專(zhuān)利名稱(chēng)：快速原型開(kāi)發(fā)設(shè)備和快速原型開(kāi)發(fā)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種快速原型開(kāi)發(fā)設(shè)備和一種原型開(kāi)發(fā)方法，以及
一種用于這種方法和設(shè)備的光敏介質(zhì)(medium)。
背景技術(shù)：
在機(jī)械原型(mechanical prototype)的制造中，尤其在產(chǎn)品設(shè)計(jì)階 段，近年來(lái)出現(xiàn)了多種快速原型開(kāi)發(fā)技術(shù)(RP),其中三維物體由連續(xù) 的截面層來(lái)制造，而這些截面層通過(guò)在每個(gè)截面上對(duì)材料進(jìn)行規(guī)定 的照射、燒結(jié)、設(shè)置或布置等來(lái)產(chǎn)生。獨(dú)立的截面由例如計(jì)算機(jī)輔 助設(shè)計(jì)來(lái)產(chǎn)生。RP的優(yōu)點(diǎn)在于，用于設(shè)備設(shè)計(jì)的昂貴的模制工具的 制造對(duì)于設(shè)備的制造來(lái)說(shuō)顯得多余，因?yàn)槟Ｖ乒ぞ叩睦щy而耗時(shí)的 修改幾乎可以完全避免。
另外，基于已生產(chǎn)的快速原型，多種技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用于制造相對(duì) 便宜的且快速的原型或者說(shuō)O系列模制工具。
一種RP技術(shù)用在例如立體平面印刷設(shè)備，即SLA中。該技術(shù) 基于原型的獨(dú)立層或獨(dú)立截面，該原型由光敏介質(zhì)制造并通過(guò)計(jì)算 機(jī)輔助照射硬化(harden)在一塊單片原型內(nèi)。
在專(zhuān)利US6658314中公開(kāi)了 一種上述類(lèi)型的設(shè)備，其中例如已 硬化的3D材料的彈性模量可以根據(jù)輻射波長(zhǎng)的調(diào)節(jié)來(lái)選擇性地控 制。該技術(shù)的相關(guān)問(wèn)題在于，例如彈性或硬度模量的控制可能相當(dāng) 復(fù)雜，且獲得的特性可能在生成物體的各層之間都有所不同。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及一種對(duì)至少一種快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)的照射方 法，其中，所述照射由至少兩束投射到所述快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)
上的聯(lián)立的(simultaneous)獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)來(lái)完成，且所述快速 原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)由具有至少兩個(gè)不同波長(zhǎng)內(nèi)容(WLC1， WLC2)的光束 (IMLB)來(lái)照射。
根據(jù)本發(fā)明，已獲得了若干明顯優(yōu)點(diǎn)。其中之一個(gè)優(yōu)點(diǎn)在于發(fā) 現(xiàn)了可以在施加多光束照射時(shí)降低或控制住生成固化(curing)的波 動(dòng)。該優(yōu)點(diǎn)可以在一些應(yīng)用中獲得，這是因?yàn)榕c各層相關(guān)的掃描時(shí) 間可以保持在合理的時(shí)間誤差內(nèi)。另 一個(gè)根據(jù)本發(fā)明可以實(shí)現(xiàn)的優(yōu) 點(diǎn)在于，生成物體的不同層之間的物理、光、電、化學(xué)、 >磁等相關(guān) 特性或其任意結(jié)合的差異可以簡(jiǎn)單地保持在很低的程度上，這是因 為對(duì)獨(dú)立層用不同波長(zhǎng)內(nèi)容來(lái)照射的照射步驟可以在很短的時(shí)間內(nèi) 完成，或甚至同時(shí)完成。
快速原型開(kāi)發(fā)一般指的是快速制造技術(shù)，諸如快速加工、快速 制造等，當(dāng)然也包括傳統(tǒng)意義上的快速原型開(kāi)發(fā)。
用語(yǔ)"聯(lián)立的"指的是獨(dú)立調(diào)制光束同時(shí)呈現(xiàn)，至少部分同時(shí)， 如果相關(guān)像素處于"打開(kāi)"狀態(tài)的話。
應(yīng)當(dāng)注意，本發(fā)明簡(jiǎn)化了多于兩種不同波長(zhǎng)內(nèi)容的使用，且因 此提供了通過(guò)不同波長(zhǎng)內(nèi)容而獲得三種或更多不同特性的能力。
在某些范圍內(nèi)，如果不是不可能的話，這樣的曝光會(huì)變得極度 復(fù)雜，這是因?yàn)楦鶕?jù)現(xiàn)有技術(shù)，照射步驟的增加導(dǎo)致了與相對(duì)于所 獲得特性的可預(yù)見(jiàn)性相關(guān)的問(wèn)題的增加。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述照射由至少五束、優(yōu)選地至少十束 或更優(yōu)選地至少二十束聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)投射到所述快速 原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)上來(lái)完成。
根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施例，聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束的數(shù)量越大越 好，例如大于100、 500或1000,以獲得與生成物體的特性相關(guān)的所 需的可預(yù)見(jiàn)性。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束通過(guò) 至少 一個(gè)空間光調(diào)制器來(lái)調(diào)制。
空間光調(diào)制器是一種獲得所需的大量的聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束的 有利方法。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束通過(guò) 至少一個(gè)空間光調(diào)制器根據(jù)照射控制信號(hào)(ICS)來(lái)調(diào)制。
