一種化工用加速溶解裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及化工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種化工用加速溶解裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]由于現(xiàn)有的化工反應(yīng)裝置結(jié)構(gòu)簡單，且僅能提供用于反應(yīng)的空間，不能夠加速裝置內(nèi)的化工反應(yīng)，從而使得化學(xué)反應(yīng)耗時較長，同時反應(yīng)完畢后，不容易對反應(yīng)后的物體進(jìn)行收集，并且使得反應(yīng)產(chǎn)生的廢渣沉積在裝置底部，影響其充分反應(yīng)，使得反應(yīng)效率較低，提高了企業(yè)的生產(chǎn)成本。
[0003]因此，需要提供一種新的技術(shù)方案解決上述技術(shù)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種可有效解決上述技術(shù)問題的化工用加速溶解裝置。
[0005]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
[0006]一種化工用加速溶解裝置，所述化工用加速溶解裝置包括框體、位于所述框體下方的收集框、位于所述框體右側(cè)的進(jìn)料裝置、位于所述框體上方的旋轉(zhuǎn)裝置、位于所述旋轉(zhuǎn)裝置下方的攪拌裝置及位于所述攪拌裝置下方的底板裝置，所述框體上設(shè)有位于下端的拖環(huán)、位于右表面上的第一通孔、位于上表面的第一凹槽及位于所述框體內(nèi)部的第一磁鐵，所述收集框上設(shè)有轉(zhuǎn)軸及位于所述轉(zhuǎn)軸下方的固定塊，所述進(jìn)料裝置包括第一管道、設(shè)置于所述第一管道上的第一閥門、位于所述第一管道上方的進(jìn)料斗、位于所述進(jìn)料斗上方的第二管道及設(shè)置于所述第二管道上的水栗，所述旋轉(zhuǎn)裝置包括電機(jī)、位于所述電機(jī)下方的旋轉(zhuǎn)軸、位于所述旋轉(zhuǎn)軸左右兩側(cè)的支撐桿、位于所述電機(jī)左右兩側(cè)的固定架及位于所述固定架下方的第一支撐柱，所述攪拌裝置包括主攪拌桿、位于所述主攪拌桿上端的第二磁鐵、位于所述第二磁鐵上表面的固定環(huán)、位于所述主攪拌桿側(cè)面上的第一攪拌桿、第二攪拌桿、位于所述主攪拌桿下方的豎桿及位于所述豎桿下方的橫桿，所述底板裝置包括底板、位于所述底板下方的出料管及設(shè)置于所述出料管上的第二閥門，所述主攪拌桿呈波浪狀，所述主攪拌桿豎直放置，所述第二磁鐵呈長方體，所述第二磁鐵水平放置，所述第二磁鐵的一端與所述主攪拌桿固定連接，所述第二磁鐵的另一端與所述框體的內(nèi)表面接觸，所述固定環(huán)呈圓環(huán)狀，所述固定環(huán)豎直放置，所述固定環(huán)的下表面與所述第二磁鐵的上表面固定連接，所述第一攪拌桿呈長方體，所述第一攪拌桿水平放置，所述第一攪拌桿的一端與所述主攪拌桿固定連接，所述第一攪拌桿的另一端與所述框體的內(nèi)表面接觸，所述第二攪拌桿豎直放置，所述第二攪拌桿的上下兩端與所述主攪拌桿固定連接，所述豎桿豎直放置，所述豎桿的上端與所述主攪拌桿固定連接，所述橫桿呈長方體，所述橫桿水平放置，所述豎桿的下表面與所述橫桿的上表面固定連接。
[0007]所述拖環(huán)呈圓環(huán)狀，所述拖環(huán)水平放置，所述拖環(huán)的外表面與所述框體的內(nèi)表面緊密接觸。
[0008]所述第一磁鐵呈圓環(huán)狀，所述第一磁鐵水平放置，所述第一磁鐵的外表面及上表面與所述框體的內(nèi)表面固定連接。
[0009]所述收集框的上表面與所述拖環(huán)的下表面固定連接。
[0010]所述轉(zhuǎn)軸呈圓柱體，所述轉(zhuǎn)軸豎直放置，所述轉(zhuǎn)軸的上表面與所述收集框的下表面固定連接，所述轉(zhuǎn)軸的下端與所述固定塊軸轉(zhuǎn)連接。
[0011]所述旋轉(zhuǎn)軸呈圓柱體，所述旋轉(zhuǎn)軸豎直放置，所述旋轉(zhuǎn)軸的上端與所述電機(jī)連接，所述旋轉(zhuǎn)軸的下端穿過所述框體的上表面延伸至所述框體的內(nèi)部且與所述框體滑動連接。
[0012]所述支撐桿的上端與所述電機(jī)固定連接，所述支撐桿的下端收容于所述第一凹槽中且與所述框體滑動連接，所述第一支撐柱呈長方體，所述第一支撐柱豎直放置，所述第一支撐柱的下表面與所述框體的上表面固定連接，所述第一支撐柱的上表面設(shè)有第二凹槽。
[0013]所述固定架呈L型，所述固定架的一端收容于所述第二凹槽中，所述固定架的另一端壓在所述電機(jī)的上表面上。
[0014]采用上述技術(shù)方案后，本發(fā)明具有如下優(yōu)點:
