專利名稱：改進(jìn)的薄膜厚度測量方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種測量樣品性質(zhì)的方法，包括下列步驟-用具有至少一個空間位相和空間周期的激發(fā)圖樣照射樣品的一部分；-一部分探測光束從樣品表面衍射；-用光學(xué)探測器檢測探測光束的衍射部分，產(chǎn)生光誘導(dǎo)的信號；-處理光誘導(dǎo)的信號，確定樣品的性質(zhì)。
本發(fā)明也涉及實現(xiàn)該方法的裝置。
一種全光學(xué)測量技術(shù)稱為脈沖激勵熱散射(ISTS)，能測量各種不同的材料性質(zhì)，如薄膜厚度。在ISTS中，從一個激發(fā)激光器發(fā)出兩個或更多個激光束，在時間和空間上疊加在樣品表面上，形成光干涉圖樣。激發(fā)激光束由一系列短的(例如幾百皮秒)光脈沖組成，波長在樣品的吸收范圍內(nèi)。激發(fā)圖樣的特點是交替變化的‘亮’(也就是相長干涉)和‘暗’(也就是相消干涉)的區(qū)域，間隔取決于激光束的波長和它們之間的角度。圖樣的亮區(qū)加熱樣品，引起它熱膨脹。這樣發(fā)出相干的、反向傳播的聲波，其波長和方向與上述圖樣相匹配。
對于不透明的膜(如金屬膜)，聲波在膜層表面上產(chǎn)生依賴時間的‘波紋’圖樣，該表面在一個或多個聲頻上振蕩(典型為幾百兆赫)。該聲頻取決于薄膜性質(zhì)如厚度、密度和彈性模量。探測光束然后從波紋衍射，形成一系列信號光束，每一個代表至少一個不同的衍射級(例如+1，-1，+2或-2等衍射級)。信號光束在該聲頻或其倍數(shù)頻率上振蕩，或者如果有幾種頻率時，在聲頻的和頻或差頻上振蕩。一個或多個信號光束被檢測和監(jiān)視，以測量樣品的性質(zhì)。
使用ISTS測量薄膜厚度和各種其他性質(zhì)有許多描述，例如在美國專利5，633，711(題目是用光學(xué)引發(fā)的聲子測量材料的性質(zhì))；5，546，811(題目是薄膜樣品中的應(yīng)力的光學(xué)測量)；和U．S．S．N．08／783，046(題目是測量薄膜厚度的方法和器件，7／15／96提出申請)中，這里作為參考。
ISTS測量薄膜厚度能用作微電子器件制作過程中和／或之后的質(zhì)量控制參數(shù)。在這些器件中，金屬和金屬合金的薄膜沉積在硅片上，并用作導(dǎo)電體、粘附促進(jìn)層和擴(kuò)散勢壘。例如銅、鎢和鋁金屬薄膜用作導(dǎo)電體和互相連接；鈦和鉭作為粘附促進(jìn)層；和氮化鈦和氮化鉭作為擴(kuò)散勢壘。金屬薄膜的厚度變化能改變它們的電學(xué)和機(jī)械性質(zhì)，從而影響使用它們的器件的性能。為了在制造過程中有效監(jiān)控金屬薄膜，ISTS薄膜厚度測量必須高度可重復(fù)，精確和準(zhǔn)確。
本方法的特征作用以下附加的步驟-調(diào)節(jié)激發(fā)圖樣的空間位相；-重復(fù)照射、衍射和探測步驟，產(chǎn)生至少一個附加光誘導(dǎo)信號；-處理全部光誘導(dǎo)的信號，確定樣品的性質(zhì)。
通過調(diào)節(jié)激發(fā)圖樣的空間位相和對激發(fā)圖樣的每一個位相進(jìn)行測量，本方法可獲得相當(dāng)大的改進(jìn)。空間位相的調(diào)節(jié)能通過‘抖動(dither)’用于ISTS的系統(tǒng)中的光學(xué)或機(jī)械元件實現(xiàn)。在這種情況下，‘抖動’定義為一個元件的移動或調(diào)制，其改變了激發(fā)圖樣的空間圖樣。在首選實例中，該圖樣由如上所述的近似平行的亮和暗交替區(qū)域組成。改變激發(fā)圖樣的空間位相，意味著激發(fā)圖樣的亮區(qū)和暗區(qū)的位置相對于樣品表面協(xié)調(diào)移動。空間位相的改變，作為抖動的結(jié)果，傾向于與橢圓的亮和暗區(qū)的長軸方向垂直。在這里關(guān)于激發(fā)圖樣的術(shù)語位相和空間位相可互換使用。
