專利名稱：?jiǎn)喂庠措p相機(jī)的采集裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
[0001]本實(shí)用新型涉及圖像采集技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及ー種單光源雙相機(jī)的采集裝置。
背景技術(shù)：
圖像采集與圖像處理技術(shù)在各種行業(yè)中的應(yīng)用都非常廣泛，特別是在現(xiàn)代エ業(yè)化生產(chǎn)中，越來(lái)越多的攝像機(jī)已經(jīng)開(kāi)始代替人眼完成那些繁瑣的工作，所以機(jī)器視覺(jué)技術(shù)就應(yīng)運(yùn)而生了，它不但可以為エ廠降低雇傭成本，而且準(zhǔn)確度也大大提高，而圖像采集裝置在機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)中又占有特別重要的地位，所以系統(tǒng)中的圖像采集方案決定了整套系統(tǒng)的優(yōu)劣。圖像采集裝置中的光源一般分為條形光源、環(huán)形光源、同軸光源、線性光源及紅外紫外光源等，而相機(jī)一般按感光器件分為電荷稱合元件(Charge-coupled Device, CCD)相機(jī)和互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(Complementary Metal Oxide Semiconductor, CMOS)相機(jī)，按掃描方式分為線陣相機(jī)和面陣相機(jī)。目前，很大一部分機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)生產(chǎn)廠商都是采用単一角度相機(jī)的采集方案，這種方案只能采集單ー的圖像效果，如果所采集的特征對(duì)采集角度要求很苛刻，這種采集方案就無(wú)法捕捉到所有的特征信息，會(huì)造出系統(tǒng)的漏檢及誤判；也有部分廠商是采用多光源分別提供照明的方案，雖然這種方案的采集效果較好，但是結(jié)構(gòu)復(fù)雜，不易調(diào)試，而且也增加了產(chǎn)品成本。

實(shí)用新型內(nèi)容(一 )要解決的技術(shù)問(wèn)題本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是如何在不明顯增加結(jié)構(gòu)復(fù)雜度和產(chǎn)品成本的情況下，采集多種圖像效果的圖像，以提高系統(tǒng)的檢測(cè)效率及正確率。( ニ )技術(shù)方案為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了ー種單光源雙相機(jī)的采集裝置，所述裝置包括光源、至少ー個(gè)明場(chǎng)相機(jī)、以及至少ー個(gè)暗場(chǎng)相機(jī)，所述光源的出射光線照向待測(cè)目標(biāo)版材上，所述至少一個(gè)明場(chǎng)相機(jī)設(shè)于所述待測(cè)目標(biāo)版材的明場(chǎng)范圍內(nèi)，所述至少ー個(gè)暗場(chǎng)相機(jī)設(shè)于所述待測(cè)目標(biāo)版材的暗場(chǎng)范圍內(nèi)。優(yōu)選地，所述裝置還包括漫反射板，所述漫反射板設(shè)于所述光源的出射光線的出ロ處。優(yōu)選地，所述裝置還包括相互平行的主體型材、第一水平型材、以及第ニ水平型材，所述光源設(shè)于所述主體型材上，所述至少一個(gè)暗場(chǎng)相機(jī)和至少ー個(gè)明場(chǎng)相機(jī)分別設(shè)于所述第一水平型材和第二水平型材上。優(yōu)選地，所述光源的出射光線與所述待測(cè)目標(biāo)版材之間的夾角呈40 50度。(三)有益效果本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置明場(chǎng)相機(jī)和暗場(chǎng)相機(jī)，實(shí)現(xiàn)了在不明顯增加結(jié)構(gòu)復(fù)雜度和產(chǎn)品成本的情況下，采集多種圖像效果的圖像，以提高系統(tǒng)的檢測(cè)效率及正確率。
圖I是按照本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的單光源雙相機(jī)的采集裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)ー步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本實(shí)用新型，但不用來(lái)限制本實(shí)用新型的范圍。圖I是按照本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的單光源雙相機(jī)的采集裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。本實(shí)施方式中，以ー個(gè)暗場(chǎng)相機(jī)和一個(gè)明場(chǎng)相為例來(lái)說(shuō)明本實(shí)用新型，但并不限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。參照?qǐng)D1，本實(shí)施方式的裝置包括光源5、明場(chǎng)相機(jī)7、以及暗場(chǎng)相機(jī)6，所述光源5的出射光線照向待測(cè)目標(biāo)版材上，所述明場(chǎng)相機(jī)7設(shè)于所述待測(cè)目標(biāo)版材的明場(chǎng)范圍內(nèi)，所述暗場(chǎng)相機(jī)6設(shè)于所述待測(cè)目標(biāo)版材的暗場(chǎng)范圍內(nèi)。為防止在圖像采集時(shí)產(chǎn)生反光現(xiàn)象，以提供均勻的光源照明條件，優(yōu)選地，所述裝 置還包括漫反射板8，所述漫反射板8設(shè)于所述光源5的出射光線出ロ處。