典型地，照射控制信號(hào)可以由照射控制單元(cu)來(lái)產(chǎn)生，該單 元包括數(shù)據(jù)處理器件。這種數(shù)據(jù)處理器件可以例如包括光柵圖像
(raster image)處理器。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB) 具有至少兩個(gè)不同波長(zhǎng)內(nèi)容。
根據(jù)本發(fā)明的有利實(shí)施例，至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB) (優(yōu)選地其數(shù)目超100或更多)可以同時(shí)投射不同波長(zhǎng)內(nèi)容。該特征可 以簡(jiǎn)化整個(gè)物體層或至少其部分的快速閃光曝光，以及最終曝光層 相對(duì)于所有這些相對(duì)于波長(zhǎng)內(nèi)容的、不同曝光照射的點(diǎn)的 一 致的且 可預(yù)見(jiàn)的特性。
應(yīng)當(dāng)注意到，這種把至少兩個(gè)不同波長(zhǎng)內(nèi)容在多光束應(yīng)用中的 應(yīng)用促進(jìn)了閃光曝光或/備選地和掃描曝光，其中用兩個(gè)或多個(gè)不同 波長(zhǎng)內(nèi)容的照射可以在一次掃描移動(dòng)中獲得。而且，閃光曝光和掃 描曝光可以結(jié)合在一起。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述照射在一個(gè)照射步驟內(nèi)完成。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述照射通過(guò)在調(diào)制光束和快速原型開(kāi) 發(fā)介質(zhì)(RPM)之間的掃描相對(duì)移動(dòng)在一個(gè)照射步驟內(nèi)完成。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述照射通過(guò)照在快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì) (RPM)上的調(diào)制光束的閃光曝光在一個(gè)照射步驟內(nèi)完成。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB) 具有在第一照射步驟(ILSI)內(nèi)的第一波長(zhǎng)內(nèi)容(WLC1),且所述至少兩 條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)具有在第二照射步驟(WLC2)內(nèi)的另一 個(gè)波長(zhǎng)內(nèi)容(WLC2)。 本發(fā)明還提供了的把照射分解成兩個(gè)或多個(gè)照射步驟但仍保持 了特性的所需的可預(yù)見(jiàn)性的可能性，該特性與分布在最終快速原型 開(kāi)發(fā)物體的獨(dú)立層的特性以及所有的層之間相互獲得的特性都相 關(guān)。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)在不同調(diào)制 點(diǎn)(MP)被照射。
應(yīng)當(dāng)注意，照射點(diǎn)可以由一條或多條照射光束獲得。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，至少一個(gè)空間光調(diào)制器包括LCD(LCD: 液晶顯示器)，PDLC, (PDLC:聚合物分散液晶)，PLZT(PLZT:鋯 鈥酸鉛鑭)，F(xiàn)ELCD(FELCD:鐵電液晶顯示器)或克爾盒(Kerr cell)。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，至少 一個(gè)空間光調(diào)制器包括基于反射的 機(jī)電光閥，諸如DMD(DMD:數(shù)字微反射鏡器件)空間光調(diào)制器。
DMD空間光調(diào)制器可以是例如德州儀器制作的DLP型。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，至少 一個(gè)空間光調(diào)制器包括透射性的 (transmissive)才幾電光閥。
該基于透射性的機(jī)電光閥可以根據(jù)通過(guò)引用結(jié)合到本文中的文 件PCT/DK98/00155的示范來(lái)制作。
透射性的機(jī)電光閥和上述反射性的空間光調(diào)制器結(jié)合到本發(fā)明 中都是特別有利的，因?yàn)檫@些系統(tǒng)都可以投射大量有效能量到快速 原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)處的最終照射點(diǎn)上。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)由 至少一個(gè)照射源(LS)提供。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)由 至少一個(gè)照射源(LS)通過(guò)光導(dǎo)裝置提供。
該光導(dǎo)裝置可以包括例如適當(dāng)?shù)淖⑸浼?或校準(zhǔn)光學(xué)器件、光纖、 特制透鏡等。光導(dǎo)裝置可以根據(jù)例如通過(guò)引用結(jié)合到本文中的文件 PCT/DK98/00154來(lái)設(shè)計(jì)。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述利用不同波長(zhǎng)內(nèi)容的照射導(dǎo)致了最 終物體(101 )取決于所應(yīng)用波長(zhǎng)內(nèi)容的不同特性。
不同特性可以是例如硬度、彈性、脆性等。這些特性的示例可 以是物理、光、電、化學(xué)、磁等相關(guān)特性或其任意結(jié)合。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述照射是層式建立的。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述層式照射提供了所述快速原型開(kāi)發(fā) 介質(zhì)通過(guò)所述照射獲得的固化而生成的物體(101， 102)。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述不同波長(zhǎng)內(nèi)容之一應(yīng)用于照射物體
