專利名稱：一種涂布設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及本實(shí)用新型涉及液晶面板制造領(lǐng)域，尤其涉及一種涂布設(shè)備。
背景技術(shù)：
硅膠涂布是TFT-IXD (薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管液晶顯示器)模塊工藝中印刷電路焊接后的一道工序。硅膠涂布是為了保護(hù)薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管液晶顯示器的源電極和柵電極導(dǎo)線不被環(huán)境腐蝕和防止帶電的粒子落到所述導(dǎo)線上引起短路而導(dǎo)致產(chǎn)品不良現(xiàn)象的產(chǎn)生。TFT-LCD工廠的產(chǎn)線現(xiàn)行的硅膠涂布狀態(tài)檢測(cè)方法是人工抽檢，硅膠涂布完成后的產(chǎn)品由相關(guān)人員按照一定頻率，肉眼檢查硅膠的涂布狀態(tài)。因此，現(xiàn)有的人工抽檢會(huì)導(dǎo)致漏檢、誤判和工作效率低。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的實(shí)施例提供一種涂布設(shè)備，以解決涂布狀態(tài)人工抽檢的漏檢、誤判和工作效率低的問(wèn)題。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案一種涂布設(shè)備，包括基臺(tái)以及位于所述基臺(tái)上方的涂布裝置，所述涂布設(shè)備還包括涂布檢測(cè)模塊，面向所述基臺(tái)，安裝在所述涂布裝置上；數(shù)據(jù)處理模塊，通過(guò)有線或無(wú)線方式與所述涂布檢測(cè)模塊連接。所述涂布檢測(cè)模塊在涂布的運(yùn)行方向上位于所述涂布裝置的后側(cè)。所述涂布設(shè)備還包括 報(bào)警模塊，通過(guò)有線或無(wú)線方式與所述數(shù)據(jù)處理模塊連接。所述涂布檢測(cè)模塊包括信號(hào)發(fā)射器，位于所述涂布檢測(cè)模塊底端，面向所述基臺(tái)；信號(hào)接收器，位于所述涂布檢測(cè)模塊底端、所述信號(hào)發(fā)射器的一側(cè)，面向所述基臺(tái)，接收所述信號(hào)發(fā)射器發(fā)出的信號(hào)；信號(hào)轉(zhuǎn)換器，一端與所述信號(hào)接收器連接，另一端與所述數(shù)據(jù)處理模塊連接。所述信號(hào)發(fā)射器包括聲波發(fā)射器、光波發(fā)射器中的一種或兩種。所述信號(hào)接收器包括聲波接收器、光波接收器中的一種或兩種。所述數(shù)據(jù)處理模塊包括單片機(jī)、可編程邏輯控制器或個(gè)人計(jì)算機(jī)。所述報(bào)警模塊包括聲報(bào)警器、光報(bào)警器、聲光報(bào)警器中的一種或幾種。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂布設(shè)備，包括基臺(tái)以及位于基臺(tái)上方的涂布裝置，還包括涂布檢測(cè)模塊，面向該基臺(tái)，固定安裝在涂布裝置上，在涂布時(shí)的運(yùn)行方向上位于涂布裝置的后側(cè)；數(shù)據(jù)處理模塊，通過(guò)有線或無(wú)線方式與涂布檢測(cè)模塊連接。這樣一來(lái)，在涂布時(shí)，涂布檢測(cè)模塊就可以跟隨涂布裝置，實(shí)現(xiàn)對(duì)涂布時(shí)的狀態(tài)實(shí)時(shí)檢測(cè)，同時(shí)將檢測(cè)得到的信號(hào)發(fā)送至數(shù)據(jù)處理模塊進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，以及時(shí)發(fā)現(xiàn)涂布狀態(tài)的不良，從而解決了現(xiàn)有的人工抽檢所導(dǎo)致的漏檢、誤判和工作效率低的問(wèn)題，提高了生產(chǎn)效率，保證了產(chǎn)品質(zhì)量。
為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂布設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型另一實(shí)施例提供的涂布設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂布檢測(cè)模塊檢測(cè)涂布狀態(tài)的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的涂布設(shè)備100，如圖1所示，包括基臺(tái)101以及位于基臺(tái)101上方的涂布裝置102。此外，該膠涂布設(shè)備100還包括涂布檢測(cè)模塊103，該涂布檢測(cè)模塊103面向基臺(tái)101，安裝在涂布裝置102上，在涂布時(shí)的運(yùn)行方向(圖中X方向)上位于涂布裝置102的后側(cè)；數(shù)據(jù)處理模塊104，通過(guò)有線或無(wú)線方式與該涂布檢測(cè)模塊103 連接，用于處理涂布檢測(cè)模塊103發(fā)送的檢測(cè)數(shù)據(jù)，以判斷涂布狀態(tài)是否出現(xiàn)了不良。