本發(fā)明也涉及實現(xiàn)該方法的裝置，包括產(chǎn)生光激發(fā)脈沖的第一光源；對準(zhǔn)的一個光學(xué)系統(tǒng)，用于接收光激發(fā)脈沖并把它分成至少兩個光脈沖，然后聚焦兩個光脈沖到樣品表面上，形成具有至少一個空間位相和空間周期的激發(fā)圖樣；產(chǎn)生探測光束的第二光源，探測光束從樣品上衍射；檢測探測光束的衍射部分以產(chǎn)生光誘導(dǎo)信號的一個光探測器；和一個處理器，配置成能夠處理光探測器產(chǎn)生的光誘導(dǎo)信號并確定樣品的性質(zhì)，其特征在于用于調(diào)節(jié)激發(fā)圖樣的空間位相的位相調(diào)節(jié)元件。
本發(fā)明實例的進(jìn)一步優(yōu)點在從屬權(quán)利要求中敘述。
本發(fā)明有許多優(yōu)點。總的來說，使用抖動在測量過程中改變激發(fā)圖樣的位相，能提高基于ISTS的厚度測量的精度即使非常粗糙的薄膜，或包含能散射光束的區(qū)域的薄膜，都能準(zhǔn)確測量。在這個應(yīng)用中，ISTS檢測薄膜厚度的很小的變化，這變化能影響薄膜在微電子器件中的功能。
精度的提高在多點測量時特別明顯。這些測量涉及在給定區(qū)域內(nèi)用多點測量厚度。多點測量的例子包括1)‘線掃描’，沿薄膜表面的一條線測量多于一個點，例如沿著薄膜的直徑或邊緣；2)‘輪廓圖’，基于二維點陣在薄膜上一個區(qū)域(例如圓、方形或矩形)進(jìn)行測量。在這些多點測量過程中，抖動光學(xué)系統(tǒng)中的一個元件，會減少每一點測量厚度的標(biāo)準(zhǔn)偏差，從而提高總的測量精度。
在更一般的情況，本發(fā)明改善了全光學(xué)、非接觸測量技術(shù)，該技術(shù)能有效測量單層或多層結(jié)構(gòu)薄膜的厚度，如ISTS。厚度值然后能用于控制制作工藝(例如，微電子器件的制造)。該裝置具備光學(xué)測量的所有優(yōu)點每一個測量是非接觸、迅速的(典型情況，每點少于1或2秒)、遠(yuǎn)距離的(光學(xué)系統(tǒng)能離樣品10厘米或更遠(yuǎn))，和能在一個小區(qū)域內(nèi)進(jìn)行(小到大約20微米)。除了薄膜厚度的其他性質(zhì)也可以通過使用抖動進(jìn)行更精確的測量。
這些和本發(fā)明的其他方面是顯然的，通過沒有限制條件的例子闡明，參考在后面描述的實例。
在附圖中

圖1A表示執(zhí)行ISTS測量的光學(xué)系統(tǒng)，包括按照本發(fā)明的抖動位相掩模；圖1B表示圖1A的抖動位相掩模的放大視圖；圖1C表示圖1A的位相掩模上的圖樣的側(cè)面示意圖；圖2A表示信號強(qiáng)度與時間關(guān)系圖，對于從沉積在硅片上的銅／鉭氮化物／氧化物結(jié)構(gòu)測量得到的波形；圖2B表示圖2A的傅立葉變換；圖3A和3B表示薄膜厚度作為從多點測量產(chǎn)生的位置的函數(shù)關(guān)系圖，分別帶有和沒有圖1A的位相掩模；圖4A表示按照本發(fā)明的抖動的樣品底板的側(cè)面示意圖；圖4B表示按照本發(fā)明的抖動的激發(fā)激光的側(cè)面示意圖；圖4C表示按照本發(fā)明的抖動激發(fā)激光束的聲光調(diào)制器的側(cè)面示意圖。
