本發(fā)明涉及板形數(shù)據(jù)測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種板形數(shù)據(jù)測(cè)量系統(tǒng)，數(shù)據(jù)修正方法及裝置。

背景技術(shù)：

板形測(cè)量時(shí)板形控制過(guò)程中的一個(gè)重要環(huán)節(jié)，對(duì)板材的質(zhì)量控制有著深遠(yuǎn)的意義。

現(xiàn)有技術(shù)中，通過(guò)板形儀等板形數(shù)據(jù)測(cè)量設(shè)備實(shí)時(shí)測(cè)量板形數(shù)據(jù)，用于產(chǎn)線板形控制，從而保證產(chǎn)品質(zhì)量。通常由于板帶軋制設(shè)備安裝，或者生產(chǎn)控制誤差等因素往往導(dǎo)致板形數(shù)據(jù)的測(cè)量存在誤差，導(dǎo)致產(chǎn)品次品風(fēng)險(xiǎn)提升；對(duì)于此，常規(guī)的做法是進(jìn)行板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正。

但是，現(xiàn)有的修正方法多采用局部修正的方式，這會(huì)導(dǎo)致整體上的板形的分布趨勢(shì)出現(xiàn)偏差，反而導(dǎo)致了板形的測(cè)量偏差更大。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種板形數(shù)據(jù)測(cè)量系統(tǒng)，數(shù)據(jù)修正方法及裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中板形測(cè)量數(shù)據(jù)局部修正導(dǎo)致的測(cè)量數(shù)據(jù)分布趨勢(shì)偏差大的技術(shù)問(wèn)題。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正方法，包括：

獲取待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]；

依據(jù)公式得到板形應(yīng)變的修正數(shù)據(jù)ε[k]；

其中，α為修正系數(shù)，根據(jù)修正程度選??；k為板帶覆蓋的測(cè)量區(qū)域的數(shù)量；l為第一個(gè)測(cè)量區(qū)域距離板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離。

進(jìn)一步地，所述方法還包括：

依據(jù)公式得到板形應(yīng)力的修正數(shù)據(jù)σ[k]；

其中，E為板帶的楊氏模量。

進(jìn)一步地，所述待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]的表述方式為：

其中，k為偶數(shù)。

一種板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正裝置，包括：

測(cè)距模塊，獲取待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]；

應(yīng)變數(shù)據(jù)修正模塊，與所述測(cè)距模塊相連，依據(jù)公式得到板形應(yīng)變的修正數(shù)據(jù)ε[k]；

其中，α為修正系數(shù)，根據(jù)修正程度選?。籯為板帶覆蓋的測(cè)量區(qū)域的數(shù)量；l為第一個(gè)測(cè)量區(qū)域距離板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離。

進(jìn)一步地，所述裝置還包括：應(yīng)力數(shù)據(jù)修正模塊；

所述應(yīng)力數(shù)據(jù)修正模塊與所述應(yīng)變數(shù)據(jù)修正模塊相連，依據(jù)公式得到板形應(yīng)力的修正數(shù)據(jù)σ[k]；

其中，E為板帶的楊氏模量。

進(jìn)一步地，所述待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]的表述方式為：

其中，k為偶數(shù)。

一種板形數(shù)據(jù)測(cè)量系統(tǒng)，包括：

板形數(shù)據(jù)測(cè)量設(shè)備，測(cè)量板形數(shù)據(jù)；

板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正裝置，與所述板形數(shù)據(jù)測(cè)量設(shè)備相連，修正所述板形數(shù)據(jù)；

所述板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正裝置包括：

測(cè)距模塊，獲取待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]；

應(yīng)變數(shù)據(jù)修正模塊，與所述測(cè)距模塊相連，依據(jù)公式得到板形應(yīng)變的修正數(shù)據(jù)ε[k]；

其中，α為修正系數(shù)，根據(jù)修正程度選取；k為板帶覆蓋的測(cè)量區(qū)域的數(shù)量；l為第一個(gè)測(cè)量區(qū)域距離板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離。

進(jìn)一步地，所述板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正裝置還包括：應(yīng)力數(shù)據(jù)修正模塊；

所述應(yīng)力數(shù)據(jù)修正模塊與所述應(yīng)變數(shù)據(jù)修正模塊相連，依據(jù)公式得到板形應(yīng)力的修正數(shù)據(jù)σ[k]；

其中，E為板帶的楊氏模量。

進(jìn)一步地，所述待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]的表述方式為：

其中，k為偶數(shù)。

本申請(qǐng)實(shí)施例中提供的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)方案，至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn)：

