用于與溫控浴槽一起使用的支架的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型大體上涉及溫控浴槽并且更具體地講涉及用于在溫控浴槽中支承器皿的支架。
【背景技術(shù)】
[0002]諸如循環(huán)浴槽的溫控浴槽在實驗室環(huán)境中采用，以便將溫控的諸如水的工作流體提供在儲存器中。使用者可以通過將實驗室環(huán)境的材料試樣放置在儲存器中或者通過使得工作流體在儲存器與外界應(yīng)用裝置之間循環(huán)來利用所述溫控浴槽。傳統(tǒng)的溫控浴槽應(yīng)用包括將材料試樣放置到藥瓶、試管、燒杯等器皿中，并且然后將所述器皿放置在儲存器內(nèi)。器皿周圍的工作流體的溫度由溫控浴槽控制，以控制材料試樣的溫度。例如，溫控浴槽可以使得工作流體移動經(jīng)過加熱或冷卻元件，從實現(xiàn)工作流體的期望的溫度，并因而控制材料試樣的溫度。
[0003]支架有時被用于保持放置到溫控浴槽內(nèi)的器皿。例如，使用者可以將器皿置于支架中，并然后將支架放入到溫控浴槽內(nèi)以使得器皿與工作流體接觸。當(dāng)使用者期望取用容納在器皿內(nèi)的材料試樣時，使用者將支架從溫控浴槽取出。由于支架與器皿的一些部分已經(jīng)與工作流體接觸，所以使用者通常會將支架放到一容器內(nèi)、或一托盤上、或一種吸收材料上，從而防止工作流體掉出支架和/或器皿并且防止工作流體污染實驗室環(huán)境。另外，當(dāng)支架從溫控浴槽被取出后從儲存器帶出的工作流體會使得儲存器內(nèi)的工作流體的量減少。因而，工作流體必須被定期地添加至儲存器從而替代被帶走的工作流體。
[0004]因而，存在與溫控浴槽及其一起使用的支架有關(guān)的改進需求。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型克服了前述的問題以及針對溫控浴槽的支架的其它不足、缺陷、以及挑戰(zhàn)。盡管本實用新型將結(jié)合特定的實施例予以描述，但是應(yīng)當(dāng)理解本實用新型并不限于那些實施例。相反，本實用新型包括可以在本實用新型的精神和范圍內(nèi)包含的所有替代、改型以及等價物。
[0006]在本實用新型的一個實施例中，提供了一種用于與溫控浴槽一起使用的支架，所述溫控浴槽具有殼體，所述殼體包含供應(yīng)有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口。支架包括支架本體以及由支架本體支承的器皿支承件，所述器皿支承件被構(gòu)造成支承至少一個器皿。支架還包括支承足組件，其由支架本體支承并包括多個支承足。每個支承足被構(gòu)造成在收回位置與展開位置之間移動。
[0007]在本實用新型的另一個實施例中，溫控浴槽與支架結(jié)合地被設(shè)置。溫控浴槽包括殼體，所述殼體包含供應(yīng)有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口。支架包括支架本體以及由所述支架本體支承的器皿支承件，所述器皿支承件被構(gòu)造成支承至少一個器皿。支架還包括支承足組件，其由支架本體支承并包括多個支承足。每個支承足被構(gòu)造成在收回位置與展開位置之間移動。
[0008]在本實用新型的另一個實施例中，提供了將支架與溫控浴槽一起使用的方法，其中所述溫控浴槽具有殼體，所述殼體包含供應(yīng)有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口。支架支承至少一個器皿并且包括支承足組件，所述支承足組件包括多個支承足，各支承足能夠在收回位置與展開位置之間移動。該方法包括使得支承足移動至收回位置，并且將支架降低到儲存器內(nèi)的工作流體中。
[0009]具體地講，根據(jù)本實用新型的一個方面，提供了一種用于與溫控浴槽一起使用的支架，其中所述溫控浴槽具有殼體，所述殼體包括供應(yīng)有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口，其特征在于，所述支架包括:
[0010]支架本體；
[0011]器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本體支承并以支承至少一個器皿的方式被構(gòu)造；以及
[0012]支承足組件，其中所述支承足組件由所述支架本體支承并包括多個支承足，每個支承足以適于在收回位置與展開位置之間移動的方式被構(gòu)造。
[0013]優(yōu)選地，所述支架還包括調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整結(jié)構(gòu)適于使得至少一個支承足從所述展開位置移動至所述收回位置。
[0014]優(yōu)選地，所述調(diào)整機構(gòu)包括手指致動的杠桿件以及將所述杠桿件與所述至少一個支承足操作性相連的連桿。
[0015]優(yōu)選地，所述支架還包括把手，所述手指致動的杠桿件位于所述把手附近。
[0016]優(yōu)選地，每個支承足以適于自動地移動至所述展開位置的方式被構(gòu)造。
