一種二氧化硅打漿與表面改性的裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種二氧化硅的打漿與表面改性的裝置,具體涉及二氧化硅打漿和在水相中的濕法表面改性同時進行的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]二氧化硅質(zhì)輕、化學(xué)穩(wěn)定性好、耐高溫、不燃燒、親水性、電絕緣性強,在化工、輕工等行業(yè)中應(yīng)用廣泛,如橡膠、塑料、造紙、涂料、油墨及牙膏等。由于二氧化硅表面存在大量羥基,使其呈親水疏油的特性,在有機相中難以潤濕和分散,因此限制了二氧化硅的應(yīng)用范圍,影響產(chǎn)品應(yīng)用性能。為此,需對二氧化硅粒子的表面進行改性,提高產(chǎn)品的親油性和分散性。
[0003]目前工業(yè)上常用干法對二氧化硅的表面進行改性,其過程簡單、后處理工藝少,但改性劑定額高、操作條件嚴(yán)格、設(shè)備要求高,改性的效果也不均勻。采用濕法改性,工藝簡單,改性效果好,產(chǎn)品質(zhì)量容易穩(wěn)定,改性劑定額較低,改性裝置也出現(xiàn)個別報道。但目前的改性裝置,不含打漿功能或打漿效果不理想,也就是對需要改性的二氧化硅有要求,需經(jīng)過打漿制成細(xì)漿后才能進行改性;且現(xiàn)有的改性裝置不含回流裝置,對改性溫度和改性劑造成了限制。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本實用新型的目的是提供一種可同時進行二氧化硅打漿與濕法表面改性的裝置,能縮短生產(chǎn)改性二氧化硅的時間,提高生產(chǎn)效率,擴大改性溫度和改性劑選用范圍。
[0005]本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的,所述的一種二氧化硅打漿與表面改性的裝置,包括漿槽和漿槽殼體,在位于漿槽殼體的頂部上設(shè)置有減速機,在漿槽殼體的頂部與漿槽殼體的豎直外壁之間有斜壁,所述斜壁的兩側(cè)上分別設(shè)有蒸汽出口和進料口,其特征在于在漿槽殼體的下部外側(cè)設(shè)有熱源進口,在漿槽殼體的上部外側(cè)設(shè)有熱源出口,在漿槽殼體的中下部外側(cè)設(shè)有溫度數(shù)顯儀,一熱電偶貫穿漿槽殼體的內(nèi)外壁后與溫度數(shù)顯儀連接,漿槽殼體內(nèi)設(shè)有圓柱形的攪拌軸,攪拌軸上端與減速機連接,出料口設(shè)在漿槽的槽體底部的正中位置處,攪拌軸上設(shè)有上中下三層攪拌槳。
[0006]所述攪拌軸底部與設(shè)在漿槽的槽體底部正中的出料口相距15-25 mm,攪拌軸直徑比出料口的口徑小20-30 _。
[0007]在位于攪拌軸上的上層攪拌槳葉與中層攪拌槳葉俯視呈互為90度,上層攪拌槳葉與下層攪拌槳葉俯視呈互為45度,中層攪拌槳葉與下層攪拌槳葉俯視呈互為45度。
[0008]在漿槽殼體的一側(cè)外壁且距槽體底部100-150 mm處設(shè)有熱源進口,所述熱源進口與能控溫的熱源發(fā)生裝置相連,在漿槽殼體的另一側(cè)外壁且距漿槽殼體底部4/5處設(shè)有熱源出口。
[0009]所述熱電偶設(shè)在上層攪拌槳葉與中層攪拌槳葉之間,用來實時監(jiān)控漿槽殼體內(nèi)的溫度。
[0010]所述上層攪拌槳葉與漿槽殼體的豎直內(nèi)壁的距離為100-150 mm,上層攪拌槳葉與水平方向夾角呈-45?-65度。
[0011]所述中層攪拌槳葉與漿槽殼體豎直內(nèi)壁的距離為180-250 mm,中層攪拌槳葉與水平方向夾角呈-45?-65度。
[0012]所述下層攪拌槳葉與漿槽殼體豎直內(nèi)壁的距離為20-40 mm,與漿槽的槽體底部的距離為15-25 mm ;下層攪拌槳葉與水平方向夾角呈-160?-165度。
[0013]在漿槽殼體外壁安裝有的溫度數(shù)顯儀與熱電偶位于同側(cè)且處在同一高度上,用來顯示熱電偶測量的溫度。
