測量裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示基板的制作領(lǐng)域，具體涉及一種測量裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在顯示基板的制作過程中，先在襯底基板上形成膜層，然后對膜層進(jìn)行構(gòu)圖工藝以形成所需的圖形。膜層可以采用物理氣相沉積(Physical Vapor Deposit1n，PVD)的方法形成，在成膜時(shí)，需要使用夾具l(clamp)將基板固定到基臺2上。夾具I在使用一段時(shí)間以后由于磨損等原因需要進(jìn)行更換，為了判斷夾具I的位置是否正確，需要測量夾具I的固定部11與基臺2之間的距離(如圖1中的A值)和夾具I的夾持部12與基臺2之間的距離(如圖1中的B值)，如果夾具I放置的位置不正確，可能襯底基板損壞，因此，夾具I的位置調(diào)整和夾具I與基臺2之間的距離測量十分重要。
[0003]為了測量圖1中的A值和B值，通常采用圖2中的楔形塞尺3進(jìn)行測量，但是利用這種方式進(jìn)行測量時(shí)，只能先測得A值和B值中的一個(gè)，然后再移動(dòng)楔形塞尺3來測量另一個(gè)，使得測量過程較麻煩;并且，當(dāng)楔形塞尺3的量程不夠時(shí)，如果直接將塞尺的量程增大，那么楔形塞尺3的橫向長度也會相應(yīng)增加，使得楔形塞尺3占用較大的面積，不容易放置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種測量裝置，以便于測量夾具和基臺之間的兩個(gè)方向的距離。
[0005]本發(fā)明提供一種測量裝置，所述測量裝置包括橫向測量機(jī)構(gòu)、縱向測量機(jī)構(gòu)和定位件，所述定位件能夠從初始位置移動(dòng)至待測量物體的位置，所述橫向測量機(jī)構(gòu)用于測量所述定位件橫向移動(dòng)的距離，所述縱向測量機(jī)構(gòu)用于測量所述定位件縱向移動(dòng)的距離。
[0006]優(yōu)選地，所述橫向測量機(jī)構(gòu)和所述縱向測量機(jī)構(gòu)之間的相對位置保持不變，所述定位件能夠相對于所述橫向測量機(jī)構(gòu)和所述縱向測量機(jī)構(gòu)移動(dòng)。
[0007]優(yōu)選地，所述測量裝置能夠測量用于固定基板的夾具和用于支撐所述基板的基臺之間的距離，所述夾具包括縱向延伸的固定部和與所述固定部相連并朝向所述基臺中部橫向延伸的夾持部，所述用于固定基板的夾具和用于支撐所述基板的基臺之間的距離包括所述固定部與所述基臺之間的橫向距離以及所述夾持部與所述基臺之間的縱向距離，所述定位件包括相連的縱向部和橫向部，所述縱向部的至少一部分能夠與所述夾具的固定部的朝向所述基臺的表面貼合，所述橫向部的至少一部分能夠與所述夾具的夾持部的朝向所述基臺的表面貼合。
[0008]優(yōu)選地，所述橫向測量機(jī)構(gòu)包括底座，所述底座上設(shè)置有橫向排列的多個(gè)刻度;所述縱向測量機(jī)構(gòu)包括至少一個(gè)縱向標(biāo)尺，所述縱向標(biāo)尺上設(shè)置有縱向排列的多個(gè)刻度;所述縱向標(biāo)尺和所述底座之間的相對位置保持不變，所述定位件移動(dòng)至任意位置時(shí)，所述定位件上的預(yù)定位置在所述底座上的投影位于所述底座上刻度的范圍內(nèi)，且所述定位件上的預(yù)定位置在所述縱向標(biāo)尺上的投影位于所述縱向標(biāo)尺上刻度的范圍內(nèi)。
[0009]優(yōu)選地，當(dāng)所述定位件位于所述初始位置時(shí)，所述縱向部與所述底座的朝向所述待測量物體的側(cè)面相貼合，且所述橫向部與所述底座的頂面相貼合。
[0010]優(yōu)選地，所述測量裝置還包括驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述定位件相連，用于帶動(dòng)所述定位件相對于所述橫向測量機(jī)構(gòu)進(jìn)行縱向移動(dòng)，并帶動(dòng)所述定位件相對于所述縱向測量機(jī)構(gòu)進(jìn)行橫向移動(dòng)。
[0011]優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括與各個(gè)所述縱向標(biāo)尺分別對應(yīng)的驅(qū)動(dòng)軸和與各個(gè)所述驅(qū)動(dòng)軸分別對應(yīng)相連的連接組件，所述縱向標(biāo)尺上設(shè)置有第一通孔，所述驅(qū)動(dòng)軸的一端穿過相應(yīng)的縱向標(biāo)尺上的第一通孔，所述連接組件與所述定位件相連，所述驅(qū)動(dòng)軸用于帶動(dòng)所述連接組件沿所述底座上刻度的排列方向移動(dòng)。
[0012]優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)軸的表面形成有外螺紋，所述第一通孔的內(nèi)壁形成有與所述驅(qū)動(dòng)軸配合的內(nèi)螺紋，所述驅(qū)動(dòng)軸的軸線方向與所述底座上的刻度的排列方向相同。
