一種類金剛石碳膜沉積裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種類金剛石碳膜沉積裝置，真空室的上蓋與真空室的室底相對，真空室的側(cè)壁連接上蓋和室底，以形成一腔室；側(cè)壁上開設(shè)有一開口；門體與真空室連接，用于蓋設(shè)于開口；電場平衡機構(gòu)可拆卸地連接在開口處的側(cè)壁上，用于補全開口，電場平衡機構(gòu)呈板狀，且，電場平衡機構(gòu)的尺寸大于等于開口的尺寸；陽極靶和陰極靶設(shè)置在真空室的內(nèi)部，且，陽極靶與陰極靶相對設(shè)置，陰極靶位于真空室的室底與陽極靶之間；驅(qū)動機構(gòu)穿過室底與陰極靶相連；抽真空裝置與真空室連通；充氣引入座設(shè)置在室底。本申請通過在真空室側(cè)壁上的開口處增設(shè)電場平衡機構(gòu)，從而能夠保證真空室內(nèi)的電場平衡。
【專利說明】
一種類金剛石碳膜沉積裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實用新型涉及鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種類金剛石碳膜沉積裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]類金剛石碳膜(Diamond Like Carbon，DLC)是一種以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合生成的亞穩(wěn)態(tài)材料，其不僅兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性，還具有高硬度、高電阻率和良好光學(xué)性能，同時又具有自身獨特摩擦學(xué)特性，可廣泛用于機械、電子、光學(xué)、熱學(xué)、聲學(xué)和醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。
[0003]由于DLC是亞穩(wěn)態(tài)材料，在制備過程中需要荷能離子轟擊生長表面，通常，采用物理氣相沉積方法、化學(xué)沉積方法或等離子體增強化學(xué)氣相沉積(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposit1n,PECVD)方法進行制備，而PECVD方法由于沉積速率快、成膜質(zhì)量好，被廣泛應(yīng)用于DLC的制備。沉積裝置在制備DLC的過程中會出現(xiàn)沉積物垃圾，沉積物垃圾在沉積裝置的底部積累，若不及時清理干凈，沉積物垃圾將會影響下一次沉積?，F(xiàn)有技術(shù)在清理沉積物垃圾時，首先將真空室的上蓋升起，接著將真空吸頭從真空室的上方伸入到真空室的底部，對底部的沉積物垃圾進行清理，由于真空吸頭往往不方便拐彎，因此在清理真空室底部的沉積物垃圾時，存在清理不徹底的問題。
[0004]為克服清理不徹底的問題，可以在真空室的側(cè)壁上設(shè)置門體，從而真空吸頭能夠從真空室側(cè)壁伸到內(nèi)部進行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理真空室底部的沉積物垃圾，清理徹底。但是，在設(shè)置門體時將會在真空室的側(cè)壁上開口，而開口會對真空室內(nèi)的電場分布造成影響，造成電場不平衡。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型通過提供一種類金剛石碳膜沉積裝置，解決了現(xiàn)有技術(shù)中在真空室側(cè)壁開設(shè)門體將會造成真空室內(nèi)部電場不平衡的技術(shù)問題。
[0006]本實用新型實施例提供了一種類金剛石碳膜沉積裝置，包括真空室、門體、陽極靶、陰極靶、驅(qū)動機構(gòu)、抽真空裝置、電場平衡機構(gòu)和充氣引入座；
[0007]所述真空室的上蓋與所述真空室的室底相對，所述真空室的側(cè)壁連接所述上蓋和所述室底，以形成一腔室；
[0008]所述側(cè)壁上開設(shè)有一開口；
[0009]所述門體與所述真空室連接，用于蓋設(shè)于所述開口；
[0010]所述電場平衡機構(gòu)可拆卸地連接在所述開口處的所述側(cè)壁上，用于補全所述開口，其中，所述電場平衡機構(gòu)呈板狀，且，所述電場平衡機構(gòu)的尺寸大于等于所述開口的尺寸；
[0011]所述陽極靶和所述陰極靶設(shè)置在所述真空室的內(nèi)部，且，所述陽極靶與所述陰極靶相對設(shè)置，所述陰極靶位于所述真空室的室底與所述陽極靶之間；
