專(zhuān)利名稱(chēng)：量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種量測(cè)裝置，具體地說(shuō)，涉及量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置 背景技術(shù)在半導(dǎo)體制程中，量測(cè)晶圓上薄膜厚度的裝置通常包括光源提供入射光， 入射光通過(guò)光學(xué)元件照到晶圓的表面，在晶圓的表面反射。量測(cè)裝置中還設(shè)有 一個(gè)分析裝置，該分析裝置內(nèi)保存入射光的光強(qiáng)，并可以采集來(lái)自晶圓表面的 反射光，然后比較反射光的光強(qiáng)與入射光的光強(qiáng)，從而判斷晶圓上薄膜的厚度。由此可見(jiàn)，入射光的光強(qiáng)是判斷基準(zhǔn)，然而，實(shí)際使用過(guò)程中，光學(xué)元件 在長(zhǎng)期使用過(guò)程中很有可能受到一些酸性或堿性氣體的污染，入射光光強(qiáng)通過(guò) 受到污染的光學(xué)元件與原先預(yù)計(jì)的入射光光強(qiáng)就會(huì)有差異，從而造成量測(cè)結(jié)果 的不精確。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種改進(jìn)的量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置，其可以更為 精確量測(cè)晶圓表面的薄膜厚度。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置，該裝置包括光源，光學(xué)元件及分析裝置，光源發(fā)出光線(xiàn)通過(guò)光學(xué)元件照射在晶圓上；其中， 該裝置還包括過(guò)濾器和一個(gè)盒子，該過(guò)濾器，光源及光學(xué)元件置于所述盒子內(nèi)， 過(guò)濾器用于過(guò)濾盒子內(nèi)的酸氣和堿氣。所述盒子還設(shè)有一個(gè)缺口，光源發(fā)出的光線(xiàn)通過(guò)光學(xué)元件，然后通過(guò)該缺 口照射到晶圓上，該缺口使光線(xiàn)不受干擾地通過(guò)。所述過(guò)濾器的出風(fēng)口與盒子外部相連通，進(jìn)風(fēng)口設(shè)在盒子內(nèi)部。所述過(guò)濾器的過(guò)濾材質(zhì)主要是活性炭和聚合化合物。盒子是鐵質(zhì)及其他不易被酸氣及堿氣腐蝕的材質(zhì)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的裝置額外設(shè)置了一個(gè)過(guò)濾器，還將過(guò)濾器，光 源及光學(xué)元件置于一個(gè)盒子內(nèi)，過(guò)濾器可以將盒子內(nèi)的污染氣體都過(guò)濾到盒子 外部，有效避免了光學(xué)元件受到污染，防止入射光的光強(qiáng)由于酸氣和堿氣的污 染而發(fā)生不能預(yù)計(jì)的變化，從而造成分析裝置最終的分析結(jié)果精度下降。


通過(guò)以下對(duì)本發(fā)明一實(shí)施例結(jié)合其附圖的描述，可以進(jìn)一步理解其發(fā)明的目的、具體結(jié)構(gòu)特征和優(yōu)點(diǎn)。其中，附圖為圖1為本發(fā)明量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置的工作示意圖。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置可以量測(cè)晶圓表面薄膜的厚度。 請(qǐng)參閱圖l,晶圓9被放入該裝置內(nèi)進(jìn)行量測(cè)。該裝置包括光源l,光學(xué)元 件3，過(guò)濾器5，分析裝置7及盒子10。其中，光源l,光學(xué)元件3及過(guò)濾器5 集中置入一個(gè)盒子10內(nèi)。盒子10設(shè)有一個(gè)缺口，用于保證通過(guò)光學(xué)元件3的 光線(xiàn)可以不受干擾地射到晶圓9上。過(guò)濾器5的出風(fēng)口與盒子10外部相連通， 進(jìn)風(fēng)口設(shè)在盒子10內(nèi)部，其可以過(guò)濾盒子10內(nèi)一些氣體并排出盒子IO外部。