梯形流電積裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于有色金屬冶煉的電解液凈化技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種梯形流電積
目.0
【背景技術(shù)】
[0002]目前，銅精煉后，在對電解液凈化的過程中，現(xiàn)有的慣用措施是將電解液中的銅離子析出，而后繼續(xù)回流至原電解槽內(nèi)，析出的銅離子則吸附在陰極板上。因目前在凈化過程中大多采用的循環(huán)量較小，而且循環(huán)方式為溶液從槽底部或端頭進(jìn)入，從槽另一個(gè)端頭出去，溶液流動(dòng)慢且分布不均勻，不能保證在陰極附近的金屬離子始終處于較高的濃度，當(dāng)電流密度提高、陰極上離子析出加快時(shí)，必將產(chǎn)生濃差極化，循環(huán)量大時(shí)還會(huì)引起沉淀物的攪動(dòng)使溶液混濁或者造成陽極泥漂浮。至此，導(dǎo)致吸附在陰極板上的銅離子外觀質(zhì)量差，達(dá)不到GB/T467— 2010中Cu-CATH_2牌號(hào)標(biāo)準(zhǔn)陰極銅的要求，只能作為廢銅料返回精煉爐重新熔煉，在此再循環(huán)的過程中不可避免地造成了能源的浪費(fèi)，增加了加工成本和加工過程中銅離子的損失。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種利用梯形流技術(shù)制備陰極銅的電積裝置，該裝置通過提高循環(huán)速度來增大循環(huán)量。
[0004]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:梯形流電積裝置，包括儲(chǔ)液槽、若干電積槽、連接在所述儲(chǔ)液槽出液端上的進(jìn)液總管、連接在所述電積槽出液端與所述儲(chǔ)液槽入液端間的回流管、設(shè)于所述電積槽內(nèi)的進(jìn)液支管，所述進(jìn)液支管的管口與所述進(jìn)液總管上的管出口相連，所述進(jìn)液支管上沿其軸向開設(shè)有多個(gè)與其管腔相通的噴射孔，每個(gè)所述電積槽內(nèi)的電解液循環(huán)速度控制在75~105L/min，所述電積裝置還包括設(shè)于所述進(jìn)液支管前的電解銅添加劑投加裝置以及安裝在所述進(jìn)液支管前的加熱裝置。
[0005]優(yōu)選地，所述電積裝置還包括至少包裹在所述進(jìn)液支管上開設(shè)有所述噴射孔一側(cè)的濾網(wǎng)，用以降低所述噴射孔處的出液速度。
[0006]優(yōu)選地，所述電積裝置還包括設(shè)置在所述進(jìn)液支管前的過濾裝置，用于過濾電解液中的雜質(zhì)。
[0007]優(yōu)選地，每個(gè)所述電積槽內(nèi)的所述進(jìn)液支管至少有一根，且所述進(jìn)液支管沿所述電積槽一側(cè)的長側(cè)壁設(shè)置，所有所述進(jìn)液支管沿所述電積槽的高度方向間隔分布。
[0008]優(yōu)選地，所述電積槽的一側(cè)壁上還開設(shè)有與所述回液管相通的回液口。
[0009]優(yōu)選地，所述電積裝置還包括固設(shè)在所述電積槽內(nèi)設(shè)有所述進(jìn)液支管的一側(cè)側(cè)壁上的固定件，用于固定所述進(jìn)液支管，所述固定件有多個(gè)，沿所述側(cè)壁的長度延伸方向間隔分布O
[0010]優(yōu)選地，所述電積槽的底面上還開設(shè)有用于檢修時(shí)排空所述電解液的排空孔。
[0011]進(jìn)一步優(yōu)選地，所述進(jìn)液總管與所述回液管的直徑均為150mm，每個(gè)所述電積槽內(nèi)的所述進(jìn)液支管有3根，所有所述進(jìn)液支管上的所述噴射孔的直徑均為8~10mm。
[0012]進(jìn)一步優(yōu)選地，所述加熱裝置為設(shè)于所述儲(chǔ)液槽內(nèi)的鈦盤管或蒸汽管。