(101) ,且其中至少一個(gè)其它波長(zhǎng)內(nèi)容應(yīng)用于照射至少一個(gè)支持結(jié)構(gòu)
(102) 。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述支持結(jié)構(gòu)(102)由于所述至少一個(gè)其 它波長(zhǎng)內(nèi)容的照射而是可移除的或易移除的。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述照射源(LS)包括一個(gè)或多個(gè)單色激 光、例如短弧隙燈的一個(gè)或多個(gè)寬帶照射源或其任意結(jié)合。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，所述照射源(LS)是紫外(UV)光源。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，在照射步驟之間的時(shí)間差小于500%,優(yōu) 選地小于100%,最優(yōu)選地小于約10%。
在傳統(tǒng)的單點(diǎn)快速原型開(kāi)發(fā)系統(tǒng)中，照射步驟的照射時(shí)間可以 變化很大。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，該時(shí)間差的變化可小于10%或甚 至1%，由此以方便而可靠的方式獲得特性的所需的可預(yù)見(jiàn)性。
本發(fā)明還涉及一種快速原型開(kāi)發(fā)系統(tǒng)，其包括照射單元(IU)、至 少一個(gè)照射源(LS)、至少一個(gè)控制單元(CU),其中，所述快速原型開(kāi) 發(fā)系統(tǒng)促進(jìn)了根據(jù)權(quán)利要求1至22中任一項(xiàng)的快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì) (RPM)的照射。
而且，本發(fā)明還涉及波長(zhǎng)控制的使用，用于獲得在多光束快速 原型開(kāi)發(fā)照射系統(tǒng)中所照射物體的不同特性。
本發(fā)明又涉及一種快速原型開(kāi)發(fā)的方法，借此原型(101)通過(guò)照
射光敏材料(100A, 100B, 100C)來(lái)提供，而其中所述照射包括控制 波長(zhǎng)內(nèi)容。
用語(yǔ)原型不限于獨(dú)特對(duì)象的產(chǎn)品，它還可以包括多種尺寸、或 大或小、甚至單層的產(chǎn)品。因此，快速原型開(kāi)發(fā)一般指的是快速制 造技術(shù)，諸如快速加工、快速制造等，當(dāng)然，還包括傳統(tǒng)意義上的 快速原型開(kāi)發(fā)。
該照射可以來(lái)自不同的單色光源、例如激光或來(lái)自帶有許多種 波長(zhǎng)的光源。待使用的光可以是UV、 IR或可見(jiàn)光。優(yōu)選地待用波長(zhǎng) 可以在300nm和800nm之間。
所謂控制波長(zhǎng)內(nèi)容應(yīng)當(dāng)理解為，波長(zhǎng)內(nèi)容可以控制成包括帶有 一個(gè)、兩個(gè)或多個(gè)不同波長(zhǎng)或不同波長(zhǎng)內(nèi)容的成分的光。
對(duì)于兩個(gè)光源，它們每個(gè)都可有利地具有其自有的波長(zhǎng)以構(gòu)成 根據(jù)本發(fā)明的所必需的波長(zhǎng)。對(duì)于具有許多種波長(zhǎng)的光源，至少兩 個(gè)所必需的不同波長(zhǎng)可以通過(guò)利用例如光柵或經(jīng)過(guò)濾光器(filter)來(lái)選 擇，以l兆選兩個(gè)所需波長(zhǎng)。
還應(yīng)當(dāng)注意，對(duì)用于照射的光的波長(zhǎng)內(nèi)容的控制并不僅僅意味 光的至少兩個(gè)不同波長(zhǎng)，還意味著例如允許甚至相同的波長(zhǎng)內(nèi)容^f旦 具有不同權(quán)重的、兩個(gè)不同的光譜曲線(spectral profile)。
快速原型開(kāi)發(fā)設(shè)備的實(shí)施例的基本原理公開(kāi)在文獻(xiàn)EP1156922
例如參考圖4a、圖4b和圖5。
與照射系統(tǒng)相關(guān)的更多原理公開(kāi)在文獻(xiàn)PCT/DK98/00155和 PCT/DK98/00154中。為了獲得所需的不同波長(zhǎng)內(nèi)容，這種系統(tǒng)可以 補(bǔ)充有例如濾光器(如圖4a和4b所示)，或者該曝光系統(tǒng)可以包4舌一 個(gè)或多個(gè)濾光器，其在設(shè)備運(yùn)行期間可以更換，例如如圖5所示。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，快速原型開(kāi)發(fā)設(shè)備通過(guò)額外地處理截面 生成三維物體，其包括整體地或部分地光敏的材料，所述設(shè)備包括
至少 一 個(gè)光源，用來(lái)通過(guò)可獨(dú)立控制的光調(diào)制器中的至少 一 個(gè)空間 光調(diào)制器來(lái)照射光敏材料的截面，其中，至少一個(gè)光源光學(xué)地與多 個(gè)光導(dǎo)聯(lián)接，該多個(gè)光導(dǎo)相對(duì)于空間光調(diào)制器裝置設(shè)置成每個(gè)光導(dǎo) 都可以照射到截面的部分區(qū)域。
本發(fā)明提供機(jī)會(huì)來(lái)設(shè)計(jì)一種給定RP系統(tǒng)，以處理任何尺寸的原 型，而光發(fā)射器的數(shù)量和因此而產(chǎn)生的待覆蓋的獨(dú)立區(qū)域的數(shù)量可 能增加或減少，直到其匹配原型的尺寸。以這種方式，能夠可行而
簡(jiǎn)單地設(shè)計(jì)用于RP系統(tǒng)的照射系統(tǒng)，該RP系統(tǒng)構(gòu)建成具有若干的 照射模塊的模塊系統(tǒng)，該照射模塊可以相對(duì)于系統(tǒng)設(shè)計(jì)適當(dāng)?shù)靥砑?或設(shè)置。該靈活性基本上可以用在大尺寸RP原型的設(shè)計(jì)以及更面向 顧客的小尺寸模型中。
另外，多個(gè)光發(fā)射器提供機(jī)會(huì)以使用點(diǎn)形的光源。通過(guò)應(yīng)用根 據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)，可以獲得直徑小到10pm的圓點(diǎn)狀的照射點(diǎn)，而相 比較之下，現(xiàn)有技術(shù)中該直徑最小不過(guò)80pm。這在制造需要高精度 的原型時(shí)是極大的優(yōu)點(diǎn)。這例如包括了工具的制造，其中原型在制 造之后而用于模制工具之前設(shè)有金屬涂層。
