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大角度全方位噴釉裝置的制造方法

文檔序號:9341640閱讀:259來源:國知局
大角度全方位噴釉裝置的制造方法
【技術領域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及日用陶瓷自動生產設備。
【背景技術】
[0002]在以往的日用陶瓷生產中,各陶瓷廠家因原材料性能的差異或是各種產品外形的限制原因,施釉工序只能采用手工浸釉的工藝方法進行施釉,手工浸釉生產效率低,同時由于在施釉過程中手指接觸坯體,使坯體在施釉后留下手指印,影響坯體的施釉質量。另外,由于釉水中加有多種化工材料,這些化工材料對人體有腐蝕作用,長期手工浸釉對人體有危害。
[0003]為了提高生產效率,提高產品質量,改善工人生產環(huán)境,降低成本等,技術人員在日用陶瓷的生產技術及生產設備上進行著不斷的改進。在已有的陶瓷生產技術中,針對陶瓷上釉工序的技術文獻有:
1、專利文獻【公開號:CN202373397U】公開了一種“盤形懸式瓷絕緣子瓷泥坯件頭部上釉裝置”,該裝置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋轉工位平臺、為瓷泥坯件的外周表面布釉的頭部外周表面浸釉裝置、為瓷泥坯件的內表面布釉的頭部內孔注釉裝置,以及電氣控制柜。該裝置通過將瓷泥坯件“ η ”形頭部的倒置安放在旋轉平臺工位上并借助電氣控制旋轉360°進程中經二次延時停頓過程以實現了按步驟連續(xù)完成瓷泥坯件頭部外周表面的上釉工序。該裝置自動化程度高,但結構復雜,成本高,并且只能實現對坯件某一局部的上釉而已。
[0004]2、專利文獻【公開號:CN1090834】公開了一種“陶瓷制品的局部表面上釉”,該實用新型是通過將熔化輻射能施加到所述上釉位置周圍的制品表面上的熔融區(qū)域從而延緩所述熔融區(qū)域的冷卻以把接近所述熔融區(qū)域的所述制品中產生的熱應力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的斷裂應力來實現局部表面上釉。該實用新型主要用于修補釉彩缺陷及用作裝飾,這種方式的上釉能量消耗巨大,不適用大批量生產制造過程。
[0005]3、專利文獻【公開號:CN202246453U】公開了 “一種上釉裝置”,該裝置主要由加釉罐、穩(wěn)壓罐、打釉栗三個部分組成。先將釉料添加至加釉罐,通過打釉栗將釉料送入穩(wěn)壓罐中,再通過出料閥將釉料涂施在膠輥表面以實現上釉過程。該裝置可實現較均勻的上釉過程,這種工藝過程過于繁瑣,生產效率低,其上釉層厚度也受膠輥磨損純度而變化,導致其上釉質量不穩(wěn)定。
[0006]4、專利文獻【公開號:CN202422887U】公開了一種“線路柱式絕緣子上釉裝置”,該裝置包括支撐架、電機和固定坯體的卡盤,電機固定在支撐架上;電機、卡盤和胚體同軸轉動。該裝置可用于電瓷絕緣子生產過程的上釉工序,其卡盤式固定方式增加了胚體與上釉裝置的接觸面積,使得一次上釉的面積減少,影響生產效率。
[0007]5、專利文獻【公開號:CN1223926】公開了一種“特別用于瓷磚的旋轉上釉機”,該裝置具有兩個并排靠近設置的滾筒,釉料可推積在其上,第一滾筒的磚片的上表面上作不受阻滯的接觸滾動,從而將釉料轉移到磚片上,而第二滾筒的旋轉方向與第一滾筒相反。該裝置適用于瓷磚的上釉工序,但其對釉水的流變學動力參數要求非常嚴格,若釉水改變或釉水成分不夠均勻即容易造成上釉層的厚度不一致,直接影響成品率。
[0008]6、專利文獻【公開號為CN203187583U】名稱為“日用陶瓷自動上釉裝置”的實用裝置專利中,儲釉筒壁上設有吸釉孔,以便儲釉筒內吸入釉水作為碗底上釉用,在生產過程發(fā)現,吸盤機構吸住碗坯往釉池擺動上釉過程中,碗底部接觸釉水的時間比碗表面接觸釉水的時間相對長一些,對于一些吸水性很強的坯體用這種方法上釉,碗底部的釉層厚度明顯比碗表面的厚度大,坯體上釉不合格。
[0009]綜上所述,現有的現有上釉裝置主要存在效率不高、上釉質量差、結構復雜、工人勞動強度過大、自動化程度不足等缺陷。

