實(shí)際測(cè)定出磁頭的磁極(pole)寬度。這樣，對(duì)于以往的MFM而言，雖可檢測(cè)出磁頭的實(shí)際磁極寬度，但如本實(shí)施形態(tài)所示，通過一邊對(duì)磁頭的記錄頭進(jìn)行AC勵(lì)磁一邊使懸臂部7以磁頭的磁頭懸浮高度來進(jìn)行掃描移動(dòng)，而可對(duì)磁頭的記錄頭的有效磁道寬度進(jìn)行檢查，從而具有可以在制造工序中途的盡可能早的階段進(jìn)行磁頭的寫入磁道寬度的檢查的效果。圖10是表示本發(fā)明的包含使用了MFM的記錄頭的檢查工序的磁頭制造工序的一例的圖。圖中，在晶片工序(WaferProcess)中，進(jìn)行成膜、研磨、清洗等的工序。在長形條工序(RowBarProcess)中，從晶片上將條狀的長形條切斷并切下，且對(duì)所述長形條進(jìn)行拋光、ABS面加工、清洗、碳保護(hù)膜成膜等的工序。在記錄頭測(cè)試工序(WritePoletestProcess)中，使用所述磁頭搬送裝置將從晶片上切下的條狀的長形條水平安裝在檢查平臺(tái)10的載置部121上，并使用圖1的MFM，對(duì)水平安裝的長形條測(cè)定記錄頭的有效磁道寬度。在讀出12頭測(cè)試工序(ReadElementtestProcess)中，同樣對(duì)條狀的長形條測(cè)定讀出頭的電磁轉(zhuǎn)換特性。在滑塊工序(SliderProcess)中，將長形條切斷加工成芯片狀，并進(jìn)行清洗、檢查。在磁頭懸架組件工序(HGAProcess)中，將已加工成芯片狀的磁頭與懸臂件加以接合，并進(jìn)行清洗、檢查。然后，進(jìn)行未圖示的HDD工序(磁頭臂組件(headstackassembly,HSA)工序、頭盤組件(headdiskassembly,HDA)工序)。根據(jù)本實(shí)施形態(tài)，可以在長形條狀態(tài)下對(duì)記錄頭的有效磁道寬度進(jìn)行良否判定，因此可提高生產(chǎn)性，且可進(jìn)行對(duì)前一工序的早期反饋。圖11是表示本發(fā)明一實(shí)施形態(tài)的磁頭檢查裝置的其他實(shí)施例的概略構(gòu)成的圖。圖11中，對(duì)與圖1相同構(gòu)成的部分附上相同的符號(hào)，因此省略其說明。圖12是表示圖11的磁頭檢查裝置的檢查方式的概要的圖，且圖12是將磁頭部的構(gòu)成放大而表示的概念圖。圖11及圖12的磁頭檢查裝置與圖1及圖9的磁頭檢查裝置的不同點(diǎn)在于，在懸臂部7上設(shè)置霍爾元件90，并直接對(duì)由磁頭所產(chǎn)生的磁場(chǎng)形狀(磁場(chǎng)的絕對(duì)值)進(jìn)行測(cè)定，由此可測(cè)定出磁性的有效磁道寬度。也就是，圖11的磁頭檢查裝置的特征在于使用將霍爾元件90無限接近要觀察的磁性材料、以對(duì)磁場(chǎng)進(jìn)行檢測(cè)并使其可視化的掃描式霍爾探針顯微鏡(ScanningHallProbeMicroscope，SHPM)。β&牛90^Μ力亥1J(photolithography)在GaAs/AlGaAs磊晶片上形成圖案(pattern)而成?；魻栐刂破?1將電流供給到霍爾元件90的端子間?；魻栐刂破?1使用納米瓶測(cè)量儀(nano-bottlemeter)等測(cè)量計(jì)，來對(duì)此時(shí)在霍爾元件90的其他端子間產(chǎn)生的霍爾電壓(Hallvoltage)進(jìn)行測(cè)量，并將測(cè)量出的霍爾電壓輸出到控制部30中?？刂撇?0的個(gè)人電腦(PC)根據(jù)所述霍爾電壓而制作出表面自發(fā)磁場(chǎng)的二維分布，并根據(jù)所述二維分布來測(cè)量出磁頭的有效磁道寬度。也可以代替圖11及圖12的磁頭檢查裝置的懸臂部7上所安裝的霍爾元件90，而在懸臂部7的前端部形成磁阻傳感器(Magneto-ResistivesensonMR)元件，從而將掃描式磁阻效應(yīng)顯微鏡(ScanningMagneto-ResistiveMicroscope,SMRM)用于如上所述的磁性測(cè)定中。此時(shí)，可通過設(shè)置磁阻傳感器控制器來代替霍爾元件控制器，以應(yīng)對(duì)上述情況。這樣，掃描式霍爾探針顯微鏡(SHPM)或者掃描式磁阻效應(yīng)顯微鏡(SMRM)是在磁力顯微鏡(MFM)的懸臂部7上安裝霍爾元件或者M(jìn)R元件，因此可同時(shí)實(shí)施記錄頭的形狀測(cè)定以及磁性測(cè)定(有效磁道寬度的測(cè)定)。以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的方法及技術(shù)內(nèi)容作出些許的更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。