[0017]優(yōu)選地，每個支承足包括上表面、與所述上表面相反的底表面、以及自所述上表面朝向所述底表面延伸的斜表面。
[0018]優(yōu)選地，所述支承足組件包括四個支承足。
[0019]優(yōu)選地，每個支承足大體上位于所述支架的下角部附近。
[0020]優(yōu)選地，所述支架本體包括底座、第一側(cè)壁、以及第二側(cè)壁，所述第一側(cè)壁和第二側(cè)壁自所述底座向上延伸并且支承所述器皿支承件，并且每個支承足在移動至所述展開位置時自所述第一側(cè)壁和第二側(cè)壁之一向外延伸。
[0021]優(yōu)選地，所述支承足組件包括與所述第一側(cè)壁相關(guān)聯(lián)的兩個支承足以及與所述第二側(cè)壁相關(guān)聯(lián)的兩個支承足。
[0022]根據(jù)本實用新型的另一個方面，提供了一種組件，其特征在于，所述組件包括:
[0023]溫控浴槽，其中所述溫控浴槽具有殼體，所述殼體包括供應(yīng)有工作流體的儲存器以及提供對所述儲存器觸用的開口 ；以及
[0024]用于與所述溫控浴槽一起使用的支架，所述支架包括:
[0025]支架本體；
[0026]器皿支承件，其中所述器皿支承件由所述支架本體支承并以支承至少一個器皿的方式被構(gòu)造；以及
[0027]支承足組件，其中所述支承足組件由所述支架本體支承并包括多個支承足，每個支承足以適于在收回位置與展開位置之間移動的方式被構(gòu)造。
[0028]優(yōu)選地，在所述支承足移動至所述收回位置時，所述支架適于降低到所述儲存器內(nèi)的工作流體中；并且在所述支承足移動至所述展開位置時，所述支架被禁止降低到所述儲存器內(nèi)的工作流體中。
[0029]優(yōu)選地，所述殼體具有上表面，并且每個支承足包括底表面，所述底表面以當(dāng)所述支承足移動至所述展開位置時安坐在所述上表面上的方式被構(gòu)造，所述底表面在所述展開位置處于大體水平的朝向并且在所述收回位置處于傾斜的朝向。
[0030]優(yōu)選地，所述支架被限定為前述的支架。
【附圖說明】
[0031]結(jié)合到申請文件中并構(gòu)成其一部分的附圖示出了本實用新型的實施例，并且與以上給出的【實用新型內(nèi)容】的說明和以下給出的本實用新型的【具體實施方式】一起用于解釋本實用新型的原理。
[0032]圖1是立體圖，示出了支架，所述支架包括支承足組件，用于相對于溫控浴槽支承支架；支承足組件包括多個支承足，其中所述各支承足在圖1中示出處于展開位置；
[0033]圖1A是側(cè)視圖，示出了在圖1的支架的支承足組件中使用的單個支承足；
[0034]圖2是圖1的支架的局部分解圖，示出了與支架的側(cè)壁分離的器皿支承件的上托架；
[0035]圖3是圖1的支架的立體圖，其中支承足處于收回位置；
[0036]圖4是圖1的支架的沿局部橫截面的示意性剖視圖；
[0037]圖5是立體圖，示出了圖1的支架承載多個器皿并且被置于溫控浴槽的環(huán)境中，其中支承足處于收回位置；
[0038]圖6A是示意性側(cè)視圖，示出了器皿被降入到圖5的支架的器皿支承件中，并且所述支架被定位在溫控浴槽的殼體中的開口上方，其中支承足處于展開位置；
[0039]圖6B是示意性側(cè)視圖，示出了圖5的帶有器皿的支架被降入到溫控浴槽的儲存器中，并且其中支承足處于收回位置；
[0040]圖6C是示意性側(cè)視圖，示出了圖5的帶有器皿的支架以及支架定位在儲存器中，以使得器皿至少部分地由儲存器中包含的工作流體所包圍；
[0041]圖6D是示意性側(cè)視圖，示出了圖5的帶有器皿的支架通過溫控浴槽的殼體中的開口被提升；
[0042]圖6E是示意性側(cè)視圖，示出了圖5的帶有器皿的支架，其中支承足處于展開位置并且安坐在溫控浴槽的殼體的上表面上；并且
[0043]圖7是圖6E所示的結(jié)構(gòu)的立體圖。
【具體實施方式】
[0044]現(xiàn)在參看附圖，支架10被示出在一個實施例中與溫控浴槽12 —起使用。支架10將首先參照圖1、IA以及2至4被描述，并且然后支架10與溫控浴槽12 —起的使用將參照圖5、6A至6E以及7被描述。
[0045]支架10大體上包括支架本體14，所述支架本體包括底座16以及兩個相對的側(cè)壁18a、18b。側(cè)壁18a、18b被固定至底座16并且自所述底座大體向上地延伸。支架10還包括器皿支承件20，所述器皿支承件用于如下進一步詳述地支承諸如試管的一個或多個器皿22。在所示的具體實施例中，器皿支承件20包括底托盤24以及上托盤26。支架10還包括把手28a、28b，它們相應(yīng)地與側(cè)壁18a、18b相關(guān)聯(lián)。
[0046]器皿支承件20由側(cè)壁18a、18b能夠調(diào)整地支承。具體地，每個側(cè)壁18a、18b包括定位調(diào)整槽30，其用于調(diào)整底托盤24和上托盤26的位置。每個調(diào)整槽30包括中央溝槽32以及多個自所述中央溝槽32延伸并與其相連的多個容槽34，所述容槽例如位于中央溝槽32的兩側(cè)。保持構(gòu)件36與底托盤24和上托盤26接合，從而沿著