[0012]所述驅(qū)動機構(gòu)穿過所述室底與所述陰極靶相連；
[0013]所述抽真空裝置與所述真空室連通；
[0014]所述充氣弓I入座設(shè)置在所述室底。
[0015]優(yōu)選的，所述電場平衡機構(gòu)的尺寸與所述開口的尺寸相同。
[0016]優(yōu)選的，所述電場平衡機構(gòu)與所述真空室的側(cè)壁之間通過螺栓連接。
[0017]優(yōu)選的，所述真空室為圓柱體，所述開口呈弧形，所述電場平衡機構(gòu)為弧形板。
[0018]優(yōu)選的，所述門體上具有一探視窗。
[0019]優(yōu)選的，還包括升降機構(gòu)；
[0020]所述升降機構(gòu)與所述上蓋相連。
[0021 ]優(yōu)選的，所述升降機構(gòu)為電動升降機構(gòu)或液壓升降機構(gòu)。
[0022]優(yōu)選的，所述驅(qū)動機構(gòu)為電機。
[0023]優(yōu)選的，還包括調(diào)節(jié)閥；
[0024]所述調(diào)節(jié)閥設(shè)置在所述抽真空裝置與所述真空室連通處。
[0025]優(yōu)選的，所述調(diào)節(jié)閥為可調(diào)電動閥。
[0026]本實用新型實施例中的一個或多個技術(shù)方案，至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點:
[0027]本實用新型通過在真空室的側(cè)壁上設(shè)置門體，在需要清理沉積物垃圾時，打開側(cè)壁上的門體，將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會污染下一次沉積過程，并且，通過在真空室側(cè)壁上的開口處增設(shè)電場平衡機構(gòu)，利用電場平衡機構(gòu)補全真空室的側(cè)壁上的開口，從而能夠保證真空室內(nèi)的電場平衡，保證了沉積效果。
【附圖說明】
[0028]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0029]圖1為本實用新型實施例中一種類金剛石碳膜沉積裝置的剖面圖；
[0030]圖2為本實用新型實施例中真空室與開口之間相對位置關(guān)系的示意圖；
[0031]圖3為本實用新型實施例中一種【具體實施方式】下的電場平衡機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0032]其中，I為真空室，101為開口，102為上蓋，2為門體，3為陽極靶，4為陰極靶，5為旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)，6為抽真空裝置，7為連接通道，8為機架，9為探視窗，10為升降機構(gòu)，11為電場平衡機構(gòu)。
【具體實施方式】
[0033]為解決現(xiàn)有技術(shù)中在真空室側(cè)壁開設(shè)門體將會造成真空室內(nèi)部電場不平衡的技術(shù)問題，本實用新型提供一種類金剛石碳膜沉積裝置，通過在真空室側(cè)壁上的開口處增設(shè)電場平衡機構(gòu)，利用電場平衡機構(gòu)補全真空室的側(cè)壁上的開口，從而能夠保證真空室內(nèi)的電場平衡，保證了沉積效果。
[0034]為使本實用新型實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0035]本實用新型實施例提供一種類金剛石碳膜沉積裝置，如圖1所示，所述裝置包括真空室1、門體2、陽極靶3、陰極靶4、驅(qū)動機構(gòu)5、抽真空裝置6、連接通道7、機架8和電場平衡機構(gòu)11。真空室I的上蓋102與真空室I的室底相對，真空室I的側(cè)壁連接上蓋102和室底，以形成一腔室。真空室I放置于機架8上，真空室I的側(cè)壁上開設(shè)有一開口 101，門體2與真空室I連接，用于蓋設(shè)于開口 101。電場平衡機構(gòu)11可拆卸地連接在開口 101處的真空室I的側(cè)壁上，用于補全開口 101，其中，電場平衡機構(gòu)11呈板狀，且，電場平衡機構(gòu)11的尺寸大于等于開口101的尺寸。陽極靶3和陰極靶4設(shè)置在真空室I的內(nèi)部，且，陽極靶3與陰極靶4相對設(shè)置，且，陰極靶4位于，真空室I的室底與陽極靶3之間。驅(qū)動機構(gòu)5穿過真空室I的室底與陰極靶4相連。抽真空裝置6與真空室I連通，具體的，抽真空裝置6通過連接通道7與真空室I連通。其中，抽真空裝置6為分子栗。