權(quán)利要求一種磁頭搬送裝置，搬送從晶片上切下的形狀為細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭，所述磁頭搬送裝置的特征在于構(gòu)成為可以任意地選擇垂直安裝與水平安裝，所述垂直安裝是以所述長形條狀態(tài)的磁頭的與長度方向垂直的方向中切取時(shí)的截面形狀即長方形的長邊部分相對(duì)于水平線成垂直的方式進(jìn)行安裝，所述水平安裝是以所述長邊部分相對(duì)于水平線成平行的方式進(jìn)行安裝。2.一種磁頭搬送裝置，搬送從晶片上切下的形狀為細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭，所述磁頭搬送裝置的特征在于構(gòu)成為可以將所述長形條狀態(tài)的磁頭的姿勢(shì)從垂直安裝狀態(tài)轉(zhuǎn)換成水平安裝狀態(tài)，并且可以將所述長形條狀態(tài)的磁頭的姿勢(shì)從所述水平安裝狀態(tài)轉(zhuǎn)換成所述垂直狀態(tài)，所述垂直安裝狀態(tài)是以所述長形條狀態(tài)的磁頭的與長度方向垂直的方向中切取時(shí)的截面形狀即長方形的長邊部分相對(duì)于水平線成垂直的方式進(jìn)行安裝，所述水平安裝狀態(tài)是以所述長邊部分相對(duì)于水平線成平行的方式進(jìn)行安裝。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磁頭搬送裝置，其特征在于構(gòu)成為可將所述長形條狀態(tài)的磁頭以所述長邊部分相對(duì)于水平線傾斜成規(guī)定角度的狀態(tài)的姿勢(shì)而傾斜安裝。4.一種磁頭檢查裝置，對(duì)從晶片上切下的形狀為細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭的特性進(jìn)行檢查，所述磁頭檢查裝置的特征在于包括磁頭搬送機(jī)構(gòu)，從以所述長形條狀態(tài)的磁頭的與長度方向垂直的方向中切取時(shí)的截面形狀即長方形的長邊部分相對(duì)于水平線成垂直的方式而垂直安裝的托盤機(jī)構(gòu)上接收所述長形條狀態(tài)的磁頭，將所述長形條狀態(tài)的磁頭的姿勢(shì)轉(zhuǎn)換成以所述長邊部分相對(duì)于水平線成平行的方式而安裝的水平安裝狀態(tài)，并將處于所述水平安裝狀態(tài)的所述長形條狀態(tài)的磁頭，以成為水平安裝狀態(tài)的方式而搬送到檢查平臺(tái)的載置部。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁頭檢查裝置，其特征在于包括懸臂機(jī)構(gòu)，在前端具備磁性探針，且以規(guī)定頻率激振；探針機(jī)構(gòu)，與水平安裝在所述檢查平臺(tái)的載置部的所述長形條狀態(tài)的磁頭的磁頭滑塊的連接端子相接觸，并將勵(lì)磁用信號(hào)供給到所述磁頭的記錄頭；掃描機(jī)構(gòu)，使所述磁性探針在保持在距離所述記錄頭的記錄部表面相當(dāng)于磁頭相對(duì)于磁盤的懸浮高度的位置處的狀態(tài)下，沿著被供給有所述勵(lì)磁用信號(hào)且水平安裝在所述檢查平臺(tái)的載置部上的所述磁頭的記錄部表面而掃描移動(dòng)；檢測(cè)機(jī)構(gòu)，在所述掃描機(jī)構(gòu)的掃描過程中對(duì)所述懸臂機(jī)構(gòu)的激振狀態(tài)進(jìn)行檢測(cè)；以及運(yùn)算機(jī)構(gòu)，根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)出的表示所述懸臂機(jī)構(gòu)的激振狀態(tài)的信號(hào)，而計(jì)算出所述磁頭的有效磁道寬度。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁頭檢查裝置，其特征在于包括原子間力顯微鏡的懸臂機(jī)構(gòu)，以規(guī)定頻率激振；磁場(chǎng)檢測(cè)機(jī)構(gòu)，包含所述懸臂機(jī)構(gòu)上設(shè)置的霍爾元件或磁阻元件；探針機(jī)構(gòu)，與水平安裝在所述檢查平臺(tái)的載置部的所述長形條狀態(tài)的磁頭的磁頭滑塊的連接端子相接觸，并將勵(lì)磁用信號(hào)供給到所述磁頭的記錄頭；掃描機(jī)構(gòu)，使所述磁場(chǎng)檢測(cè)機(jī)構(gòu)在保持在距離所述記錄頭的記錄部表面相當(dāng)于磁頭相對(duì)磁盤的懸浮高度的位置處的狀態(tài)下，沿著被供給有所述勵(lì)磁用信號(hào)且水平安裝在所述檢查平臺(tái)的載置部上的所述磁頭的記錄部表面而掃描移動(dòng)；檢測(cè)機(jī)構(gòu)，在所述掃描機(jī)構(gòu)的掃描過程中對(duì)從所述磁場(chǎng)檢測(cè)機(jī)構(gòu)所輸出的信號(hào)進(jìn)行檢測(cè)；以及運(yùn)算機(jī)構(gòu)，根據(jù)所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)所檢測(cè)出的信號(hào)，而計(jì)算出所述磁頭的有效磁道寬度。