該技術(shù)的某些領(lǐng)域應(yīng)用長(zhǎng)形(prolonged)光源，諸如日光燈或激態(tài) 燈，以能夠產(chǎn)生一定尺度的原型。然而，根據(jù)光學(xué)定律，長(zhǎng)形光源 僅能產(chǎn)生長(zhǎng)形照射的點(diǎn)，這接著在很大程度上限制了在原型中制作 細(xì)節(jié)的潛能。不僅如此，長(zhǎng)形光源還容易發(fā)生相對(duì)大的損耗。
根椐本發(fā)明，形成光束的光的定義是寬廣的，其包括可見(jiàn)光譜 之內(nèi)和之外的電石茲輻射。
還應(yīng)當(dāng)注意，該方法優(yōu)選地可以涉及物體的照射和制造，該物 體包括一個(gè)或多個(gè)層，盡管多個(gè)層一般是優(yōu)選的。
備選地，大量光學(xué)器件必須用于與長(zhǎng)形光源一起使用，以調(diào)節(jié) 照射點(diǎn)的形狀。自然地，這使得系統(tǒng)更加昂貴，而且在監(jiān)測(cè)光學(xué)器 件時(shí)還需要很高的精度。
應(yīng)用多個(gè)光發(fā)射器還可以增加在整個(gè)照射截面上的照射效果， 這是由于整個(gè)截面每個(gè)子區(qū)域都可以由獨(dú)立的光發(fā)射器或甚至發(fā)光 體來(lái)照射。這是有利的，因?yàn)檫@使得以由光學(xué)照射效果而產(chǎn)生的方 式對(duì)獨(dú)立原型照射效果的設(shè)計(jì)成為可能。該技術(shù)在文獻(xiàn)
PCT/DK98/00154中作了大致介紹，其通過(guò)引用結(jié)合到本文中。
液體(流動(dòng)的光聚合物)，具有這樣的性能，即在用電磁輻射照射
期間，例如用具有一個(gè)或多個(gè)波長(zhǎng)(例如436nm)或一個(gè)特定波長(zhǎng)范圍
(例如400至450nm)的光照射，其以可以再次溶解在液體中例如水或
酒精中的方式而變硬(聚合)；而當(dāng)以例如一個(gè)或多個(gè)其它波長(zhǎng)(例如
365nm)或另一波長(zhǎng)范圍(例如350至400nm(UV光))的光照射時(shí)，它
以不能立刻溶解在上述可以用來(lái)溶解硬化光聚合物的 一種或多種液
體中的方式而變硬(聚合)。
該液體與連續(xù)的截面層的建立一起應(yīng)用，以在連同快速原型開(kāi)
發(fā)(RP)，快速制造(RM),快速加工(RT)和其它的類(lèi)似工藝而使用的
機(jī)器中建成3維目標(biāo)。
其示例為用于照射光聚合物的來(lái)自3D Systems Inc. 、 Envisiontec
GmbH、 Sony及Dicon A/S等公司的機(jī)器?？梢詤⒖紒?lái)自Dicon A/S
7>司的快速原型開(kāi)發(fā)專(zhuān)利文獻(xiàn)EP1156922。
被照射液體的可以是陽(yáng)離子啟動(dòng)的光聚合物。
該液體可以放置在曝光于電磁輻射的容器或器皿中。
上文介紹了以波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍來(lái)分隔光的曝光方法。當(dāng)然，該
方法也可以擴(kuò)大到以大于兩個(gè)不同波長(zhǎng)或兩個(gè)波長(zhǎng)間隔來(lái)分隔光。 本發(fā)明實(shí)施例的一個(gè)目的在于，解決在建立3維物體時(shí)去除支
來(lái)從所建立物體上移除。這以非手工過(guò)程去除而支持結(jié)構(gòu)的方式使 得工藝的自動(dòng)化成為可能。
相關(guān)特性。
用不同波長(zhǎng)的光進(jìn)行曝光可以以多種方式發(fā)生，例如
通過(guò)使用多種不同光源，其每個(gè)都以不同波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍來(lái)照 射。例如發(fā)光二極管。
通過(guò)使用一個(gè)或多個(gè)光源(其在很寬的范圍內(nèi)照射)而把它以適當(dāng) 方式分隔為不同波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍。例如，水銀放電燈(高壓弧隙燈)。
把光分隔為不同波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的方法例如有
在透射性的光調(diào)制模塊上，例如在文獻(xiàn)美國(guó)專(zhuān)利No.6529265中 所提及的那種類(lèi)型，以適當(dāng)?shù)哪Ｊ皆诿總€(gè)模塊上都附著(coat)微透鏡， 其方式為，使得所附著的透鏡可以使一個(gè)或多個(gè)特定波長(zhǎng)或一個(gè)或 多個(gè)波長(zhǎng)范圍的光通過(guò)，而另一些所附著的透鏡可以使一個(gè)或多個(gè) 其它(互補(bǔ)的)波長(zhǎng)或一個(gè)或多個(gè)其它(互補(bǔ)的)波長(zhǎng)范圍的光通過(guò)。例 如每?jī)蓚€(gè)透鏡可以附著有一種類(lèi)型的濾光器上，而剩余的符合另一 種類(lèi)型的濾光器(見(jiàn)圖4a和圖4b)。
通過(guò)在掃描條(scanning bar)上排列一個(gè)或多個(gè)模塊，液體表面在 一次掃描移動(dòng)中可以根據(jù)物體材料是否應(yīng)當(dāng)硬化或支持結(jié)構(gòu)是否應(yīng) 當(dāng)建立而由多個(gè)不同波長(zhǎng)來(lái)照射。明顯地，可以掃描多次，且每次 掃描都可以用不同波長(zhǎng)來(lái)照射。
通過(guò)在一個(gè)或多個(gè)模塊內(nèi)把所有透鏡都附著有 一種濾光器以及 在一個(gè)或多個(gè)其它模塊內(nèi)把所有透鏡都附著有另一種濾光器，并且 以上述兩種類(lèi)型的模塊都掃描相同區(qū)域的方式在一個(gè)或多個(gè)掃描條 上設(shè)置模塊，可以根據(jù)物體材料是否要硬化或支持結(jié)構(gòu)是否要建立 用多個(gè)不同波長(zhǎng)在一次掃描移動(dòng)內(nèi)通過(guò)雙重模塊(產(chǎn)生冗余)來(lái)照射液 體表面。明顯地，可以在液體上掃描多次并且每次掃描都可以用不 同波長(zhǎng)照射。在本發(fā)明的范圍內(nèi)，還可以附著有多于兩個(gè)濾光器， 以獲得例如三個(gè)或更多的不同結(jié)果特性。