[0014]具體地說,本實用新型所述的一種二氧化硅打漿與改性的裝置,其特點在于攪拌軸底部與設(shè)在漿槽的槽體底部正中的出料口相距15-25 mm,攪拌軸直徑比出料口的口徑小20-30 mm,攪拌軸上設(shè)有上中下三層攪拌槳,上層攪拌槳葉與中層攪拌槳葉俯視互為90度,上層攪拌槳葉與下層攪拌槳葉俯視互為45度,中層攪拌槳葉與下層攪拌槳葉俯視互為45度。所述的一種二氧化硅打漿與改性裝置,其特點在于上層攪拌槳葉與漿槽殼體的豎直內(nèi)壁的距離為100-150 mm,上層攪拌槳葉與水平方向夾角呈-45?-65度;中層攪拌槳葉與漿槽殼體豎直內(nèi)壁的距離為180-250 mm,中層攪拌槳葉與水平方向夾角呈-45?-65度;下層攪拌槳葉與漿槽殼體豎直內(nèi)壁的距離為20-40 mm,與漿槽的槽體底部的距離為15-25mm ;下層攪拌槳葉與水平方向夾角呈-160?-165度。
[0015]本實用新型的目的還可通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的,所述的一種二氧化硅打漿與改性的裝置,其特點在于漿槽殼體的一側(cè)外壁且距槽體底部100-150 mm處設(shè)有熱源進口,所述熱源進口與能控溫的熱源發(fā)生裝置相連,在漿槽殼體的另一側(cè)外壁且距漿槽殼體底部4/5處設(shè)有熱源出口。在漿槽殼體的中下部外側(cè)設(shè)有溫度數(shù)顯儀,一熱電偶貫穿漿槽殼體的內(nèi)外壁后與溫度數(shù)顯儀連接,用來實時監(jiān)控漿槽殼體內(nèi)體系溫度。
[0016]本實用新型的優(yōu)點:下層攪拌選用四折葉槳式攪拌槳,運行時功耗小,能使流體在上下層間循環(huán),達到將二氧化硅改性劑充分分散的效果,也使得體系溫度均勻;上層和中層攪拌選用雙折葉槳式攪拌槳,能促使流體形成大的軸向循環(huán),提供大的剪切力,能將從槽底部循環(huán)上來的二氧化硅團塊進行破碎并分散;保證二氧化硅濾餅破碎和分散以及改性劑分散效果的前提下,將上層攪拌槳葉與漿槽殼體的豎直內(nèi)壁的距離為100-150 mm,上層攪拌槳葉與水平方向夾角呈-45?-65度,中層攪拌槳葉與漿槽殼體豎直內(nèi)壁的距離為180-250mm,中層攪拌槳葉與水平方向夾角呈-45?-65度,下層攪拌槳葉與楽槽殼體豎直內(nèi)壁的距離為20-40 mm,與楽槽的槽體底部的距離為15-25 mm ;下層攪拌槳葉與水平方向夾角呈-160?-165度,以降低運行功耗,節(jié)約成本。攪拌軸底部與設(shè)在漿槽的槽體底部正中的出料口相距15-25 mm,攪拌軸直徑比出料口的口徑小20-30 mm,可以有效防止二氧化硅小團塊進入出料口。蒸汽出口的設(shè)置,可以根據(jù)改性工藝與改性劑的不同選擇是否連接回流裝置,擴大了改性溫度和改性劑的可選范圍,也避免了改性劑與溶劑的損失。一熱電偶貫穿漿槽殼體內(nèi)外壁,與溫度顯示儀相連,用來實時監(jiān)控漿槽殼體內(nèi)體系溫度,溫度可以方便直觀讀取。
【附圖說明】
[0017]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖2為圖1中上層攪拌槳的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖3為圖1中中層攪拌槳的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖4為圖1中下層攪拌槳的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖5為圖1中上層與中層攪拌槳的結(jié)構(gòu)俯視圖。
[0022]圖6為圖1中下層攪拌槳的俯視圖。
[0023]圖7為圖1中中層與下層攪拌槳的結(jié)構(gòu)俯視圖。
[0024]圖8為圖2中上層攪拌槳的漿葉A-A剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]圖9為圖3中中層攪拌槳的漿葉B-B剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖10為圖4中下層攪拌槳的漿葉C-C剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027