7.一種磁頭制造方法，其特征在于其經(jīng)過如下工序而制造磁頭晶片工序，進(jìn)行成膜、研磨、清洗等的工序；長形條工序，從所述晶片工序結(jié)束后的晶片上將條狀的長形條切斷并切下，并對(duì)所述長形條進(jìn)行拋光、丙烯腈_丁二烯_苯乙烯面加工、清洗、碳保護(hù)膜成膜等的工序；記錄頭測(cè)試工序，從以所述條狀的長形條的與長度方向垂直的截面形狀即長方形的長邊部分相對(duì)于水平線成垂直的方式而垂直安裝的托盤機(jī)構(gòu)上接收所述長形條，將所述長形條的姿勢(shì)轉(zhuǎn)換成以所述長邊部分相對(duì)于水平線成平行的方式進(jìn)行安裝的水平安裝狀態(tài)，并將處于所述水平安裝狀態(tài)的所述長形條，以成為水平安裝狀態(tài)的方式搬送到檢查平臺(tái)的載置部，并且使用磁力顯微鏡、掃描式霍爾探針顯微鏡或者掃描式磁阻效應(yīng)顯微鏡，而對(duì)所述條狀的長形條內(nèi)的磁頭的有效磁道寬度進(jìn)行測(cè)定；讀出頭測(cè)試工序，對(duì)所述條狀的長形條測(cè)定讀出頭的電磁轉(zhuǎn)換特性；滑塊工序，將所述條狀的長形條切斷加工成芯片狀，并進(jìn)行清洗、檢查；以及磁頭懸架組件工序，將已加工成所述芯片狀的磁頭與懸臂件加以接合，并進(jìn)行清洗、檢查。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的磁頭制造方法，其特征在于所述記錄頭測(cè)試工序是在已將勵(lì)磁用信號(hào)供給到所述條狀的長形條內(nèi)的磁頭的記錄頭部的狀態(tài)下，使磁力顯微鏡的懸臂機(jī)構(gòu)的磁性探針在保持在距離所述磁頭的記錄部表面相當(dāng)于磁頭相對(duì)磁盤的懸浮高度的位置處的狀態(tài)下，沿著所述磁頭的記錄頭部的表面而掃描移動(dòng)，以對(duì)表示所述懸臂機(jī)構(gòu)的激振狀態(tài)的信號(hào)進(jìn)行檢測(cè)，并根據(jù)檢測(cè)出的信號(hào)而對(duì)所述磁頭的有效磁道寬度進(jìn)行測(cè)定。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的磁頭制造方法，其特征在于所述記錄頭測(cè)試工序是在已將勵(lì)磁用信號(hào)供給到所述條狀的長形條內(nèi)的磁頭的記錄頭部的狀態(tài)下，使原子間力顯微鏡的懸臂機(jī)構(gòu)上所設(shè)置的霍爾元件或磁阻元件在保持在距離所述磁頭的記錄部表面相當(dāng)于磁頭相對(duì)磁盤的懸浮高度的位置處的狀態(tài)下，沿著所述磁頭的記錄頭部的表面而掃描移動(dòng)，以檢測(cè)來自所述霍爾元件或磁阻元件的信號(hào)，并根據(jù)檢測(cè)出的信號(hào)而對(duì)所述磁頭的有效磁道寬度進(jìn)行測(cè)定。全文摘要本發(fā)明是有關(guān)于一種磁頭搬送裝置、磁頭檢查裝置、及磁頭制造方法，在搬送長形條狀態(tài)的薄膜磁頭時(shí)可自如地改變所述薄膜磁頭的姿勢(shì)。搬送從晶片上切下的細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭的搬送裝置可以進(jìn)行垂直安裝與水平安裝此兩種安裝。搬送細(xì)長的矩形板狀即長形條狀態(tài)的磁頭的搬送裝置可以進(jìn)行垂直安裝與水平安裝此兩種安裝，并且在各工序之間進(jìn)行搬送時(shí)可以將所述磁頭的姿勢(shì)從垂直改變?yōu)樗?、從水平改變?yōu)榇怪?。搬送裝置可以進(jìn)行處于垂直安裝與水平安裝之間的傾斜狀態(tài)的傾斜安裝。由此，相對(duì)于各工序之間進(jìn)行搬送時(shí)垂直或者水平安裝的托盤，可容易地進(jìn)行長形條狀態(tài)的薄膜磁頭的搬送。文檔編號(hào)G11B5/31GK101930751SQ20101019008公開日2010年12月29日申請(qǐng)日期2010年5月20日優(yōu)先權(quán)日2009年6月24日發(fā)明者中込恒夫,德富照明,飛田明申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立高科技