技術(shù)編號：4428428
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種快速原型開發(fā)設(shè)備和一種原型開發(fā)方法，以及一種用于這種方法和設(shè)備的光敏介質(zhì)(medium)。 背景技術(shù)在機械原型(mechanical prototype)的制造中，尤其在產(chǎn)品設(shè)計階 段，近年來出現(xiàn)了多種快速原型開發(fā)技術(shù)(RP),其中三維物體由連續(xù) 的截面層來制造，而這些截面層通過在每個截面上對材料進行規(guī)定 的照射、燒結(jié)、設(shè)置或布置等來產(chǎn)生。獨立的截面由例如計算機輔 助設(shè)計來產(chǎn)生。RP的優(yōu)點在于，用于設(shè)備設(shè)計的昂貴的模制工具的 制造對于設(shè)備的制...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。