參考圖1A-C，一個光學(xué)系統(tǒng)50使用ISTS測量沉積在基底11上的薄膜10的厚度。類似的光學(xué)系統(tǒng)在以下專利中有描述，美國專利5，633，711(題目是用光學(xué)引發(fā)的聲子測量材料的性質(zhì))；5，546，811(題目是薄膜樣品中的應(yīng)力的光學(xué)測量)；和U．S．S．N．08／783，046(題目是測量薄膜厚度的方法和器件，7／15／96提出申請)，它們的內(nèi)容先前已經(jīng)作為參考。系統(tǒng)50具有激光器52，發(fā)射激發(fā)脈沖12，例如穿過分束器65。分束器65反射一部分脈沖到低速光子探測器67，產(chǎn)生電脈沖觸發(fā)數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)(圖中未表示)。激發(fā)脈沖12余下的部分通過分束器65，照射準(zhǔn)直透鏡系統(tǒng)60和聚焦透鏡系統(tǒng)64，如柱面透鏡，聚焦脈沖在位相掩模62上。
參考圖1B-1C，按照本發(fā)明，位相掩模62附加到馬達(dá)驅(qū)動的平臺16上，在測量過程中，‘抖動’前后水平運動掩模62，相對于激發(fā)脈沖12的傳播。如箭頭63′所示，抖動一般為時間相關(guān)的、周期性的方式進(jìn)行(例如正弦方式)。在抖動期間，激發(fā)脈沖12照射圖樣66在位相掩模62上，掩模62由玻璃組成，其被刻蝕以包括不同厚度的區(qū)域88a，88b。由圖1C中箭頭67所示，區(qū)域88a，88b有一定的間隔(典型為1到50微米之間)，間隔小于激光脈沖12在掩模平面內(nèi)的點的大小。點的尺寸一般為橢圓，近似為20×200微米；橢圓的長軸與區(qū)域88a，88b的擴(kuò)展區(qū)正交地延伸。在典型的應(yīng)用中，位相掩模前后運動范圍為大約0．01mm-2．0mm，速度為大約50微米／秒。
抖動的范圍一般與位相掩模上圖樣的間隔相同，如上面所述為在1到50微米之間。一般來說，優(yōu)選地抖動位相掩模改變激發(fā)圖樣的空間位相，以增加方式的范圍從0°到180°，或其倍數(shù)。因為激發(fā)圖樣優(yōu)選為一系列平行的亮和暗區(qū)，這意味著在抖動期間亮區(qū)將移動到暗區(qū)的位置，暗區(qū)將移動到亮區(qū)的位置，如此反復(fù)。
在這種配置下，圖樣66衍射脈沖12為兩個激發(fā)脈沖12a，12b，從掩模62以角度θ發(fā)散。在操縱期間，位相掩模的抖動引起區(qū)域88a，88b的位置相對于橢圓激光點以時間相關(guān)方式變化。這個過程調(diào)制了每一個激發(fā)脈沖12a，12b的光學(xué)位相，從而調(diào)制當(dāng)激發(fā)脈沖在樣品表面重疊時的激發(fā)圖樣的亮區(qū)和暗區(qū)的位相。在典型的測量中，抖動發(fā)生的頻率(一般100-1000Hz)比ISTS測量的數(shù)據(jù)采集頻率高(一般10-500Hz)，因此在每一個抖動周期內(nèi)能進(jìn)行幾個ISTS測量。
再次參考圖1A，激發(fā)脈沖12a，12b從位相掩模62上散射，并照射焦距為f的消色差透鏡對70。透鏡對70聚焦脈沖12a，12b在薄膜10上，角度與脈沖從位相掩模上散射的角度θ相同。透鏡對70疊加脈沖在薄膜10的表面49上，以使它們光學(xué)干涉形成空間周期激發(fā)圖樣15。圖樣15特征為大約50個交替的亮暗區(qū)。透鏡對70離位相掩模距離為2f，以使圖樣15的空間頻率與位相掩模上的圖樣66的空間頻率匹配(也就是消色差透鏡對近似1∶1成像)。如上所述以時間相關(guān)的方式相對于樣品抖動位相掩模調(diào)節(jié)激發(fā)圖樣的空間位相，但不改變圖樣的空間頻率。