本申請(qǐng)實(shí)施例中提供的板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正方法，通過(guò)在現(xiàn)有的板形數(shù)據(jù)測(cè)量設(shè)備構(gòu)建的測(cè)量結(jié)構(gòu)中，建立以測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心為相對(duì)參考點(diǎn)的數(shù)據(jù)修正體系，以測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心兩側(cè)建立正負(fù)標(biāo)定系統(tǒng)，從而實(shí)現(xiàn)所有覆蓋的測(cè)量區(qū)域的唯一定位，使得每一個(gè)測(cè)量結(jié)果都在修正范圍內(nèi)，同時(shí)也是處于同一個(gè)相對(duì)參考點(diǎn)的整體修正模式內(nèi)，使得修正過(guò)程兼顧局部和整體，從而避免了局部突出影響全局的問(wèn)題，更重要的是，能夠保持基于整體修正帶來(lái)的數(shù)據(jù)分布趨勢(shì)，使得修正成為一種線性修正，最大限度的保持?jǐn)?shù)據(jù)的分布趨勢(shì)，更趨近于真實(shí)的板形數(shù)據(jù)。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正方法的流程示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的板形數(shù)據(jù)測(cè)量系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

本申請(qǐng)實(shí)施例通過(guò)提供一種板形數(shù)據(jù)測(cè)量系統(tǒng)，數(shù)據(jù)修正方法及裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中板形測(cè)量數(shù)據(jù)局部修正導(dǎo)致的測(cè)量數(shù)據(jù)分布趨勢(shì)偏差大的技術(shù)問(wèn)題；達(dá)到了提升修正的可靠性，確保板形數(shù)據(jù)的線性分布趨勢(shì)，趨近真實(shí)板形數(shù)據(jù)的技術(shù)效果。

為了更好的理解上述技術(shù)方案，下面將結(jié)合說(shuō)明書(shū)附圖以及具體的實(shí)施方式對(duì)上述技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明實(shí)施例以及實(shí)施例中的具體特征是對(duì)本申請(qǐng)技術(shù)方案的詳細(xì)的說(shuō)明，而不是對(duì)本申請(qǐng)技術(shù)方案的限定，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)實(shí)施例以及實(shí)施例中的技術(shù)特征可以相互組合。

參見(jiàn)圖1，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正方法，包括：

獲取待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]；

依據(jù)公式得到板形應(yīng)變的修正數(shù)據(jù)ε[k]；

其中，α為修正系數(shù)，根據(jù)修正程度選??；k為板帶覆蓋的測(cè)量區(qū)域的數(shù)量；l為第一個(gè)測(cè)量區(qū)域距離板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離。

具體來(lái)說(shuō)，執(zhí)行步驟S1：獲取待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]；即以板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心為參考起始點(diǎn)，建立板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距板形測(cè)量設(shè)備中心點(diǎn)距離的一維數(shù)組l[k]。使得所有測(cè)量區(qū)域的標(biāo)定處于同一參考體系下，實(shí)現(xiàn)位置唯一標(biāo)定。

同時(shí)測(cè)量中心往往對(duì)應(yīng)的是待測(cè)板帶的中線位置，因此中心左右兩側(cè)，形成了對(duì)稱(chēng)形式的位置關(guān)系，形成了正負(fù)標(biāo)定的形式，即：所述待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]的表述方式為：

其中，k為自然為偶數(shù)。實(shí)現(xiàn)了位置的唯一定位，參考點(diǎn)統(tǒng)一，局部和整體均可以兼顧到。

執(zhí)行步驟S2：依據(jù)公式得到板形應(yīng)變的修正數(shù)據(jù)ε[k]；

其中，α為修正系數(shù)，根據(jù)修正程度選取；k為板帶覆蓋的測(cè)量區(qū)域的數(shù)量；l為第一個(gè)測(cè)量區(qū)域距離板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離。

具體來(lái)說(shuō)，通過(guò)修正系數(shù)α，并以第一個(gè)測(cè)量區(qū)域距離板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l為單位長(zhǎng)度，進(jìn)行坐標(biāo)化，表征板形應(yīng)變，實(shí)現(xiàn)線性修正，規(guī)避了對(duì)板形數(shù)據(jù)分布趨勢(shì)的破壞。

進(jìn)一步地，板形應(yīng)力的修正基于上述應(yīng)變實(shí)現(xiàn)，充分利用上述修正的線性特性，使得板形應(yīng)力修正也屬于線性修正，保持了板形數(shù)據(jù)的分布趨勢(shì)，更趨近于真實(shí)數(shù)據(jù)。

具體來(lái)說(shuō)，執(zhí)行步驟S3：依據(jù)公式得到板形應(yīng)力的修正數(shù)據(jù)，一維數(shù)組σ[k]；其中，E為板帶的楊氏模量。

參見(jiàn)圖2，本實(shí)施例還基于上述修正方法，提出一種板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正裝置。