還存在可能，即相同的表面可以用兩個(gè)或多個(gè)分開(kāi)的照射步驟 來(lái)照射，其中 一個(gè)或多個(gè)模塊在第 一照射步驟中用 一個(gè)或多個(gè)特定 波長(zhǎng)或一個(gè)或多個(gè)波長(zhǎng)范圍的光來(lái)照射，而相同的一個(gè)或多個(gè)模塊
在另 一照射步驟中用 一個(gè)或多個(gè)其它的(互補(bǔ)的)波長(zhǎng)或一個(gè)或多個(gè)其 它的(互補(bǔ)的)波長(zhǎng)范圍的光來(lái)照射?？梢酝ㄟ^(guò)例如把不同濾光器插入 在光源和液體之間例如光源和一個(gè)或多個(gè)模塊之間(見(jiàn)圖5)的某處來(lái) 用不同波長(zhǎng)或波長(zhǎng)間隔的光進(jìn)行曝光，或通過(guò)在每個(gè)照射步驟都使 用具有不同波長(zhǎng)的不同光源。
在這種情況下，模塊還可以如同上述一樣設(shè)置在掃描條上。 通過(guò)上述的附著和照射，并同時(shí)把一個(gè)或多個(gè)模塊以這種方式 設(shè)置，即液體表面可以不帶掃描移動(dòng)而照射，閃光曝光可以在液體 表面上用多個(gè)不同波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的光同時(shí)進(jìn)行。
通過(guò)把一個(gè)或多個(gè)模塊以這種方式設(shè)置，即通過(guò)把不同濾光器 插入在光源和液體之間某處或通過(guò)每次照射都使用帶有不同波長(zhǎng)的 不同光源，使得液體表面可以不帶掃描移動(dòng)地照射，且可以在兩次 或多次分開(kāi)的曝光中同時(shí)照射表面(如上所述)，閃光曝光也可以在液 體表面上用多個(gè)不同波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍的光同時(shí)進(jìn)行。
通過(guò)，在一種反射性的光調(diào)制模塊上、例如TI公司的DMD芯 片上，對(duì)由不同反射鏡組成的矩陣使用不同附層(其反射不同波長(zhǎng)或 不同波長(zhǎng)范圍的光)來(lái)附著。例如，每?jī)蓚€(gè)反射鏡可以附著一種反射 一個(gè)波長(zhǎng)或一個(gè)波長(zhǎng)范圍的濾光器，而剩下的反射鏡(其它的"每?jī)?束，，)可以附著有另一種反射另一波長(zhǎng)或另一波長(zhǎng)范圍的濾光器。反 射鏡以這種方式放置，即當(dāng)它們傾斜向一個(gè)方向時(shí)，其照射光聚合 物的表面，而當(dāng)它們傾斜向其它的方向時(shí)，其不照射表面。
當(dāng)反射4竟傾斜向一個(gè)方向時(shí)，表面在液體上由此而纟皮一個(gè)或其 它的波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍照射，這根據(jù)物體材料或支持結(jié)構(gòu)材料是否是 聚合的。反射鏡的位置通過(guò)位圖信息控制，該信息在附加過(guò)程的成 層部分中形成圖片。
類(lèi)似于這樣的原理使得在液體表面用多個(gè)不同波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍 同時(shí)進(jìn)行閃光曝光成為可能，而不需要把掃描移動(dòng)作為組成部分。
還可以設(shè)想，相同的液體表面用兩個(gè)或多個(gè)分開(kāi)的照射步驟來(lái) 照射，其中反射鏡在一個(gè)照射步驟內(nèi)用一個(gè)波長(zhǎng)或一個(gè)波長(zhǎng)范圍的 光來(lái)照射，而在其它的一個(gè)或多個(gè)照射步驟中用一個(gè)或多個(gè)其它波 長(zhǎng)或者一個(gè)或多個(gè)其它波長(zhǎng)范圍的光來(lái)照射。曝光的光用不同波長(zhǎng) 或波長(zhǎng)范圍可以例如在把不同濾光器插入到光源和液體之間的時(shí)候 或通過(guò)在每次照射中都使用帶有不同波長(zhǎng)的不同光源。
類(lèi)似于這樣的原理使得在液體表面用多個(gè)不同波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍 同時(shí)進(jìn)行閃光曝光成為可能，而不需要把掃描移動(dòng)作為組成部分。
在上面兩個(gè)以"通過(guò)，在一種反射性的……，，和"還可以……，， 開(kāi)頭的兩個(gè)段落中所提及的兩種可能性，還可以與光調(diào)制模塊的掃 描移動(dòng)結(jié)合，結(jié)合方式為其不僅與本原理適用的閃光曝光有關(guān)，還 與穿過(guò)更大表面的掃描有關(guān)。


本發(fā)明將在下文中參考附圖而做詳細(xì)介紹，其中圖1至圖6顯 示了本發(fā)明的不同實(shí)施例。
具體實(shí)施例方式
圖1顯示了通過(guò)連續(xù)的截面層而建造物體101的RP原理；這里 建立的是杯子。
不同的層100A、 100B、 100C等等由底向上在同一時(shí)間照射。 所照射的區(qū)域硬化而未照射的區(qū)域保持為液體，如此而以最終結(jié)構(gòu) 結(jié)束。
在圖1中引入了支持結(jié)構(gòu)102來(lái)穩(wěn)定結(jié)構(gòu)。有利地，該支持結(jié) 構(gòu)可以在最終產(chǎn)品產(chǎn)生后輕易地移除。
本發(fā)明的目的在于，建立一種使支持結(jié)構(gòu)少量硬化或以不同方 式^_化且因此而在生產(chǎn)之后易于移除的方法。為此，單個(gè)波長(zhǎng)或適 當(dāng)確定的范圍或窄或?qū)挼牟ㄩL(zhǎng)可以用來(lái)照射光敏介質(zhì)2。
獲得不同方式的硬化的 一條途徑是，(例如)如果硬化的光敏介質(zhì) 在不同波長(zhǎng)照射內(nèi)容的條件下具有不同機(jī)械特性，由此(例如)使得支 持結(jié)構(gòu)不牢固且易移除，而原型其它的部分是固體的。
另 一種不同的硬化方式可以是，(例如)硬化光敏介質(zhì)在不同波長(zhǎng) 照射內(nèi)容的條件下具有不同的化學(xué)特性或物理特性，由此(例如)支持 結(jié)構(gòu)由 一個(gè)波長(zhǎng)內(nèi)容所照射的可以通過(guò)例如溶劑比如水或酒精而移 除，而原型剩下的部分不溶于這種溶劑。
通過(guò)引用結(jié)合到本文中的文獻(xiàn)EP1156922包含了如圖2所示的 快速原型開(kāi)發(fā)設(shè)備。
所顯示的快速原型開(kāi)發(fā)(RP)設(shè)備包括固定部分，其最重要的部件 包括設(shè)計(jì)成包含適量液體RP材料2的容器1。