在ISTS測量期間，薄膜吸收圖樣15中的亮區(qū)，結(jié)果發(fā)生熱膨脹，發(fā)射反向傳播的聲波。聲波形成‘瞬間光柵’，以聲波的頻率改變薄膜的表面(例如通過產(chǎn)生時間相關(guān)的表面波紋或折射率變化)。一旦開始，聲波用探測激光器54發(fā)出的探測光束20測量。探測光束20穿過準(zhǔn)直透鏡55和聚焦透鏡71，照射在薄膜表面上的圖樣上或圖樣附近。一部分探測光束從表面波衍射形成衍射信號光束20′，穿過透鏡76并進(jìn)入高速光檢測器80。光檢測器80檢測衍射光束20′，產(chǎn)生光誘導(dǎo)電信號，由數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)處理并產(chǎn)生聲波頻率調(diào)制的數(shù)據(jù)掃描。術(shù)語‘?dāng)?shù)據(jù)掃描’在這里指單個的測量。
在典型的測量中，一臺計算機(jī)(圖中未表示)從單個的點平均多個數(shù)據(jù)掃描(典型為50-500個掃描)，產(chǎn)生信號波形100，如圖2A中所示。這樣，在這個應(yīng)用中，位相掩模在ISTS測量中抖動。這種情況下的平均數(shù)據(jù)掃描使數(shù)據(jù)具有高的信噪比(典型為1∶100，000)。圖2A中的信號波形100是從標(biāo)稱的沉積在硅片上的5185埃銅／250埃／1000埃氧化物結(jié)構(gòu)上測量的，表示ISTS信號強(qiáng)度SI(單位為毫伏)作為時間T(單位為納秒)的函數(shù)。信號波形100的傅立葉變換101表示在圖2B的圖形中。該圖表示功率P(任意單位)作為頻率Fr(單位MHz)的函數(shù)圖。這些數(shù)據(jù)表示出信號波形的頻率，因此聲波模式的頻率在這種情況下是大約270MHz。為了確定薄膜厚度，這個聲波頻率由計算機(jī)分析，連同上面提到的參考中描述的激發(fā)圖樣的亮和暗區(qū)的間距的倒數(shù)(也就是波矢量)，和薄膜的密度和聲音速度一起。分析過程描述于例如美國專利5，633，711，其內(nèi)容在這里作為參考。測量能沿樣品表面進(jìn)行單點或多點測量。
圖3A和3B表示使用上面描述的方法，通過抖動位相掩模如何提高位置相關(guān)的厚度測量。兩個圖中都沿y軸畫出厚度Th(單位為埃)，沿x軸畫出距離(單位為毫米)。圖形的數(shù)據(jù)用圖2中的樣品獲得，抖動的直線距離0．035mm(圖3A)和沒有抖動(圖3B)。為了進(jìn)行位置相關(guān)的厚度測量，每0．5微米進(jìn)行一次ISTS測量。從數(shù)據(jù)中清楚看出，在薄膜厚度的測量中使用抖動位相掩模比沒有抖動掩模的類似測量(全部范圍大于2000埃)更加均勻(全部范圍大約75埃)。普通技術(shù)人員會立即發(fā)現(xiàn)圖3b中的厚度偏離不能準(zhǔn)確代表銅薄膜的厚度，而圖3a中表示的更具有代表性。
上面描述的本發(fā)明范圍內(nèi)有其他實例。換句話說，光學(xué)系統(tǒng)的其他元件能移動和改變，以實現(xiàn)激發(fā)圖樣空間位相要求的變化。在每一種情況下，優(yōu)先考慮抖動元件能夠引起激發(fā)圖樣的空間位相變化在0°到180°之間。
特別的，參考圖4A，激發(fā)圖樣的位相能通過運動樣品底板13以時間相關(guān)方式調(diào)節(jié)，底板13水平地前后抖動(如箭頭14所示)。該方法是類似于抖動位相掩模，它相對于樣品表面49調(diào)節(jié)激發(fā)圖樣15的空間位相。在這種情況下，樣品底板13的運動距離和速度與圖1A和1B中抖動位相掩模的值相似。
參考圖4B，在另一個實例中，激發(fā)激光器52、平面鏡(未示出)、透鏡(未示出)或者這些的組合或光學(xué)系統(tǒng)中其他元件被抖動(如箭頭17所示)，以獲得與上面所述抖動位相掩模相同的結(jié)果。抖動的范圍和速度也與1A和1B中所述相似。
總的來說，抖動是用馬達(dá)驅(qū)動的平臺或接收任何類型電信號的等效物通過移動系統(tǒng)中的任何元件(例如位相掩模)實現(xiàn)的。該信號能是正弦的、鋸齒的、方形、隨機(jī)或任何其他類型波形，在0．1-1000Hz之間。馬達(dá)驅(qū)動的平臺能用任何可移動元件替換，如壓電器件。
