本實(shí)用新型屬于探傷檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種超聲波探傷雙晶探頭裝置。
背景技術(shù):
現(xiàn)代化建設(shè)的高速發(fā)展,機(jī)械加工對(duì)工件的質(zhì)量要求也越來越高,使得加工工件的檢測(cè)技術(shù)也在蓬勃發(fā)展。其中,超聲波雙晶探頭探傷裝置由于探測(cè)范圍可調(diào)、靈敏度高、雜波少盲區(qū)小等優(yōu)點(diǎn)而被廣泛應(yīng)用,然而這種雙晶探頭的發(fā)射晶片與接收晶片之間距離近,發(fā)射晶片發(fā)射的超聲波有時(shí)直接被接收晶片接收,抗干擾能力弱,不是適應(yīng)現(xiàn)有社會(huì)高速發(fā)展的要求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的在于提供一種超聲波探傷雙晶探頭裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種超聲波探傷雙晶探頭裝置,包括外殼,所述外殼上部中間位置設(shè)有接頭,所述外殼內(nèi)中部設(shè)有絕緣隔層,所述絕緣隔層將外殼分成兩個(gè)區(qū)域,所述外殼內(nèi)的兩個(gè)區(qū)域中分別設(shè)有發(fā)射壓電晶片和接收壓電晶片,所述發(fā)射壓電晶片和接收壓電晶片的上側(cè)均設(shè)有阻尼塊,所述發(fā)射壓電晶片和接收壓電晶片分別電性連接有發(fā)射電纜線和接收電纜線,所述發(fā)射電纜線和接收電纜線均貫穿于阻尼塊并電性連接于接頭,所述發(fā)射壓電晶片和接收壓電晶片的下側(cè)均設(shè)有延遲塊,所述延遲塊的下部設(shè)有保護(hù)膜,所述絕緣隔層內(nèi)部設(shè)有真空層,所述外殼內(nèi)其他空間設(shè)有吸聲材料層。
優(yōu)選的,所述發(fā)射壓電晶片和接收壓電晶片的上端處于同一水平面上,且發(fā)射壓電晶片和接收壓電晶片與水平面的夾角相等。
優(yōu)選的,所述發(fā)射壓電晶片和接收壓電晶片與水平面的夾角范圍為5~15度。
優(yōu)選的,所述發(fā)射壓電晶片和接收壓電晶片關(guān)于絕緣隔層呈軸對(duì)稱。
本實(shí)用新型的技術(shù)效果和優(yōu)點(diǎn):該能通過真空層的設(shè)置,加強(qiáng)雙晶超聲波探傷探頭的發(fā)射和接收之間的抗干擾性,提高了超聲波探傷探頭使用的精確度。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:1接頭、2接收電纜線、3外殼、4阻尼塊、5吸聲材料層、6接收壓電晶片、7延遲塊、8保護(hù)膜、9絕緣隔層、10真空層、11發(fā)射電纜線、12發(fā)射壓電晶片。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
本實(shí)用新型提供了如圖1所示的一種超聲波探傷雙晶探頭裝置,包括外殼3,所述外殼3上部中間位置設(shè)有接頭1,所述外殼3內(nèi)中部設(shè)有絕緣隔層9,所述絕緣隔層9將外殼3分成兩個(gè)區(qū)域,所述外殼3內(nèi)的兩個(gè)區(qū)域中分別設(shè)有發(fā)射壓電晶片12和接收壓電晶片6,所述發(fā)射壓電晶片12和接收壓電晶片6的上側(cè)均設(shè)有阻尼塊4,所述發(fā)射壓電晶片12和接收壓電晶片6分別電性連接有發(fā)射電纜線11和接收電纜線2,所述發(fā)射電纜線11和接收電纜線2均貫穿于阻尼塊4并電性連接于接頭1,所述發(fā)射壓電晶片12和接收壓電晶片6的下側(cè)均設(shè)有延遲塊7,所述延遲塊7的下部設(shè)有保護(hù)膜8,所述絕緣隔層9內(nèi)部設(shè)有真空層10,所述外殼3內(nèi)其他空間設(shè)有吸聲材料層5,所述發(fā)射壓電晶片12和接收壓電晶片6的上端處于同一水平面上,且發(fā)射壓電晶片12和接收壓電晶片6與水平面的夾角相等,所述發(fā)射壓電晶片12和接收壓電晶片6與水平面的夾角范圍為5~15度,所述發(fā)射壓電晶片12和接收壓電晶片6關(guān)于絕緣隔層9呈軸對(duì)稱。
工作原理:工作時(shí),通過發(fā)射壓電晶片12發(fā)射超聲波信號(hào),接收壓電晶片6接收反射過來的超聲波信號(hào),發(fā)射壓電晶片12和接收壓電晶片6由于與水平面的夾角而產(chǎn)生一個(gè)菱形探測(cè)區(qū)域,此區(qū)域靈敏度高,適用于工件的表面探測(cè),其中外殼3中部區(qū)域設(shè)置的真空層10能夠阻擋發(fā)射壓電晶片12發(fā)射的超聲波直接進(jìn)入接收壓電晶片6中,增強(qiáng)了抗干擾性。
最后應(yīng)說明的是:以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已,并不用于限制本實(shí)用新型,盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明,對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改,或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。