專利名稱：射流混合氣液反應(yīng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及能將反應(yīng)氣體充分地與溶液、懸浮液或乳濁液等液體混合 并與之反應(yīng)的氣液反應(yīng)裝置，具體說是一種利用噴射泵實(shí)現(xiàn)氣液混合并保證液 體為懸浮液時(shí)液體中固相不發(fā)生沉淀現(xiàn)象的射流混合氣液反應(yīng)裝置。
背景技術(shù)：
在濕法冶金工業(yè)中存在著大量的氣液反應(yīng)過程，如溶解、除雜造渣等，目 前一般使用機(jī)械攪拌或氣體攪拌釜作為反應(yīng)器。由于氣體攪拌釜不允許密封， 機(jī)械攪拌釜密封困難，這兩種反應(yīng)器均不能將反應(yīng)氣體完全利用，約有三分之 一的反應(yīng)氣體逸出，由于反應(yīng)氣體多為有毒有害氣體，直接排放將形成環(huán)境污 染對人體構(gòu)成危害，即使反應(yīng)氣體是無害的，但由于反應(yīng)液體多為強(qiáng)酸強(qiáng)堿， 反應(yīng)氣體也會在逸出液體時(shí)將攜帶酸堿形成酸堿霧氣污染環(huán)境，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)過 程中一般是將逸出的反應(yīng)氣體收集后作無害化處理。這樣做既浪費(fèi)了反應(yīng)氣體 又增加了生產(chǎn)成本。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的，就在于提供一種能將反應(yīng)氣體完全利用的氣液反應(yīng)器， 本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的
一種射流混合氣液反應(yīng)裝置，由槽體、導(dǎo)流筒、料液泵及噴射器組成，其 特征在于所述槽體為一圓柱形，其上設(shè)一密封蓋，槽體內(nèi)套裝一導(dǎo)流筒，槽體 底部設(shè)一下錐體，下錐體上端導(dǎo)流筒的底部設(shè)一上錐體，上、下錐體共同組成 雙錐體；槽體上端連接一噴射器，槽體下部連通一料液泵，料液泵與噴射器相 連，噴射器下端的尾管接入導(dǎo)流筒內(nèi)，尾管上連接一反應(yīng)氣體進(jìn)氣口，噴射器 上端連接噴射器吸氣口。
所述導(dǎo)流筒外壁下部設(shè)有數(shù)條螺旋導(dǎo)流板，導(dǎo)流筒內(nèi)壁設(shè)有臺階，與上錐 體搭接。
所述雙錐體上錐體和下錐體之間由數(shù)塊連接板連接成為一個(gè)整體，上錐體 錐底部開一節(jié)流孔，節(jié)流孔與下錐體錐頂平面之間留有間隙。
本實(shí)用新型同目前使用的機(jī)械攪拌或氣體攪拌反應(yīng)釜相比，顯著的特點(diǎn)是 1、由于噴射器的作用反應(yīng)氣體可被分割成極小的氣泡，與料液混合均勻。2、 可將未反應(yīng)的反應(yīng)氣體回收再次利用，理論上反應(yīng)氣體的利用率可達(dá)100%。對 環(huán)境的污染極小。3、結(jié)構(gòu)簡單，反應(yīng)器自身無運(yùn)動部件，故障率低。

圖l為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明-
本實(shí)用新型由槽體、導(dǎo)流筒、雙錐體、料液泵及噴射器組成，槽體1為一
圓柱形，其上設(shè)一密封蓋15，槽體1內(nèi)套裝一導(dǎo)流筒13，槽體1底部設(shè)一下錐 體9，下錐體9上端導(dǎo)流筒13的底部設(shè)一上錐體11，上、下錐體共同組成雙錐 體。槽體1下部連通一料液泵4，槽體1上端連接一噴射器6，料液泵4與噴射 器6相連接構(gòu)成噴射泵。噴射器6下端的尾管5接入導(dǎo)流筒13內(nèi)，尾管5上連 接一反應(yīng)氣體進(jìn)氣口 8，噴射器6上端連接噴射器吸氣口 7。導(dǎo)流筒13外壁下 部設(shè)有數(shù)條螺旋導(dǎo)流板14，導(dǎo)流筒13內(nèi)壁設(shè)有臺階，以便于支撐于雙錐體上。 雙錐體上錐體11和下錐體9由數(shù)塊連接板IO連接成為一個(gè)整體，上錐體11錐 底部開設(shè)一個(gè)直徑為3_5厘米的節(jié)流孔12，節(jié)流孔12與下錐體錐頂平面保持 l一2厘米的距離。
