一種測(cè)量非導(dǎo)電材質(zhì)涂裝膜厚度的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于涂裝及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種測(cè)量涂裝膜厚度的方法，具體涉及一種測(cè)量非導(dǎo)電材質(zhì)涂裝膜厚度的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著科學(xué)技術(shù)的快速發(fā)展，涂層及薄膜的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，工業(yè)界對(duì)膜厚的測(cè)量與質(zhì)量控制提出了很高的要求。
[0003]作為普通涂裝企業(yè)，涂裝膜厚度的測(cè)定一般的方法有以下幾種:
[0004]1、千分尺，測(cè)量精度為0.001mm，準(zhǔn)確度為0.01mm ；
[0005]2、使用磁感應(yīng)原理的測(cè)試設(shè)備，測(cè)量精度為0.0lum，準(zhǔn)確度為0.lum ;
[0006]3、其他方式。
[0007]以上方式中，第一種可以運(yùn)用在金屬或非金屬等多種本體材質(zhì)上，但是其準(zhǔn)確度低；第二種只能運(yùn)用在金屬本體材質(zhì)上。無(wú)論采用上述何種方式，如果需要進(jìn)行100%的全檢，均不具備大規(guī)模量產(chǎn)操作性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種測(cè)量非導(dǎo)電材質(zhì)表面進(jìn)行涂裝后涂裝膜厚度的方法，不僅可以運(yùn)用在非金屬材質(zhì)上，而且可以實(shí)現(xiàn)涂裝膜產(chǎn)品的100%全檢。
[0009]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
[0010]本發(fā)明的測(cè)量非導(dǎo)電材質(zhì)涂裝膜厚度的方法，包括下述步驟:
[0011](1)分別制作目標(biāo)厚度范圍內(nèi)的多階段涂裝膜產(chǎn)品；
[0012](2)采用斷層切割電子顯微鏡方式進(jìn)行膜厚的測(cè)定；
[0013](3)將連接有高頻天線發(fā)射頭的高周波發(fā)生裝置固定，于天線發(fā)射頭處放置未涂裝的素材產(chǎn)品，確定波形的最低點(diǎn)，將多階段涂裝膜產(chǎn)品分別置于天線發(fā)射頭處并標(biāo)識(shí)波形最低點(diǎn)，確定目標(biāo)厚度范圍內(nèi)的膜厚極限值，取空白波形的非波谷任意點(diǎn)，加上膜厚的極限值的波谷點(diǎn)連成直線，作為測(cè)定報(bào)警線，將涂裝后的產(chǎn)品置于天線發(fā)射頭處進(jìn)行測(cè)試，在報(bào)警線范圍內(nèi)即為合格，超過(guò)報(bào)警線范圍則為不合格。
[0014]優(yōu)選的，所述的多階段涂裝膜產(chǎn)品的目標(biāo)厚度范圍為0.5?2.0um。
[0015]本發(fā)明的方法相對(duì)現(xiàn)有方法，拋棄了傳統(tǒng)的膜厚測(cè)定方式，采用全新的膜厚測(cè)定方法，特別適用于非金屬材質(zhì)表面進(jìn)行金屬化涂裝的膜厚測(cè)定，對(duì)涂裝膜本身無(wú)破壞性；針對(duì)要求特別嚴(yán)格的產(chǎn)品，可以進(jìn)行100%的膜厚檢測(cè)，膜厚測(cè)量的精度可以達(dá)到0.lum的等級(jí)。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面將對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0017]實(shí)施例
[0018]本方法采用玻璃非導(dǎo)電材質(zhì)進(jìn)行試作
[0019]涂裝方式:含A1粉的金屬涂裝
[0020]客戶要求的涂裝膜厚度為:0.5um?2.0um
[0021]其測(cè)試和管控方法為:
[0022]1、按照要求制作0.5um?2.0um的多階段涂裝產(chǎn)品；
[0023]2、采用斷層切割電子顯微鏡方式進(jìn)行膜厚的測(cè)定；
[0024]3、進(jìn)行高周波相位反射偏移測(cè)試的測(cè)定方式檢討:
[0025](1)準(zhǔn)備可以發(fā)射高周波的設(shè)備，如安捷倫、安立等設(shè)備；
[0026](2)準(zhǔn)備一個(gè)能夠發(fā)射高頻的天線發(fā)射頭；
[0027](3)準(zhǔn)備沒(méi)有涂裝的素材產(chǎn)品