如圖4C所示，抖動能通過采用電光(例如普克爾盒)或聲光調(diào)制器(例如布拉格盒)47來完成，放置在圖4B所示激發(fā)脈沖的一個路徑中。在這種情況下，調(diào)制器改變?nèi)肷涿}沖12的位相，同時產(chǎn)生兩個激發(fā)脈沖12a，12b。當(dāng)重疊在樣品上時，這些脈沖形成隨時間變化的激發(fā)圖樣。
在其他實例中，能使用不是圖1所示的光學(xué)系統(tǒng)，其使用位相掩模產(chǎn)生激發(fā)場來激勵聲波和反射模式結(jié)構(gòu)以測量該聲波。這樣的系統(tǒng)例如在U．S．S．N．08／885，555中描述(題目是測量材料性質(zhì)的改進(jìn)的瞬間光柵方法和裝置)，這里作為參考。
同樣的，位相掩模能用類似的衍射光學(xué)元件如振幅掩模、衍射光柵、電光調(diào)制器或能產(chǎn)生形成激發(fā)圖樣的光束的一些組合或等效物。衍射元件能包括同時產(chǎn)生多于一個空間頻率的圖樣，非周期的激發(fā)圖樣，或包含亮區(qū)是其他形狀而不是平行直線的激發(fā)圖樣。例如衍射光學(xué)元件能產(chǎn)生包括一系列同心圓、橢圓或其他形狀的激發(fā)圖樣。其他可接受的衍射掩模的圖樣在美國專利5，734，470中描述，題目為時間決定光學(xué)測量的器件和方法，其內(nèi)容在這里作為參考。在這樣的情況下，元件的抖動可能導(dǎo)致激發(fā)圖樣的改變，與所描述的平行的亮和暗區(qū)有一點不同。然而，這些激發(fā)圖樣的移動頻率比數(shù)據(jù)采集的頻率高，能有有益的效果。
同樣的，任何適合的激光器能用來產(chǎn)生激發(fā)和探測光束。典型的激發(fā)和探測激光器分別是二極管泵浦NdYAG／Cr+4YAG微片激光器和一個二極管激光器，盡管其他激光器可能被使用。例如激發(fā)激光器可能是鈦藍(lán)寶石，鉻LISAF，環(huán)形或光纖激光器。
在其他實例中，信號波形能被分析，并確定樣品的厚度以外的性質(zhì)。例如，聲波的頻率能用于確定薄膜的附著力、密度、硬度、彈性、表面粗糙度和其他力學(xué)或物理性質(zhì)。此外，信號波形的分層而不是頻率能被分析以確定樣品的其他性質(zhì)。例如波形的形狀能被分析和確定附著力的程度、表面粗糙度或結(jié)構(gòu)中一個或多個薄膜的組分。
從波形中能測量的其他性質(zhì)包括離子注入硅片的性質(zhì)，如注入離子的濃度和能量。這些性質(zhì)的測量在U．S．S．N．08／783，406(題目為測量半導(dǎo)體材料中離子注入的方法和裝置)和U．S．S．N．08／885，555(題目為測量半導(dǎo)體材料中離子注入的改進(jìn)的方法和裝置)中描述，這里作為參考。
本發(fā)明的方法和裝置能用于測量多種結(jié)構(gòu)。例如本方法在確定微電子工業(yè)中使用的金屬薄膜厚度上特別有效。這樣的金屬薄膜包括但不限制于鋁、銅、鎢、鈦、鉭、氮化鈦、氮化鉭、金、鉑、鈮和它們的合金。這些金屬可能包括在單層或多層結(jié)構(gòu)中。其他能被測量的材料包括半導(dǎo)體(例如硅、GaAs，和它們的衍生物)聚合物，類金剛石薄膜、和掩埋的透明薄膜。
還有其他實例在下面的權(quán)利要求的范圍中。
權(quán)利要求
1．一種測量樣品性質(zhì)的方法，包括下列步驟-用具有至少一個空間位相和空間周期的激發(fā)圖樣照射樣品的一部分；-從樣品表面衍射一部分探測光束；-用光學(xué)探測器檢測探測光束的衍射部分，產(chǎn)生光誘導(dǎo)的信號；-處理光誘導(dǎo)的信號，確定樣品的性質(zhì)。-調(diào)節(jié)激發(fā)圖樣的空間位相；-重復(fù)照射、衍射和探測步驟，產(chǎn)生至少一個附加光誘導(dǎo)信號；-處理全部光誘導(dǎo)的信號，確定樣品的性質(zhì)。