料液泵4從槽體1底部將槽內(nèi)料液及由進(jìn)料口 2新加料液抽出，經(jīng)噴射器6 尾管5進(jìn)入導(dǎo)流筒13內(nèi)，反應(yīng)氣體從進(jìn)氣口 8在尾管5內(nèi)與料液混合，由于尾 管5內(nèi)料液流速很快，反應(yīng)氣體與料液能夠進(jìn)行充分混合?；旌虾蟮牧弦哼M(jìn)入 導(dǎo)流筒13與雙錐體上錐體11形成的空間內(nèi)，由于開設(shè)于雙錐體上錐體11錐底 部的節(jié)流孔12很小，大部分料液向上運(yùn)動，如果此時(shí)氣液反應(yīng)器被用于溶解作 業(yè)，由于導(dǎo)流筒13截面較大，流速較慢，料液中粒度較大的固體顆粒將向下運(yùn) 動，當(dāng)其向下運(yùn)動至雙錐體上錐體ll內(nèi)時(shí)，由于截面變小料液向上流速變大， 固體顆粒以被沖起而向上運(yùn)動，如此反復(fù)直至其溶解為較小的顆粒，這樣就防 止了大顆粒固體過多進(jìn)入槽體底部形成沉淀而堵塞料液泵進(jìn)液口 。對于除雜造 渣作業(yè)，由于新生成的固體顆粒粒度較小，則在運(yùn)行中不存在沉淀問題。向上 運(yùn)動的料液到達(dá)導(dǎo)流筒13上部后，翻過導(dǎo)流筒上沿經(jīng)導(dǎo)流筒周邊與槽體之間的
間隙向下運(yùn)動，此時(shí)沒有反應(yīng)的反應(yīng)氣體從料液中逸出，經(jīng)噴射器吸氣口 7被
吸入噴射器再次與料液混合參與反應(yīng)。向下運(yùn)動的料液在螺旋導(dǎo)流板14和料液 泵4的作用下，在雙錐體下錐體9的周邊形成高速旋轉(zhuǎn)液流，以防止料液中固 體顆粒在反應(yīng)器底部沉淀而堵塞料液泵進(jìn)液口。進(jìn)入反應(yīng)器底部的料液被料液 泵4抽出送往噴射器6再次與反應(yīng)氣體混合。如此反復(fù)循環(huán)。反應(yīng)后的料液經(jīng) 排料口 3排出本裝置。雙錐體上錐體錐頂開設(shè)節(jié)流孔12是為檢修時(shí)能放出導(dǎo)流 筒內(nèi)的料液，在運(yùn)行中對上錐體內(nèi)固體沉淀層有一定的松動作用，以防止在上 錐體內(nèi)形成反應(yīng)死區(qū)。節(jié)流孔與下錐體錐頂平面間隙的設(shè)置是為了在臨時(shí)停車 時(shí)堵塞節(jié)流孔，避免固體過多進(jìn)入反應(yīng)器底部形成沉淀堵塞料液泵進(jìn)液口。
權(quán)利要求1、一種射流混合氣液反應(yīng)裝置，由槽體、導(dǎo)流筒、料液泵及噴射器組成，其特征在于所述槽體(1)為一圓柱形，其上設(shè)一密封蓋(15)，槽體(1)內(nèi)套裝一導(dǎo)流筒(13)，槽體(1)底部設(shè)一下錐體(9)，下錐體(9)上端導(dǎo)流筒(13)的底部設(shè)一上錐體(11)，上、下錐體共同組成雙錐體；槽體(1)上端連接一噴射器(6)，槽體(1)下部連通一料液泵(4)，料液泵(4)與噴射器(6)相連，噴射器(6)下端的尾管(5)接入導(dǎo)流筒(13)內(nèi)，尾管(5)上連接一反應(yīng)氣體進(jìn)氣口(8)，噴射器(6)上端連接噴射器吸氣口(7)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的射流混合氣液反應(yīng)裝置，其特征在于所述導(dǎo)流筒 (13)外壁下部設(shè)有數(shù)條螺旋導(dǎo)流板(14)，導(dǎo)流筒(13)內(nèi)壁設(shè)有臺階，與上錐體(11)搭接。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的射流混合氣液反應(yīng)裝置，其特征在于所述雙錐體 上錐體(11)和下錐體(9)之間由數(shù)塊連接板(10)連接成為一個(gè)整體，上錐 體錐底部開一節(jié)流孔(12)，節(jié)流孔(12)與下錐體錐頂平面之間留有間隙。
專利摘要一種射流混合氣液反應(yīng)裝置，由槽體、導(dǎo)流筒、料液泵及噴射器組成，其特征在于所述槽體為一圓柱形，其上設(shè)一密封蓋，槽體內(nèi)套裝一導(dǎo)流筒，槽體底部設(shè)一下錐體，下錐體上端導(dǎo)流筒的底部設(shè)一上錐體，上、下錐體共同組成雙錐體；槽體上端連接一噴射器，槽體下部連通一料液泵，料液泵與噴射器相連，噴射器下端的尾管接入導(dǎo)流筒內(nèi)，尾管上連接一反應(yīng)氣體進(jìn)氣口，噴射器上端連接噴射器吸氣口。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，反應(yīng)器自身無運(yùn)動部件，故障率低，由于噴射器的作用反應(yīng)氣體可被分割成極小的氣泡，與料液混合均勻。可將未反應(yīng)的反應(yīng)氣體回收再次利用，理論上反應(yīng)氣體的利用率可達(dá)100％，對環(huán)境的污染極小。
文檔編號B01J19/26GK201055774SQ200720032238
公開日2008年5月7日 申請日期2007年6月23日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月23日
發(fā)明者陳鴻乾 申請人:張 瑋