本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂布設(shè)備，包括基臺(tái)以及位于基臺(tái)上方的涂布裝置，還包括涂布檢測(cè)模塊，面向該基臺(tái)，固定安裝在涂布裝置上，在涂布時(shí)的運(yùn)行方向上位于涂布裝置的后側(cè)；和數(shù)據(jù)處理模塊，通過(guò)有線或無(wú)線方式與涂布檢測(cè)模塊連接。這樣一來(lái)，在涂布時(shí)，涂布檢測(cè)模塊就可以跟隨涂布裝置，實(shí)現(xiàn)涂布時(shí)的狀態(tài)實(shí)時(shí)檢測(cè)，同時(shí)將檢測(cè)得到的信號(hào)發(fā)送至數(shù)據(jù)處理模塊進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，以及時(shí)發(fā)現(xiàn)涂布狀態(tài)的不良，從而解決了現(xiàn)有的人工抽檢所導(dǎo)致的漏檢、誤判和工作效率低的問(wèn)題，提高了生產(chǎn)效率，保證了產(chǎn)品質(zhì)量。需要說(shuō)明的是，本實(shí)施例中的涂布設(shè)備100可以進(jìn)行各種膠、膜、溶液等的涂布與檢測(cè)，例如進(jìn)行硅膠的涂布與檢測(cè)等，本實(shí)施例中對(duì)涂布的物質(zhì)的種類不作限定。本實(shí)用新型另一實(shí)施例提供的涂布設(shè)備200，以硅膠涂布設(shè)備為例進(jìn)行說(shuō)明。如圖 2所示，該涂布設(shè)備200包括基臺(tái)13，涂布裝置20、涂布檢測(cè)模塊1，數(shù)據(jù)處理模塊3和報(bào)警模塊4。其中，基臺(tái)13由絞帶14、轉(zhuǎn)動(dòng)軸承15和載物臺(tái)16構(gòu)成。載物臺(tái)16上有多個(gè)表面開(kāi)口的真空吸附孔17，這些吸附孔17與真空泵(圖中未表示)相連。進(jìn)入硅膠涂布工序后，基板(圖中未表示)由機(jī)械手從上一個(gè)工序設(shè)備處搬運(yùn)到載物臺(tái)16上，真空泵開(kāi)始工作，真空吸附孔17產(chǎn)生吸附力，基板被吸附到載物臺(tái)16的表面并保持不動(dòng)，這樣有利于硅膠涂布的精確控制。載有基板的基臺(tái)13通過(guò)導(dǎo)軌18沿X軸方向運(yùn)動(dòng)到涂布裝置20下面時(shí)停止，基臺(tái)13通過(guò)絞帶14可以沿Y軸方向運(yùn)動(dòng)，在伺服電機(jī) (圖中未表示)驅(qū)動(dòng)下實(shí)現(xiàn)載物臺(tái)16上的基板與涂布裝置20的精確對(duì)位。[0032]涂布裝置20有多個(gè)銷孔(圖中未表示)，硅膠噴嘴8可以沿銷孔上下運(yùn)動(dòng)。硅膠涂布時(shí)，硅膠噴嘴8下降，通過(guò)對(duì)位攝像頭19確定硅膠涂布的起始位置。硅膠在壓力泵的作用下通過(guò)硅膠輸送管21輸送到涂布裝置20中，通過(guò)硅膠噴嘴8涂布到基板的相應(yīng)位置。此時(shí)，由于涂布檢測(cè)模塊1面向基臺(tái)13，固定在涂布裝置20上，在涂布裝置20涂布運(yùn)行方向即圖2中坐標(biāo)X的方向上位于涂布裝置20的后方，隨涂布裝置20 —起運(yùn)動(dòng)?；迳系墓枘z所涂區(qū)域均是先由涂布裝置20經(jīng)過(guò)，再由涂布檢測(cè)模塊1經(jīng)過(guò)。涂布檢測(cè)模塊1可以包括信號(hào)發(fā)射器11、信號(hào)接收器12和信號(hào)轉(zhuǎn)換器(圖中未表示)。其中，信號(hào)發(fā)射器11，位于涂布檢測(cè)模塊1的底端，面向基臺(tái)13 ；信號(hào)接收器12 ；位于涂布檢測(cè)模塊1的底端，且位于信號(hào)發(fā)射器11的一側(cè)，面向基臺(tái)13，能夠接收信號(hào)發(fā)射器 11發(fā)出的信號(hào)；信號(hào)轉(zhuǎn)換器，其一端與信號(hào)接收器12連接，另一端與數(shù)據(jù)處理模塊連接3。另外，信號(hào)發(fā)射器11可以包括聲波發(fā)射器、光波發(fā)射器中的一種或兩種。信號(hào)接收器12可以對(duì)應(yīng)信號(hào)發(fā)射器11包括聲波接收器、光波接收器中的一種或兩種。數(shù)據(jù)處理模塊3可以包括單片機(jī)、可編程邏輯控制器(Programmable Logic Controller,PLC)或個(gè)人計(jì)算機(jī)(Personal Computer, PC)等。報(bào)警模塊4可以包括聲報(bào)警器、光報(bào)警器、聲光報(bào)警器中的一種或幾種。在實(shí)際檢測(cè)過(guò)程中，如圖3所示，在涂布裝置向基板5涂布硅膠9后，涂布檢測(cè)模塊的信號(hào)發(fā)射器11向基板5上的硅膠9表面發(fā)射聲波信號(hào)和/或光波信號(hào)，該聲波信號(hào)和 /或光波信號(hào)經(jīng)硅膠9表面反射后被涂布檢測(cè)模塊的信號(hào)接收器12接收。