2．權(quán)利要求1所述的方法，其中衍射圖樣通過疊加從初始光脈沖中導(dǎo)出的至少兩個光脈沖形成。
3．權(quán)利要求1或2所述的方法，其中調(diào)節(jié)步驟包括沿垂直于初始光脈沖的傳播方向的方向移動樣品照射系統(tǒng)的一個元件。
4．權(quán)利要求1，2或3所述的方法，其中處理步驟進(jìn)一步包括平均化多個光誘導(dǎo)信號。
5．權(quán)利要求1，2，3或4所述的方法，其中處理步驟進(jìn)一步包括確定每一個光誘導(dǎo)信號或多個光誘導(dǎo)信號的平均值的傅立葉變換(101)。
6．權(quán)利要求1，2，3，4或5所述的方法，其中本方法進(jìn)一步包括分析步驟，以確定樣品的性質(zhì)，該分析步驟包括用計算機(jī)或微處理器分析光誘導(dǎo)信號。
7．實現(xiàn)權(quán)利要求1所述方法的裝置，包括-產(chǎn)生光激發(fā)脈沖的第一光源；-一個光學(xué)系統(tǒng)，被對準(zhǔn)以接收光激發(fā)脈沖，并把它分成至少兩個光脈沖，然后聚焦兩個光脈沖到樣品表面上，形成具有至少一個空間位相和空間周期的激發(fā)圖樣；-產(chǎn)生探測光束的第二光源，探測光束從樣品上衍射；-一個光探測器，檢測探測光束的衍射部分，產(chǎn)生光誘導(dǎo)信號；-一個處理器，配置成能夠處理光探測器產(chǎn)生的光誘導(dǎo)信號，并確定樣品的性質(zhì)，其特征在于用于調(diào)節(jié)激發(fā)圖樣的空間位相的一個位相調(diào)節(jié)元件。
8．權(quán)利要求7所述的裝置，其中光學(xué)系統(tǒng)包含衍射元件，用于形成所述的至少兩個光脈沖。
9．權(quán)利要求7或8所述的裝置，其中位相調(diào)節(jié)元件由光學(xué)系統(tǒng)中的可移動元件組成。
10．權(quán)利要求7或8所述的裝置，其中位相調(diào)節(jié)元件由電光調(diào)制器、聲光調(diào)制器，移動的玻璃幻燈片或它們的組合組成。
11．權(quán)利要求9所述的裝置，其中給可移動元件提供驅(qū)動器，驅(qū)動器由壓電器件、馬達(dá)、機(jī)械平臺或它們的組合組成，并由電信號控制。
12．權(quán)利要求11所述的裝置，其中電信號是方形、鋸齒形、隨機(jī)或正弦波形。
13．權(quán)利要求9，11或12所述的裝置，其中可移動元件是衍射元件。
14．權(quán)利要求9，11或12所述的裝置，其中可移動元件是平面鏡、透鏡或棱鏡。
15．權(quán)利要求9，11或12所述的裝置，其中第一光源是可移動的激光器，其構(gòu)成可移動元件。
16．權(quán)利要求7或8所述的裝置，其中位相調(diào)節(jié)元件由支持樣品的可移動底板組成。
全文摘要
所述的是測量樣品性質(zhì)的一種方法和裝置:用具有至少一個空間相位和空間周期的激發(fā)圖樣照射樣品的一部分;一部分探測光束從樣品表面衍射;用光學(xué)探測器檢測探測光束的衍射部分,產(chǎn)生光誘導(dǎo)的信號;處理光誘導(dǎo)的信號,確定樣品的性質(zhì)。通過調(diào)節(jié)激發(fā)圖樣的空間位相和重復(fù)照射、衍射和檢測步驟,能產(chǎn)生至少一個附加光誘導(dǎo)信號,本方法有相當(dāng)大的改進(jìn)。
文檔編號G01B11/06GK1291284SQ99803134
公開日2001年4月11日 申請日期1999年10月21日 優(yōu)先權(quán)日1998年10月21日
發(fā)明者M·?？怂? M·約菲, M·巴尼特 申請人:皇家菲利浦電子有限公司