優(yōu)選地，所述裝置還包括相互平行的主體型材2、第一水平型材I、以及第二水平型材3，所述光源5設(shè)于所述主體型材2上，本實(shí)施方式中，所述光源5通過(guò)光源可調(diào)結(jié)構(gòu)4設(shè)于所述主體型材2上，所述光源5通過(guò)螺釘與所述光源可調(diào)結(jié)構(gòu)4連接，所述光源可調(diào)結(jié)構(gòu)4用于調(diào)節(jié)所述光源5所發(fā)出的光與所述待測(cè)目標(biāo)版材之間的夾角，所述暗場(chǎng)相機(jī)6和明場(chǎng)相機(jī)7分別設(shè)于所述第一水平型材I和第二水平型材3上，同時(shí)所述暗場(chǎng)相機(jī)6和明場(chǎng)相機(jī)7也可通過(guò)借助所述光源可調(diào)結(jié)構(gòu)4相同的結(jié)構(gòu)安裝于所述第一水平型材I和第二水平型材3上，安裝后可調(diào)節(jié)所述暗場(chǎng)相機(jī)6和明場(chǎng)相機(jī)7的高度與角度。經(jīng)過(guò)大量實(shí)驗(yàn)證明，選擇光源5的出射光線與所述待測(cè)目標(biāo)版材呈45°左右效果最佳，優(yōu)選地，所述光源5的出射光線與所述待測(cè)目標(biāo)版材之間的夾角呈40 50度。本實(shí)施方式的裝置的工作原理為在開(kāi)始采集圖像之前要根據(jù)不同的所述待測(cè)目標(biāo)版材的材料調(diào)整光源5與暗場(chǎng)相機(jī)6和明場(chǎng)相機(jī)7之間的角度，首先要用與所述待測(cè)目標(biāo)版材的材料相近的、不反光的、而且均勻的平衡紙來(lái)模擬采集條件，經(jīng)過(guò)大量實(shí)驗(yàn)證明，選擇光源5的出射光線與所述待測(cè)目標(biāo)版材呈45°左右效果最佳，根據(jù)不同檢測(cè)材料的反光現(xiàn)象不同，通過(guò)同時(shí)調(diào)整所述明場(chǎng)相機(jī)7的高度和角度，找到明場(chǎng)相機(jī)7進(jìn)光量最大的角度，暗場(chǎng)相機(jī)6的設(shè)置角度始終為大致垂直于所述待測(cè)目標(biāo)版材。由于所述待測(cè)目標(biāo)版材的材料的不同特征對(duì)光源角度的響應(yīng)不同，采取這兩種角度的相機(jī)采集方案就可以同時(shí)捕捉到全部的特征信息，從而為后續(xù)的圖像處理提供了質(zhì)量較好的圖像。以上實(shí)施方式僅用于說(shuō)明本實(shí)用新型，而并非對(duì)本實(shí)用新型的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本實(shí)用新型的范疇，本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求1.ー種單光源雙相機(jī)的采集裝置，其特征在于，所述裝置包括光源、至少ー個(gè)明場(chǎng)相機(jī)、以及至少ー個(gè)暗場(chǎng)相機(jī)，所述光源的出射光線照向待測(cè)目標(biāo)版材上，所述至少一個(gè)明場(chǎng)相機(jī)設(shè)于所述待測(cè)目標(biāo)版材的明場(chǎng)范圍內(nèi)，所述至少一個(gè)暗場(chǎng)相機(jī)設(shè)于所述待測(cè)目標(biāo)版材的暗場(chǎng)范圍內(nèi)。
2.如權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括漫反射板，所述漫反射板設(shè)于所述光源的出射光線出ロ處。
3.如權(quán)利要求I所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括相互平行的主體型材、第一水平型材、以及第ニ水平型材，所述光源設(shè)于所述主體型材上，所述至少一個(gè)暗場(chǎng)相機(jī)和至少ー個(gè)明場(chǎng)相機(jī)分別設(shè)于所述第一水平型材和第二水平型材上。
4.如權(quán)利要求I 3中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述光源的出射光線與所述待測(cè)目標(biāo)版材之間的夾角呈40 50度。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種單光源雙相機(jī)的采集裝置，涉及圖像采集技術(shù)領(lǐng)域，所述裝置包括光源、至少一個(gè)明場(chǎng)相機(jī)、以及至少一個(gè)暗場(chǎng)相機(jī)，所述光源的出射光線照向待測(cè)目標(biāo)版材上，所述至少一個(gè)明場(chǎng)相機(jī)設(shè)于所述待測(cè)目標(biāo)版材的明場(chǎng)范圍內(nèi)，所述至少一個(gè)暗場(chǎng)相機(jī)設(shè)于所述待測(cè)目標(biāo)版材的暗場(chǎng)范圍內(nèi)。本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置明場(chǎng)相機(jī)和暗場(chǎng)相機(jī)，實(shí)現(xiàn)了在不明顯增加結(jié)構(gòu)復(fù)雜度和產(chǎn)品成本的情況下，采集多種圖像效果的圖像，以提高系統(tǒng)的檢測(cè)效率及正確率。
文檔編號(hào)G01D21/00GK202403720SQ20112054120
公開(kāi)日2012年8月29日 申請(qǐng)日期2011年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月21日
發(fā)明者張廣秀, 徐江偉 申請(qǐng)人:北京兆維電子(集團(tuán))有限責(zé)任公司, 北京兆維科技開(kāi)發(fā)有限公司