在本發(fā)明實(shí)施例中，盒子io可以是鐵質(zhì)的或是其他不易被酸氣或堿氣腐蝕的材質(zhì)。分析裝置7可預(yù)先保存入射光的光強(qiáng)。在量測(cè)過(guò)程中，光源1產(chǎn)生入射光，入射光通過(guò)光學(xué)元件3的作用照射到 晶圓9表面，該光線(xiàn)在晶圓9的表面直接反射至分析裝置7。分析裝置7采集到 反射光后分析其光強(qiáng)，將反射光的光強(qiáng)與預(yù)先保存的入射光的光強(qiáng)進(jìn)行比較， 根據(jù)光強(qiáng)的變化計(jì)算出晶圓9表面上薄膜的厚度。在實(shí)際使用過(guò)程中，過(guò)濾器5的過(guò)濾材質(zhì)主要是活性炭和聚合化合物。這 些材質(zhì)可以過(guò)濾酸氣和堿氣，所以過(guò)濾器5可以有效過(guò)濾盒子10內(nèi)的一些酸氣 和堿氣，從而防止入射光的光強(qiáng)由于酸氣和堿氣的污染而發(fā)生不能預(yù)計(jì)的變化， 進(jìn)而影響到分析裝置7分析結(jié)果的精度。
權(quán)利要求
1. 一種量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置，該裝置包括光源，光學(xué)元件及分析裝置，光源發(fā)出光線(xiàn)通過(guò)光學(xué)元件照射在晶圓上；其特征在于該裝置還包括過(guò)濾器和一個(gè)盒子，該過(guò)濾器，光源及光學(xué)元件置于所述盒子內(nèi)，過(guò)濾器用于過(guò)濾盒子內(nèi)的酸氣和堿氣。
2、 如權(quán)利要求l所述的量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置，其特征在于所述盒子還i殳 有一個(gè)缺口，光源發(fā)出的光線(xiàn)通過(guò)光學(xué)元件，然后通過(guò)該缺口照射到晶圓上， 該缺口使光線(xiàn)不受干擾地通過(guò)。
3、 如權(quán)利要求l所述的量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置，其特征在于所述過(guò)濾器的 出風(fēng)口與盒子外部相連通，進(jìn)風(fēng)口設(shè)在盒子內(nèi)部。
4、 如權(quán)利要求1所述的量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置，其特征在于所述過(guò)濾器的 過(guò)濾材質(zhì)主要是活性炭和聚合化合物。
5、 如權(quán)利要求1所述的量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置，其特征在于盒子是鐵質(zhì)及 其他不易被酸氣及堿氣腐蝕的材質(zhì)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種量測(cè)晶圓薄膜厚度的裝置，該裝置包括光源，光學(xué)元件及分析裝置，光源發(fā)出光線(xiàn)通過(guò)光學(xué)元件照射在晶圓上；其中，該裝置還包括過(guò)濾器和一個(gè)盒子，該過(guò)濾器，光源及光學(xué)元件置于所述盒子內(nèi)，過(guò)濾器用于過(guò)濾盒子內(nèi)的酸氣和堿氣。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的裝置額外設(shè)置了一個(gè)過(guò)濾器，還將過(guò)濾器，光源及光學(xué)元件置于一個(gè)盒子內(nèi)，過(guò)濾器可以將盒子內(nèi)的污染氣體都過(guò)濾到盒子外部，有效避免了光學(xué)元件受到污染，防止入射光的光強(qiáng)由于酸氣和堿氣的污染而發(fā)生不能預(yù)計(jì)的變化，從而造成分析裝置最終的分析結(jié)果精度下降。
文檔編號(hào)H01L21/66GK101241870SQ20071003715
公開(kāi)日2008年8月13日 申請(qǐng)日期2007年2月6日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月6日
發(fā)明者張文鋒, 王培敏, 闕鳳森, 峰 馬 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司