[0015]本發(fā)明化工用加速溶解裝置結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，通過對裝置內(nèi)部進(jìn)行攪拌使其能夠快速的充分反應(yīng)，縮短了反應(yīng)的時間，同時方便將反應(yīng)產(chǎn)生的液體收集起來，操作簡單，同時能夠?qū)⒖蝮w抬起，然后清除內(nèi)部的廢渣，使得其不再影響化學(xué)反應(yīng)的效率，降低了企業(yè)的生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0016]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明化工用加速溶解裝置的【具體實施方式】作進(jìn)一步說明:
[0017]圖1為本發(fā)明化工用加速溶解裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
【具體實施方式】
[0018]如圖1所示，本發(fā)明化工用加速溶解裝置包括框體1、位于所述框體1下方的收集框2、位于所述框體1右側(cè)的進(jìn)料裝置3、位于所述框體1上方的旋轉(zhuǎn)裝置4、位于所述旋轉(zhuǎn)裝置4下方的攪拌裝置5及位于所述攪拌裝置5下方的底板裝置6。
[0019]如圖1所示，所述框體1呈空心的圓柱體，所述框體1豎直放置，所述框體1上設(shè)有位于下端的拖環(huán)11、位于右表面上的第一通孔12、位于上表面的第一凹槽13及位于所述框體1內(nèi)部的第一磁鐵14。所述拖環(huán)11呈圓環(huán)狀，所述拖環(huán)11水平放置，所述拖環(huán)11的外表面與所述框體1的內(nèi)表面緊密接觸。所述第一通孔12呈圓柱體，所述第一通孔12水平放置。所述第一凹槽13設(shè)有兩個且分別位于左右兩側(cè)，所述第一凹槽13呈圓柱體狀。所述第一磁鐵14呈圓環(huán)狀，所述第一磁鐵14水平放置，所述第一磁鐵14的外表面與上表面與所述框體1的內(nèi)表面固定連接。
[0020]如圖1所示，所述收集框2呈圓臺狀，所述收集框2的上表面向下凹陷形成一收集腔，所述收集腔呈圓臺狀。所述收集框2的上表面與所述拖環(huán)11的下表面固定連接。所述收集框2上設(shè)有轉(zhuǎn)軸21及位于所述轉(zhuǎn)軸21下方的固定塊22。所述轉(zhuǎn)軸21呈圓柱體，所述轉(zhuǎn)軸21豎直放置，所述轉(zhuǎn)軸21的上表面與所述收集框2的下表面固定連接，所述轉(zhuǎn)軸21的下端與所述固定塊22軸轉(zhuǎn)連接，使得所述轉(zhuǎn)軸21可以在所述固定塊22旋轉(zhuǎn)。所述固定塊22呈長方體，所述固定塊22水平放置。
[0021]如圖1所示，所述進(jìn)料裝置3包括第一管道31、設(shè)置于所述第一管道31上的第一閥門32、位于所述第一管道31上方的進(jìn)料斗34、位于所述進(jìn)料斗34上方的第二管道33及設(shè)置于所述第二管道33上的水栗35。所述第一管道31呈L型，所述第一管道31的一端對準(zhǔn)所述第一通孔12且與所述框體1的側(cè)面固定連接，使得所述第一掛電腦31的內(nèi)部與所述框體1的內(nèi)部相通。所述第一閥門32設(shè)置于所述第一管道31上，用于控制所述第一管道31上的原料的流量。所述進(jìn)料斗34呈倒置的圓臺狀，所述進(jìn)料斗34與所述第一管道31固定連接。所述第二管道33呈凹字型，所述第二管道33的一端位于所述進(jìn)料斗34的正上方，使得第二管道33中的物體可以進(jìn)入到第一管道31中，所述第二管道33的另一端用于吸取原料。所述水栗35設(shè)置于所述第二管道33上，用于向原料吸入到第二管道33中。
[0022]如圖1所示，所述旋轉(zhuǎn)裝置4包括電機(jī)41、位于所述電機(jī)41下方的旋轉(zhuǎn)軸42、位于所述旋轉(zhuǎn)軸42左右兩側(cè)的支撐桿43、位于所述電機(jī)41左右固定架44及位于所述固定架44下方的第一支撐柱45。所述電機(jī)41位于所述框體1的正上方。所述旋轉(zhuǎn)軸42呈圓柱體，所述旋轉(zhuǎn)軸42豎直放置，所述旋轉(zhuǎn)軸42的上端與所述電機(jī)41連接，使得所述電機(jī)41帶動所述旋轉(zhuǎn)軸42旋轉(zhuǎn)，所述旋轉(zhuǎn)軸42的下端穿過所述框體1的上表面延伸至所述框體1的內(nèi)部且與所述框體1滑動連接。所述支撐桿43設(shè)有兩個且分別位于左右兩側(cè)，所述支撐桿43的上端與所述電機(jī)41固定連接，所述支撐桿43的下端收容于所述第一凹槽13中且與所述框體1滑動連接。所述第一支撐柱45設(shè)有兩個且分別位于左右兩側(cè)，所述第一支撐柱45呈長方體，所述第一支撐柱45豎直放置，所述第一支撐柱45的下表面與所述框體1的上表面固定連接，所述第一支撐柱45的上表面設(shè)有第二凹槽451