[0013]進(jìn)一步優(yōu)選地，進(jìn)入所述電積槽的所述電解液的溫度控制在50~65°C。
[0014]由于上述技術(shù)方案的運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):本實(shí)用新型的梯形流電積裝置，通過提高電積槽內(nèi)的循環(huán)速度來增加了電積槽內(nèi)溶液的循環(huán)量，減少了濃差極化的現(xiàn)象發(fā)生，提高了電流密度，確保了陰極銅的產(chǎn)品質(zhì)量達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)要求，同時(shí)提高了產(chǎn)品的純度，有效的回收利用了銅精煉后的電解液。
【附圖說明】
[0015]附圖1為本實(shí)用新型的梯形流電積裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]附圖2為附圖1中A處放大圖；
[0017]其中:1、儲(chǔ)液槽；2、電積槽；21、固定件；22、回液口 ；23、排空孔；3、進(jìn)液總管；4、進(jìn)液支管；41、噴射孔；5、回液管；6、電解銅添加劑投加裝置；7、加熱裝置；8、過濾裝置；9、濾網(wǎng)。
【具體實(shí)施方式】
[0018]下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例來對本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步的闡述。
[0019]參見圖1所示，一種梯形流電積裝置，包括用于儲(chǔ)存銅精煉過程中的電解液的儲(chǔ)液槽1、多個(gè)用于對電解液中的銅離子進(jìn)行電積回收的電積槽2、連接在儲(chǔ)液槽I出液端上的進(jìn)液總管3、連接在電積槽2出液端與儲(chǔ)液槽I入液端間的回液管5、設(shè)于電積槽2內(nèi)的進(jìn)液支管4，該進(jìn)液支管4的管口連接至進(jìn)液總管3的管出口處。每個(gè)電積槽2內(nèi)的電解液循環(huán)速度控制在75~105 L/min。在本實(shí)施例中，進(jìn)液總管3與回液管5均采用了直徑為150mm的 PVC管。
[0020]參見圖1、圖2所示，每個(gè)電積槽2內(nèi)均至少設(shè)有一根進(jìn)液支管4，優(yōu)選地，所有進(jìn)液支管4沿電積槽2—側(cè)的長側(cè)壁設(shè)置，所有進(jìn)液支管4的長度延伸方向與該電積槽2—側(cè)的長側(cè)邊長度延伸方向一致，在本實(shí)施例中，該進(jìn)液支管4有三根，分別沿電積槽2的高度方向間隔分布，三根所述進(jìn)液支管4的總流量可達(dá)75~105 L/min,同時(shí)大大提高了電流密度，提高了產(chǎn)能。為了保證進(jìn)液速度、確保電積槽2內(nèi)電解液面平穩(wěn)，回液管5的回液量應(yīng)與電積槽2內(nèi)的所有進(jìn)液支管4的總進(jìn)液量相一致。進(jìn)液支管4上沿其軸向開設(shè)有多個(gè)噴射孔41，噴射孔41的直徑為8~10mm，為了防止噴射孔41處的出液流速過快，導(dǎo)致在噴射孔41處形成噴射激流、在陰極板表面形成放射型痕跡，在本實(shí)施例中，在進(jìn)液支管4的外表面上還包裹有一層采用不銹鋼材料制成的濾網(wǎng)9，該濾網(wǎng)9至少可覆蓋住進(jìn)液支管4上開設(shè)有噴射孔41的一側(cè)，通過設(shè)置濾網(wǎng)9，從而降低了噴射孔41處的出液速度。在電積槽2的與設(shè)有進(jìn)液支管4的相對的長側(cè)壁上還開設(shè)有與回液管5相通的回液口 22，電積槽2內(nèi)電積后的電解液通過回液口 22流至回液管5內(nèi)后通過液體泵輸送至儲(chǔ)液槽I入液端處。
[0021]參見圖1所示，本電積裝置還包括設(shè)置在儲(chǔ)液槽I上的電解銅添加劑投加裝置6，在電積過程中，電解液