[0013]優(yōu)選地，所述縱向測量機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)所述縱向標(biāo)尺，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)所述驅(qū)動(dòng)軸和兩個(gè)所述連接組件，所述連接組件包括連接軸、表面設(shè)置有外螺紋的旋轉(zhuǎn)軸、相互嚙合的第一錐齒輪和第二錐齒輪，所述第一錐齒輪固定在所述驅(qū)動(dòng)軸上，所述第二錐齒輪固定在所述旋轉(zhuǎn)軸上，所述旋轉(zhuǎn)軸的軸線方向與所述縱向標(biāo)尺上刻度的排列方向相同，所述連接軸的第一端與所述驅(qū)動(dòng)軸相連，所述連接軸的第二端與所述旋轉(zhuǎn)軸相連，所述定位件的橫向部上設(shè)置有與所述旋轉(zhuǎn)軸的外螺紋相匹配的螺紋孔，兩個(gè)所述連接組件的兩個(gè)旋轉(zhuǎn)軸所分別對應(yīng)的兩個(gè)螺紋孔不同軸，所述旋轉(zhuǎn)軸的底端穿過相應(yīng)的所述螺紋孔，所述驅(qū)動(dòng)軸能夠繞其軸線與所述連接軸發(fā)生相對旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)軸能夠繞其軸線與所述連接軸發(fā)生相對旋轉(zhuǎn)，所述驅(qū)動(dòng)軸的螺紋旋向與相應(yīng)的所述旋轉(zhuǎn)軸的螺紋旋向相同。
[0014]優(yōu)選地，所述旋轉(zhuǎn)軸內(nèi)形成有沿其軸線方向的盲孔或第二通孔，所述連接軸的第二端伸入所述盲孔或所述第二通孔中，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括軸承，所述軸承的外圈與所述盲孔或所述第二通孔的內(nèi)壁過盈配合，所述軸承的內(nèi)圈與所述旋轉(zhuǎn)軸過盈配合。
[0015]優(yōu)選地，所述橫向部包括兩個(gè)間隔的第一橫向部、分別與兩個(gè)所述第一橫向部對應(yīng)相連的兩個(gè)第二橫向部，兩個(gè)所述螺紋孔分別位于兩個(gè)所述第一橫向部上，兩個(gè)所述螺紋孔之間的距離大于兩個(gè)所述第一橫向部的相互遠(yuǎn)離的兩端之間的距離，所述螺紋孔和相應(yīng)的所述第二橫向部之間的沿兩個(gè)所述縱向標(biāo)尺排列方向的距離大于等于所述夾具的夾持部的寬度；
[0016]所述縱向部包括兩個(gè)子縱向部和連接在兩個(gè)所述子縱向部之間的縱向連接部，兩個(gè)所述子縱向部的第一端分別與兩個(gè)所述第二橫向部相連，所述縱向連接部連接在兩個(gè)所述子縱向部的第二端之間，兩個(gè)所述第一橫向部之間的間隔寬度、兩個(gè)所述第二橫向部之間的間隔寬度以及兩個(gè)所述子縱向部之間的間隔寬度均大于等于所述夾具的夾持部的寬度。
[0017]優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括固定設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)軸上的操作部。
[0018]優(yōu)選地，所述基臺上設(shè)置有用于支撐所述基板的支撐條，所述底座的底面設(shè)置有與所述支撐條相對應(yīng)的凹槽。
[0019]利用本發(fā)明的測量裝置測量所述待測量物體與所述初始位置之間的橫向距離和縱向距離時(shí)，可以通過定位件的移動(dòng)，并通過所述橫向測量機(jī)構(gòu)對定位件移動(dòng)的橫向距離進(jìn)行測量、通過所述縱向測量機(jī)構(gòu)對定位件移動(dòng)的縱向距離進(jìn)行測量，從而一次性測量出所述待測量物體與所述初始位置之間的兩個(gè)方向的距離，而不需要多次移動(dòng)所述測量裝置，從而便于測量。當(dāng)所述待測量物體為夾具，所述初始位置為對應(yīng)于基臺的位置時(shí)，利用所述測量裝置能夠更加方便地測出夾具的夾持部與基臺之間的縱向距離以及固定部與基臺之間的橫向距離。
【附圖說明】
[0020]附圖是用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。在附圖中:
[0021 ]圖1是固定基板的夾具與支撐基板的基臺之間的位置關(guān)系示意圖；
[0022]圖2是現(xiàn)有技術(shù)中測量夾具的夾持部與基臺之間距離的方法示意圖；
[0023]圖3是本發(fā)明提供的測量裝置位于基臺上時(shí)的側(cè)視圖；
[0024]圖4是本發(fā)明提供的測量裝置位于基臺上時(shí)的俯視圖；
[0025]圖5是本發(fā)明提供的測量裝置位于基臺上時(shí)的前視圖；
[0026]圖6是本發(fā)明提供的測量裝置位于基臺上時(shí)的后視圖；
[0027]圖7是本發(fā)明提供的測量裝置中的定位件的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖8是本發(fā)明提供的測量裝置在進(jìn)行距離測量時(shí)的初始狀態(tài)示意圖；
[0029]圖9至圖10是利用測量裝置在進(jìn)行距離測量時(shí)第一種情況下的測量過程示意圖；
[0030]圖11至圖12是利用測量裝置在進(jìn)行距離測量時(shí)第二種情況下的測量過程示意圖；
[0031]圖13至圖14是利用測量裝置對夾具的位置進(jìn)行調(diào)整時(shí)第一種情況下的調(diào)整過程示意圖；
[0032]圖15至圖16是利用測量裝置對夾具的位置