具體來(lái)講，所述裝置包括：

測(cè)距模塊，獲取待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]；

應(yīng)變數(shù)據(jù)修正模塊，與所述測(cè)距模塊相連，依據(jù)公式得到板形應(yīng)變的修正數(shù)據(jù)ε[k]；

其中，α為修正系數(shù)，根據(jù)修正程度選??；k為板帶覆蓋的測(cè)量區(qū)域的數(shù)量；l為第一個(gè)測(cè)量區(qū)域距離板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離。

所述裝置還包括：應(yīng)力數(shù)據(jù)修正模塊；

所述應(yīng)力數(shù)據(jù)修正模塊與所述應(yīng)變數(shù)據(jù)修正模塊相連，依據(jù)公式得到板形應(yīng)力的修正數(shù)據(jù)σ[k]；

其中，E為板帶的楊氏模量。

進(jìn)一步地，所述待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]的表述方式為：

其中，k為偶數(shù)。

上述裝置的具體工作過(guò)程，在上述方法實(shí)施例中以充分描述，此處不贅述。

參見(jiàn)圖3，本實(shí)施例還基于上述修正方法和裝置，提出一種板形數(shù)據(jù)測(cè)量系統(tǒng)，即，將采用上述方法的上述裝置，與常規(guī)的板形測(cè)量設(shè)備構(gòu)成可修正板形測(cè)量數(shù)據(jù)的系統(tǒng)。

具體來(lái)說(shuō)，板形數(shù)據(jù)測(cè)量系統(tǒng)，包括：

板形數(shù)據(jù)測(cè)量設(shè)備，測(cè)量板形數(shù)據(jù)；

板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正裝置，與所述板形數(shù)據(jù)測(cè)量設(shè)備相連，修正所述板形數(shù)據(jù)；

所述板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正裝置包括：

測(cè)距模塊，獲取待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]；

應(yīng)變數(shù)據(jù)修正模塊，與所述測(cè)距模塊相連，依據(jù)公式得到板形應(yīng)變的修正數(shù)據(jù)ε[k]；

其中，α為修正系數(shù)，根據(jù)修正程度選取；k為板帶覆蓋的測(cè)量區(qū)域的數(shù)量；l為第一個(gè)測(cè)量區(qū)域距離板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離。

進(jìn)一步地，所述板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正裝置還包括：應(yīng)力數(shù)據(jù)修正模塊；

所述應(yīng)力數(shù)據(jù)修正模塊與所述應(yīng)變數(shù)據(jù)修正模塊相連，依據(jù)公式得到板形應(yīng)力的修正數(shù)據(jù)σ[k]；

其中，E為板帶的楊氏模量。

進(jìn)一步地，所述待測(cè)量板帶覆蓋的每個(gè)測(cè)量區(qū)域距離所述板帶測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心點(diǎn)的距離l[k]的表述方式為：

其中，k為偶數(shù)。

即，以板形數(shù)據(jù)測(cè)量設(shè)備為主體的測(cè)量結(jié)構(gòu)中，增加基于上述數(shù)據(jù)修正方法的上述數(shù)據(jù)修正裝置；實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)測(cè)量的同時(shí)進(jìn)行跟隨修正，保持線性修正，使得修正后的數(shù)據(jù)與真實(shí)數(shù)據(jù)的分布趨勢(shì)一致，更接近真實(shí)數(shù)據(jù)。

所述修正裝置的工作過(guò)程，已在上文中記載，此處不贅述。

本申請(qǐng)實(shí)施例中提供的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)方案，至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn)：

本申請(qǐng)實(shí)施例中提供的板形測(cè)量數(shù)據(jù)的修正方法，通過(guò)在現(xiàn)有的板形數(shù)據(jù)測(cè)量設(shè)備構(gòu)建的測(cè)量結(jié)構(gòu)中，建立以測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心為相對(duì)參考點(diǎn)的數(shù)據(jù)修正體系，以測(cè)量設(shè)備的測(cè)量中心兩側(cè)建立正負(fù)標(biāo)定系統(tǒng)，從而實(shí)現(xiàn)所有覆蓋的測(cè)量區(qū)域的唯一定位，使得每一個(gè)測(cè)量結(jié)果都在修正范圍內(nèi)，同時(shí)也是處于同一個(gè)相對(duì)參考點(diǎn)的整體修正模式內(nèi)，使得修正過(guò)程兼顧局部和整體，從而避免了局部突出影響全局的問(wèn)題，更重要的是，能夠保持基于整體修正帶來(lái)的數(shù)據(jù)分布趨勢(shì)，使得修正成為一種線性修正，最大限度的保持?jǐn)?shù)據(jù)的分布趨勢(shì)，更趨近于真實(shí)的板形數(shù)據(jù)。

最后所應(yīng)說(shuō)明的是，以上具體實(shí)施方式僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制，盡管參照實(shí)例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。