RP材料是可以制成RP原型的材料，諸如環(huán)氧樹(shù)脂、丙烯酸酯 或其它RP材料，或者任何用不同波長(zhǎng)內(nèi)容曝光時(shí)可以進(jìn)行不同固化 的材料。此外，固定部分設(shè)計(jì)有引導(dǎo)件4，其出于多種目的可以位于 固定部分和可動(dòng)的照射器件3之間。照射器件還可以包括相應(yīng)的引 導(dǎo)件(未示出)，用于例如豎直的移動(dòng)。RP設(shè)備還包括其它的計(jì)算機(jī) 控制器件(未示出)，設(shè)計(jì)成響應(yīng)于RP設(shè)備照射系統(tǒng)的合適的計(jì)算機(jī) 輔助設(shè)計(jì)來(lái)控制照射器件3的相對(duì)移動(dòng)。
照射器件3還設(shè)有照射系統(tǒng)，其最重要的部件將在下文介紹。
照射器件3包括光源裝置6,其安裝在支架5上，該支架5包括 已知的所必需的照射器件，還有電源及冷卻器件。在所示示例中， 光源舉例為UV源。光源及其配件和冷卻器件可以是固定的或可動(dòng) 的。
光源裝置6與光學(xué)多模光纖束7光學(xué)地連接。這些光纖束7分 散成八條獨(dú)立的光纖8,其中每條光纖都照射例如588個(gè)微觀結(jié)構(gòu)光 閥的微型光閘裝置。因此， 一致地，八條獨(dú)立光纖照射包括八個(gè)微 型光閘裝置的照射器件9，每個(gè)微型光閘裝置都構(gòu)成了整體微型光閘 裝置的獨(dú)立區(qū)域。
這些光閥本身的構(gòu)建和定向已經(jīng)由本發(fā)明的發(fā)明者在國(guó)際申請(qǐng)
No.PCT/DK98/00154和No.PCT/DK98/00155中介紹，并通過(guò)引用結(jié) 合到本文中。
每個(gè)獨(dú)立區(qū)域都包括一定量的光閥，其可以獨(dú)立地通過(guò)所連接 的控制電路(未示出)電氣式地來(lái)控制。光閥裝置可以是例如帶有給定 所需分辨率的LCD顯示器。然而，微觀結(jié)構(gòu)光閘是優(yōu)選的。
光閥的整個(gè)區(qū)域由一個(gè)單個(gè)光導(dǎo)8照射，其以這樣的方式設(shè)置， 即從光導(dǎo)8發(fā)出的光束可以供給所有以光學(xué)能量占用了獨(dú)立區(qū)域的 光閥。
子區(qū)域中，即供給到空間光調(diào)制器的光束相對(duì)于在調(diào)制器區(qū)域上的 能量來(lái)說(shuō)是均勻的。
照射才莫塊9內(nèi)的微型光閘設(shè)計(jì)成在所示照射裝置內(nèi)引導(dǎo)在25至 30厘米的掃描線上的掃描。
從示例中可以明顯看出，所使用掃描線的長(zhǎng)度，也即所生產(chǎn)RP 原型的其中一個(gè)最大維度，可以形成為所需的形狀，與現(xiàn)有技術(shù)相 反，由于獨(dú)立照射模塊的"本地"照射，可以在照射表面上定向到 任何方向。這可以通過(guò)例如改變所^f吏用的、用于照射光壽丈介質(zhì)的曝 光條。除此之外，還很明顯的是，通過(guò)一個(gè)中央光源和所聯(lián)接的光 學(xué)導(dǎo)向件的照射方法在設(shè)計(jì)上具有極大的優(yōu)點(diǎn)，其經(jīng)濟(jì)地在整個(gè)結(jié) 構(gòu)的品質(zhì)中自然地反映。因此所示的結(jié)構(gòu)非常堅(jiān)固，而且任何有瑕 瘋的或損壞的光調(diào)制器都可以簡(jiǎn)單地更換。
此外，設(shè)備還設(shè)有控制電路(未示出)，其設(shè)計(jì)成在照射系統(tǒng)和材 料2之間提供相對(duì)的Z形定位(豎直的移動(dòng))和定向。
當(dāng)所使用的波長(zhǎng)在一定范圍內(nèi)時(shí)，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，就建立 了硬化。
圖3a和3b舉例說(shuō)明了本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例，其中解釋了對(duì)圖 1中物體101的層100E的照射。
光敏材料可以例如包括環(huán)氧樹(shù)脂，丙烯酸酯或其任意的混合。 例如上述的照射器件3與已經(jīng)介紹的圖2中的器件相比，照射
了層100E，該層意在用一個(gè)波長(zhǎng)內(nèi)容沿一個(gè)方向(如圖3a所示、例 如436nm)形成最終所需原型的一部分。
意在形成支持結(jié)構(gòu)102的一部分的層100E的那部分，用另外的 波長(zhǎng)內(nèi)容沿回程方向來(lái)照射，如圖3b所示。波長(zhǎng)內(nèi)容可以是例如 350nm至楊亂
圖4a和4b舉例說(shuō)明了本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例，其可以在本發(fā)明 的范圍內(nèi)應(yīng)用。
圖4a和圖4b顯示了形式為微觀結(jié)構(gòu)光閘的空間光調(diào)制器 (SLM)，即MEMS器件400。所示的SLM可以例如通過(guò)圖2的光導(dǎo) 8中的一個(gè)來(lái)照射。圖2所示的器件可以因此而包括例如6x8=48個(gè) 上述類(lèi)型的SLM。
所示的SLM有利于在各層的單次掃描移動(dòng)中形成有區(qū)別的照 射，而不是上述的兩次。
所示的MEMS SLM400基本包括底板420,其供給有光通道和 大量電氣啟動(dòng)的光閘。每個(gè)光閘都由微透鏡供給，其中微透鏡設(shè)置 在微透鏡411A、 411B、 412A、 412B等的微透鏡陣列410中。大量 的微透鏡411B、 412B等設(shè)有光學(xué)濾光器。
如圖4b所示，光束401將"無(wú)影響地"(也即，帶有通常的光學(xué) 損失)穿過(guò)透鏡411A,并形成光束402，而相鄰的微透鏡411B會(huì)把 光束403過(guò)濾以形成頻i普-修改的光束404。
顯然，開(kāi)關(guān)獨(dú)立光閘的軟件控制有利于，例如在漸進(jìn)的掃描中， 原型"像素"由例如411A、 412A等照射，而支持結(jié)構(gòu)"像素，，由例 如411B、 412B等照射。
顯然，兩個(gè)或多個(gè)光學(xué)濾光器可以應(yīng)用在上述示例中，以獲得 三個(gè)或多個(gè)不同的結(jié)果特性。
圖5顯示了本發(fā)明的另一個(gè)可選實(shí)施例，其應(yīng)用在圖2的設(shè)備
中，其中上述修改過(guò)的(帶有濾光器)SLM換為通常的SLM諸如 DMD、 LCD或其它可買(mǎi)到的器件。