[0036]具體來講，當(dāng)電場平衡機構(gòu)11的尺寸大于開口101的尺寸時，電場平衡機構(gòu)11與開口 101的形狀可以相同，也可以不同，只要在安裝后，電場平衡機構(gòu)11能夠補全開口 1lgp可。而，當(dāng)電場平衡機構(gòu)11的尺寸等于開口 101的尺寸時，電場平衡機構(gòu)11與開口 101的形狀相同，大小也相同，在安裝時，電場平衡機構(gòu)11剛好能夠補全開口 101。本申請在真空室I的側(cè)壁上設(shè)置門體2，在需要清理沉積物垃圾時，打開側(cè)壁上的門體2，將真空吸頭從真空室I的側(cè)壁伸到內(nèi)部進行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會污染下一次沉積過程，并且，通過在開口 101處增設(shè)電場平衡機構(gòu)11，利用電場平衡機構(gòu)11補全真空室I的側(cè)壁上的開口 101，從而能夠保證真空室I內(nèi)的電場平衡，進而保證沉積效果。
[0037]優(yōu)選的，電場平衡機構(gòu)11的尺寸與開口101的尺寸相同，電場平衡機構(gòu)11剛好能夠補全開口 101，從而，既能夠保證電場平衡，又不會浪費材料。又，電場平衡機構(gòu)11與真空室I的側(cè)壁之間通過螺栓連接，當(dāng)需要從真空室I內(nèi)部拆卸下電場平衡機構(gòu)11時，先拆卸下螺栓，再從真空室I側(cè)壁上取下電場平衡機構(gòu)11，拆卸方便。
[0038]通常，真空室I為圓柱體，在一種具體實施例中，開口101為弧形，參見圖2，從而，與開口 101相匹配的電場平衡機構(gòu)11為弧形板，參見圖3，該弧形板的弧度與開口 101相匹配，因此，該弧形板的弧度與真空室I的側(cè)壁的弧度相匹配。進一步，該弧形板與陰極靶4同心。當(dāng)然，根據(jù)實際需要若開設(shè)的開口 101不是弧形，則根據(jù)開口 101實際的形狀與大小，適應(yīng)性地調(diào)整電場平衡機構(gòu)11的形狀與大小，以確保電場平衡機構(gòu)11補全開口 101。其中，優(yōu)選的，電場平衡機構(gòu)11的材料與真空室I的材料相同。
[0039]進一步，本申請在真空室丨的側(cè)壁上設(shè)置門體2，在需要清理沉積物垃圾時，先拆卸下電場平衡機構(gòu)U，接著將真空吸頭從真空室I側(cè)壁打開的門體2伸到內(nèi)部進行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會污染下一次沉積過程，在清掃后，再將電場平衡機構(gòu)11安裝到真空室I的側(cè)壁上。
[0040]其中，門體2的形狀不受開口101的限制，只要門體2在與真空室I連接后，在關(guān)門時能夠保證真空室I封閉即可。門體2的形狀可以為方形，也可以為圓形。為方便隨時觀察真空室I內(nèi)的反應(yīng)狀態(tài)，以及觀察真空室I內(nèi)沉積物垃圾的積累程度，門體2上設(shè)置有一探視窗9，探視窗9的形狀同樣不受門體2的形狀的限制，當(dāng)門體2為方形時，探視窗9可以為圓形，也可以為方形。通過探視窗9，操作人員能夠隨時觀察真空室I內(nèi)的反應(yīng)狀態(tài)，并在需要時作出相應(yīng)的處理，同時，通過探視窗9還能夠隨時觀察到沉積物垃圾的積累程度，在積累到一定程度后，停止反應(yīng)打開門體2進行清掃。
[0041]本申請的類金剛石碳膜沉積裝置還包括升降機構(gòu)10。升降機構(gòu)10的一端固定在機架8上，且，升降機構(gòu)10的另一端與真空室I的上蓋102相連。利用升降機構(gòu)10能夠打開真空室I的上蓋102，以便于對真空室I內(nèi)部的元件進行拆卸。例如，在需要拆卸電場平衡機構(gòu)11時，利用升降機構(gòu)10將上蓋102打開，并旋轉(zhuǎn)上蓋102，進而真空室I的上方敞開，操作人員能夠?qū)φ婵帐襂內(nèi)部的電場平衡機構(gòu)11進行拆卸，在安裝時，采用同樣的方式，在將電場平衡機構(gòu)11安裝到真空室I的側(cè)壁后，利用升降機構(gòu)10將上蓋102蓋好。進一步，升降機構(gòu)10為電動升降機構(gòu)10或液壓升降機構(gòu)10。另外，在真空室I的室底還設(shè)置有充氣引入座，充氣系統(tǒng)通過充氣引入座與真空室I相連，其中，充氣引入座未圖示。