[0028](4)將天線發(fā)射頭與高周波發(fā)生設(shè)備連接后，固定；
[0029](5)將沒(méi)有涂裝的素材產(chǎn)品放置于天線發(fā)射頭處，確定波形的最低點(diǎn)；
[0030](6)將得到客戶認(rèn)可的等同膜厚的產(chǎn)品分別放置于天線發(fā)射頭處，并分別標(biāo)識(shí)波形最低點(diǎn)，尤其是需要標(biāo)識(shí)出客戶認(rèn)可的膜厚的極限值；
[0031](7)取空白波形的非波谷任意點(diǎn)，加上膜厚的極限值的波谷點(diǎn)連成直線，作為測(cè)定報(bào)警線；
[0032](8)將涂裝后的產(chǎn)品置于天線發(fā)射頭處進(jìn)行測(cè)試，在報(bào)警線范圍內(nèi)即為合格，超過(guò)報(bào)警線范圍則為不合格。
[0033]于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本發(fā)明不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。因此，無(wú)論從哪一點(diǎn)來(lái)看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說(shuō)明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。
[0034]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說(shuō)明書(shū)按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說(shuō)明書(shū)的這種敘述方式僅僅是為清楚起見(jiàn)，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說(shuō)明書(shū)作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種測(cè)量非導(dǎo)電材質(zhì)涂裝膜厚度的方法，其特征在于，包括下述步驟: (1)分別制作目標(biāo)厚度范圍內(nèi)的多階段涂裝膜產(chǎn)品； (2)采用斷層切割電子顯微鏡方式進(jìn)行膜厚的測(cè)定； (3)將連接有高頻天線發(fā)射頭的高周波發(fā)生裝置固定，于天線發(fā)射頭處放置未涂裝的素材產(chǎn)品，確定波形的最低點(diǎn)，將多階段涂裝膜產(chǎn)品分別置于天線發(fā)射頭處并標(biāo)識(shí)波形最低點(diǎn)，確定目標(biāo)厚度范圍內(nèi)的膜厚極限值，取空白波形的非波谷任意點(diǎn)，加上膜厚的極限值的波谷點(diǎn)連成直線，作為測(cè)定報(bào)警線，將涂裝后的產(chǎn)品置于天線發(fā)射頭處進(jìn)行測(cè)試，在報(bào)警線范圍內(nèi)即為合格，超過(guò)報(bào)警線范圍則為不合格。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:所述的多階段涂裝膜產(chǎn)品的目標(biāo)厚度范圍為0.5?2.0umo
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種測(cè)量非導(dǎo)電材質(zhì)涂裝膜厚度的方法，通過(guò)連接有高頻天線發(fā)射頭的高周波發(fā)生裝置標(biāo)識(shí)目標(biāo)厚度范圍內(nèi)的多階段涂裝膜產(chǎn)品及未涂裝的素材產(chǎn)品，確定波形的最低點(diǎn)和膜厚極限值，取空白波形的非波谷任意點(diǎn)，加上膜厚的極限值的波谷點(diǎn)連成直線，作為測(cè)定報(bào)警線，將涂裝后的產(chǎn)品置于天線發(fā)射頭處進(jìn)行測(cè)試。本發(fā)明的方法特別適用于非金屬材質(zhì)表面進(jìn)行金屬化涂裝的膜厚測(cè)定，對(duì)涂裝膜本身無(wú)破壞性；針對(duì)要求特別嚴(yán)格的產(chǎn)品，可以進(jìn)行100％的膜厚檢測(cè)，膜厚測(cè)量的精度可以達(dá)到0.1um的等級(jí)。
【IPC分類】G01B11/06
【公開(kāi)號(hào)】CN105277128
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510654235
【發(fā)明人】王寒驍, 沈峰
【申請(qǐng)人】江蘇新思達(dá)電子有限公司
【公開(kāi)日】2016年1月27日
【申請(qǐng)日】2015年10月10日