在該實(shí)施例中，光源裝置6已經(jīng)修改成包括兩種不同的濾光器50 和51裝置(相對(duì)于光源52)，由此提供光源裝置的光學(xué)輸出，其中波 長(zhǎng)內(nèi)容取決于所應(yīng)用的濾光器50、 51。
顯然，上述類(lèi)型的三種或多種光學(xué)濾光器可以應(yīng)用在上述示例 中，以獲得多于兩個(gè)不同的結(jié)果特性。
因此，例如一種濾光器50可以應(yīng)用在沿圖3a的方向掃描時(shí)，而 沿圖3b的其它方向掃描時(shí)，應(yīng)用另一種濾光器。
圖6a和6b顯示了本發(fā)明的范圍內(nèi)的多個(gè)原理的一個(gè)，這是當(dāng)在 如圖1和圖3a至圖3b所示的系統(tǒng)內(nèi)進(jìn)行照射時(shí)。
基本上，該系統(tǒng)包括照射源(LS)，優(yōu)選地UV光源，例如以短弧 隙燈的形式。光源建立了大量的的獨(dú)立控制光束，其具有通過(guò)光導(dǎo) 裝置LGA的第一波長(zhǎng)內(nèi)容IMLB1和照射單元IU。照射單元IU可以 包括例如一個(gè)或多個(gè)空間光調(diào)制器，諸如DMD或透射性的孩t觀結(jié)構(gòu) 光調(diào)制器。
照射單元IU通過(guò)建立所需的控制數(shù)據(jù)的控制單元CU來(lái)控制。
在圖6a中，快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)RPM的層在第一照射步驟內(nèi)沿 一個(gè)方向用具有第一波長(zhǎng)內(nèi)容的調(diào)制光束IMLB1來(lái)照射。介質(zhì)的照 射點(diǎn)在固化期間獲得所需的機(jī)械或化學(xué)特性。
在圖6b中，相同的層在多個(gè)照射步驟中曝光，而同時(shí)介質(zhì)的照 射點(diǎn)MP通過(guò)調(diào)制光束IMLB2而曝光，該調(diào)制光束IMLB2具有對(duì)應(yīng) 于所需的機(jī)械或化學(xué)特性的另 一波長(zhǎng)內(nèi)容。
應(yīng)當(dāng)注意，使用多個(gè)調(diào)制照射光束會(huì)在每個(gè)照射步驟之間導(dǎo)致 非常短的及典型地等時(shí)的延遲，由此相對(duì)于最終獲得物體的特性而 獲得所需的可預(yù)見(jiàn)性。
圖6c顯示了本發(fā)明的備選實(shí)施例，其中整個(gè)層用兩個(gè)或優(yōu)化地
更多的不同波長(zhǎng)內(nèi)容IMLB1和IMLB2來(lái)曝光，在一個(gè)照射步驟內(nèi)， 通過(guò)由例如相應(yīng)于圖2所示的一個(gè)系統(tǒng)3來(lái)掃描。
這種掃描可以簡(jiǎn)化，因?yàn)橄到y(tǒng)可以用兩個(gè)不同波長(zhǎng)內(nèi)容同時(shí)照射。
圖6d顯示了本發(fā)明的另一個(gè)備選實(shí)施例，其中快速原型開(kāi)發(fā)介 質(zhì)的整個(gè)層用兩個(gè)、或任選地更多的不同波長(zhǎng)內(nèi)容IMLB1和IMLB2 來(lái)進(jìn)行閃光曝光，作為整個(gè)截面的 一次數(shù)字調(diào)制閃光曝光。
而且，上述技術(shù)可以包括在一個(gè)照射頭或掃描條內(nèi)(例如圖2所 示)或者例如兩個(gè)或多個(gè)分開(kāi)的移動(dòng)曝光頭內(nèi)使用多個(gè)照射單元。
權(quán)利要求
1、一種對(duì)至少一個(gè)快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)進(jìn)行照射的方法，其中，所述照射通過(guò)把至少兩束至少部分聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)投射到所述快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)上來(lái)完成，且所述快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)用具有至少兩個(gè)不同波長(zhǎng)內(nèi)容(WLC1，WLC2)的光束(IMLB)來(lái)照射。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述照射通過(guò)把 至少五束、優(yōu)選地至少十束、或更優(yōu)選地至少二十束、更優(yōu)選地至 少上百束、以及最優(yōu)選地至少上千束if關(guān)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)投 射到所述快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)上來(lái)完成。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述至少兩 條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束通過(guò)至少一個(gè)空間光調(diào)制器來(lái)調(diào)制。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所 述至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束根據(jù)照射控制信號(hào)(ICS)通過(guò)至少一 個(gè)空間光調(diào)制器來(lái)調(diào)制。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)具有至少兩個(gè)不同的波長(zhǎng)內(nèi)六 谷。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所 述照射在一個(gè)照射步驟內(nèi)完成。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所對(duì)掃描移動(dòng)而在一個(gè)照射步驟內(nèi)完成。
8、根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所光曝光而在一個(gè)照射步驟內(nèi)完成￡