[0042]本申請的類金剛石碳膜沉積裝置還包括調(diào)節(jié)閥，調(diào)節(jié)閥設(shè)置在連接通道7與真空室I相連接的位置處，通過調(diào)節(jié)閥能夠?qū)B接通道7的流量進行調(diào)節(jié)，其中，調(diào)節(jié)閥未圖示。優(yōu)選的，調(diào)節(jié)閥為可調(diào)電動閥。其中，連接通道7的直徑的范圍為180mm?300mm，優(yōu)選的，連接通道7的直徑為250mm。
[0043]上述本申請實施例中的技術(shù)方案，至少具有如下的技術(shù)效果或優(yōu)點:
[0044]本申請通過在真空室的側(cè)壁上設(shè)置門體，在需要清理沉積物垃圾時，打開側(cè)壁上的門體，將真空吸頭從真空室的側(cè)壁伸到內(nèi)部進行清掃，真空吸頭不再需要拐彎，易于清理底部的沉積物垃圾，清理徹底，不會污染下一次沉積過程，并且，通過在真空室側(cè)壁上的開口處增設(shè)電場平衡機構(gòu)，利用電場平衡機構(gòu)補全真空室的側(cè)壁上的開口，從而能夠保證真空室內(nèi)的電場平衡，保證了沉積效果。
[0045]本申請通過在門體上設(shè)置探視窗，透過探視窗能夠隨時觀察真空室內(nèi)的反應(yīng)狀態(tài)，以及觀察真空室內(nèi)沉積物垃圾的積累程度。
[0046]盡管已描述了本實用新型的優(yōu)選實施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實施例以及落入本實用新型范圍的所有變更和修改。
[0047]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種類金剛石碳膜沉積裝置，其特征在于，包括真空室、門體、陽極靶、陰極靶、驅(qū)動機構(gòu)、抽真空裝置、電場平衡機構(gòu)和充氣引入座； 所述真空室的上蓋與所述真空室的室底相對，所述真空室的側(cè)壁連接所述上蓋和所述室底，以形成一腔室； 所述側(cè)壁上開設(shè)有一開口； 所述門體與所述真空室連接，用于蓋設(shè)于所述開口 ； 所述電場平衡機構(gòu)可拆卸地連接在所述開口處的所述側(cè)壁上，用于補全所述開口，其中，所述電場平衡機構(gòu)呈板狀，且，所述電場平衡機構(gòu)的尺寸大于等于所述開口的尺寸； 所述陽極靶和所述陰極靶設(shè)置在所述真空室的內(nèi)部，且，所述陽極靶與所述陰極靶相對設(shè)置，所述陰極靶位于所述真空室的室底與所述陽極靶之間； 所述驅(qū)動機構(gòu)穿過所述室底與所述陰極靶相連； 所述抽真空裝置與所述真空室連通； 所述充氣弓I入座設(shè)置在所述室底。2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述電場平衡機構(gòu)的尺寸與所述開口的尺寸相同。3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述電場平衡機構(gòu)與所述真空室的側(cè)壁之間通過螺栓連接。4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述真空室為圓柱體，所述開口呈弧形，所述電場平衡機構(gòu)為弧形板。5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述門體上具有一探視窗。6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括升降機構(gòu)； 所述升降機構(gòu)與所述上蓋相連。7.如權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述升降機構(gòu)為電動升降機構(gòu)或液壓升降機構(gòu)。8.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述驅(qū)動機構(gòu)為電機。9.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括調(diào)節(jié)閥； 所述調(diào)節(jié)閥設(shè)置在所述抽真空裝置與所述真空室連通處。10.如權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述調(diào)節(jié)閥為可調(diào)電動閥。
【文檔編號】C23C16/26GK205529025SQ201620266888
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年3月31日
【發(fā)明人】向勇, 傅紹英, 徐子明, 楊小軍, 閆宗楷
【申請人】成都西沃克真空科技有限公司