信號(hào)接收器12 將接收到的聲波信號(hào)和/或光波信號(hào)發(fā)送給信號(hào)轉(zhuǎn)換器，信號(hào)轉(zhuǎn)換器將該聲信號(hào)和/或光信號(hào)轉(zhuǎn)化為電信號(hào)后傳輸給數(shù)據(jù)處理模塊3。正常硅膠涂布狀態(tài)，如圖3中的位置110，與正常涂布的硅膠9高度一致，信號(hào)接收器12接收到信號(hào)發(fā)射器11發(fā)射的經(jīng)硅膠9表面反射的信號(hào)的時(shí)間差一定，可以將該時(shí)間差值或者該時(shí)間差值在一定范圍內(nèi)的變化值作為標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間差值并保存。那么，若例如位置111處的硅膠涂布發(fā)生不良，則位置111處的硅膠高度低于正常高度，則信號(hào)接收器12接收到信號(hào)發(fā)射器11發(fā)射的經(jīng)硅膠9表面反射的信號(hào)的時(shí)間差值就會(huì)大于標(biāo)準(zhǔn)時(shí)間差值，數(shù)據(jù)處理模塊3會(huì)據(jù)此確定出位置111處的硅膠涂布發(fā)生不良。若數(shù)據(jù)處理模塊3將該信息發(fā)送至報(bào)警模塊，則報(bào)警模塊會(huì)發(fā)出聲、光、電等多種方式的報(bào)警，以提醒工作人員盡快進(jìn)行處理，從而解決了現(xiàn)有的人工抽檢所導(dǎo)致的漏檢、誤判和工作效率低的問(wèn)題，提高了生產(chǎn)效率，保證了產(chǎn)品質(zhì)量。同樣，在本實(shí)施例中是以硅膠涂布為例進(jìn)行的說(shuō)明，但本實(shí)施例并不限于使用硅膠，其他種類物質(zhì)的涂布也適用與本實(shí)施例。以上所述，僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求1.一種涂布設(shè)備，包括基臺(tái)以及位于所述基臺(tái)上方的涂布裝置，其特征在于，所述涂布設(shè)備還包括涂布檢測(cè)模塊，面向所述基臺(tái)，安裝在所述涂布裝置上；數(shù)據(jù)處理模塊，通過(guò)有線或無(wú)線方式與所述涂布檢測(cè)模塊連接。
2.如權(quán)利要求1所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述涂布檢測(cè)模塊在涂布的運(yùn)行方向上位于所述涂布裝置的后側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述涂布設(shè)備還包括報(bào)警模塊，通過(guò)有線或無(wú)線方式與所述數(shù)據(jù)處理模塊連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述涂布檢測(cè)模塊包括信號(hào)發(fā)射器，位于所述涂布檢測(cè)模塊底端，面向所述基臺(tái)；信號(hào)接收器，位于所述涂布檢測(cè)模塊底端、所述信號(hào)發(fā)射器的一側(cè)，面向所述基臺(tái)，接收所述信號(hào)發(fā)射器發(fā)出的信號(hào)；信號(hào)轉(zhuǎn)換器，一端與所述信號(hào)接收器連接，另一端與所述數(shù)據(jù)處理模塊連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述信號(hào)發(fā)射器包括聲波發(fā)射器、 光波發(fā)射器中的一種或兩種。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述信號(hào)接收器包括聲波接收器、 光波接收器中的一種或兩種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理模塊包括單片機(jī)、可編程邏輯控制器或個(gè)人計(jì)算機(jī)。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布設(shè)備，其特征在于，所述報(bào)警模塊包括聲報(bào)警器、光報(bào)警器、聲光報(bào)警器中的一種或幾種。
專利摘要本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種涂布設(shè)備，涉及液晶面板制造領(lǐng)域，以解決涂布狀態(tài)人工抽檢的漏檢、誤判和工作效率低的問(wèn)題。該涂布設(shè)備，包括基臺(tái)以及位于所述基臺(tái)上方的涂布裝置，所述涂布設(shè)備還包括涂布檢測(cè)模塊，面向所述基臺(tái)，固定安裝在所述涂布裝置上，在涂布時(shí)的運(yùn)行方向上位于所述涂布裝置的后側(cè)；數(shù)據(jù)處理模塊，通過(guò)有線或無(wú)線方式與所述涂布檢測(cè)模塊連接。本實(shí)用新型實(shí)施例用于涂布。
文檔編號(hào)B05C5/00GK202270615SQ201120370999
公開(kāi)日2012年6月13日 申請(qǐng)日期2011年9月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月30日
發(fā)明者戰(zhàn)戈, 郝國(guó)亮 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司