9、 根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所 述至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)在第 一照射步驟(ILS1)內(nèi)具有 第 一波長(zhǎng)內(nèi)容(WLC1),且所述至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB) 在第二照射步驟(WLC2)中具有另 一 個(gè)波長(zhǎng)內(nèi)容(WLC2)。
10、 根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)在不同的調(diào)制點(diǎn)(MP)進(jìn)行照射。
11、 根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述至少一個(gè)空間光調(diào)制器包括液晶顯示器、聚合物分散液晶、鋯 鈦酸鉛鑭、鐵電液晶顯示器或克爾盒。
12、 根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述至少 一個(gè)空間光調(diào)制器包括基于反射的機(jī)電光閥，諸如數(shù)字微 反射鏡器件空間光調(diào)制器。
13、 根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述至少 一個(gè)空間光調(diào)制器包括透射性的機(jī)電光閥。
14、 根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)通過(guò)至少 一個(gè)照射源(LS) 來(lái)提供。
15、 根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述至少兩條聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)通過(guò)至少 一個(gè)照射源(LS) 經(jīng)過(guò)光導(dǎo)裝置來(lái)提供。
16、 根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述使用不同波長(zhǎng)內(nèi)容的照射導(dǎo)致了所述最終物體(101)的取決于所 應(yīng)用波長(zhǎng)內(nèi)容的不同特性。
17、 根據(jù)權(quán)利要求1至16中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述照射是層式建立的。
18、 根據(jù)權(quán)利要求1至17中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述層式照射提供了由所述快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)的固化而產(chǎn)生的物體 (101， 102),所述固化從所述照射中獲得。
19、 根據(jù)權(quán)利要求1至18中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述不同波長(zhǎng)內(nèi)容中的一個(gè)應(yīng)用于照射物體(101),而至少一個(gè)其它 波長(zhǎng)內(nèi)容應(yīng)用于照射至少一個(gè)支持結(jié)構(gòu)(102)。
20、 根據(jù)權(quán)利要求1至19中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述支持結(jié)構(gòu)(102)由于所述至少一個(gè)其它波長(zhǎng)內(nèi)容的照射而是可移 除的或較易移除的。
21、 根據(jù)權(quán)利要求1至20中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述照射源(LS)包括一個(gè)或多個(gè)單色激光、例如短弧隙燈的一個(gè)或多 個(gè)寬帶照射源或其任意結(jié)合。
22、 根據(jù)權(quán)利要求1至21中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述照射源(LS)是紫外光源。
23、 根據(jù)權(quán)利要求1至22中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述照射步驟之間的時(shí)間差別小于500%，優(yōu)選地小于100%，而最 優(yōu)選地小于約10%。
24、 根據(jù)權(quán)利要求1至23中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于， 所述方法包括照射和制造包括了一個(gè)或多個(gè)層的物體。
25、 一種快速原型開(kāi)發(fā)系統(tǒng)包括照射單元(IU)，至少一個(gè)照射源 (LS)，至少一個(gè)控制單元(CU),其中，所述快速原型開(kāi)發(fā)系統(tǒng)促進(jìn)了 根據(jù)權(quán)利要求1至24中任一項(xiàng)所述的快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)的照 射。
26、 一種波長(zhǎng)控制的使用，其用于獲得在多光束快速原型開(kāi)發(fā) 照射系統(tǒng)中照射的物體的不同特性。
27、 一種波長(zhǎng)控制的使用，其用于獲得在根據(jù)權(quán)利要求25所述 的多光束快速原型開(kāi)發(fā)照射系統(tǒng)中照射的物體的不同特性。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種方法和設(shè)備，其用于照射至少一種快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)，其中，所述照射由至少兩束投射到所述快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)(RPM)上的聯(lián)立的獨(dú)立調(diào)制光束(IMLB)來(lái)完成，且所述快速原型開(kāi)發(fā)介質(zhì)由具有至少兩個(gè)不同波長(zhǎng)內(nèi)容(WLC1，WLC2)的光束(IMLB)來(lái)照射。
文檔編號(hào)B29C67/00GK101180174SQ200680017570
公開(kāi)日2008年5月14日 申請(qǐng)日期2006年5月19日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月20日
發(fā)明者H·亨寧森 申請(qǐng)人:亨斯邁先進(jìn)材料(瑞士)有限公司