【發(fā)明內容】

[0010]本發(fā)明提供一種大角度全方位噴釉裝置,能夠快速、可靠、安全的完成碗坯上釉過程,最大限度縮短日用陶瓷生產時間,同時克服現有的淋釉設備操作員工數量多、上釉過程存在死角的缺陷。
[0011]—種大角度全方位噴釉裝置,傳送帶一和傳送帶二分別安裝在傳送支架一和傳送支架二上,傳送帶一和傳送帶二的上方為吸盤一和吸盤二,所述傳送支架一和傳送支架二之間為底座,所述底座的四個角點上安裝側轉機構,與所述側轉機構相連的懸浮板,懸浮板長度方向上對稱安裝導軌,與導軌相連的為碗坯翻轉機構,所述懸浮板的兩端安裝了絲桿安裝板連接絲桿,所述絲桿的一側則連接移動電機。所述側轉機構包括撐桿、氣缸、活塞桿和傾翻桿,所述氣缸一底座鉸接,活塞桿一端可以在氣缸內部移動,另一端鉸接傾翻桿,撐桿分別與氣缸缸體和傾翻桿上加工的鉸接點連接。所述碗坯翻轉機構包括旋轉氣缸、旋轉氣缸活塞桿、移動支架、滑塊和中空旋轉座,所述滑塊沿導軌滑動,滑塊上側固定移動支架,所述移動支架的兩側安裝旋轉氣缸,旋轉氣缸活塞桿一端可以在在所述旋轉氣缸內移動,另一端與中空旋轉座連接。
[0012]所述移動支架的形狀為槽型,在槽的一側加工有凸臺,凸臺上加工有與絲桿連接的螺紋孔。
[0013]本發(fā)明的顯著效果在于:
1、帶式傳遞,移動電機驅動絲桿旋轉精確定位,結構簡單、緊湊,自動化程度高、使用成本有效降低,由于零部件多為標準件,通用性好。
[0014]2、本裝置利用噴釉的方式促進釉水大范圍的分布在空氣中,以增加釉水附著在碗坯上的幾率,同時側轉機構和碗坯翻轉機構的協(xié)調動作將碗坯大角度的變換位置,碗坯的下方、內側均可迎向噴頭,從而可以實現碗坯均勻、無死角上釉,上釉效果好。
[0015]3、整個上釉過程為全自動化,不需要人員參與,生產效率高。
【附圖說明】
[0016]圖1是本發(fā)明的結構不意圖。其中:1-傳送帶一 ;2_碗還;3-吸盤一 ;4_絲桿安裝板;5_噴頭;6_移動電機;7_吸盤二 ;8_傳送帶二 ;9_傳送支架二 ;10_導軌;11_絲桿;12-懸浮板;13_底座;14-傳送支架一 ;15_撐桿;16_氣缸;17-活塞桿;18-傾翻桿;19_旋轉氣缸;20-旋轉氣缸活塞桿;21_移動支架;22_滑塊;23_吸管;24_中空旋轉座。
[0017]圖2是本發(fā)明的裝置的俯視圖。其中A 工位施釉及流向工位。
[0018]圖3為局部B處側轉機構局部放大示意圖。
[0019]圖4為局部C處碗坯翻轉機構放大示意圖。
【具體實施方式】
[0020]下面結合附圖對本發(fā)明做進一步描述。
[0021]對照圖1一4,裝置工作開始之前需要完成一些準備工作,各個活塞桿17收回與各自對應的氣缸16當中,從而使懸浮板12保持水平,移動電機6啟動通過絲桿11驅動固連于滑塊22上的移動支架21向右方移動,隨后工作人員將待施釉的碗坯2放置在傳送帶二 8上,傳送帶二 8動作將碗坯2向傳送帶二 8的左則移動,碗坯2到達左側時吸盤二 7將碗坯2搬運至中空旋轉座24上,吸管23固定住碗坯2,移動電機6再一次動作通過絲桿11驅動移動支架21向左方移動至噴頭5的正下方,噴頭5噴出釉水對碗坯2施釉,待施釉完成后移動電機6驅動移動支架21向傳送帶一 I的右方移動,隨后吸盤一 3動作將碗坯2運至傳送帶一 I上運走,至此本裝置完成一個碗坯2的施釉工作,隨后移動電機6通過絲桿11使移動支架21再一次運動到傳送帶二 8的左側開始第二個碗坯2的施釉作業(yè)。
【主權項】
1.一種大角度全方位噴釉裝置,其特征在于:傳送帶一(I)和傳送帶二(8)分別安裝在傳送支架一(14 )和傳送支架二( 9 )上,傳送帶一(I)和傳送帶二( 8 )的上方為吸盤一(3 )和吸盤二(7),所述傳送支架一(14)和傳送支架二(9)之間為底座(13),所述底座(13)的四個角點上安裝側轉機構,與所述側轉機構相連的懸浮板(12),懸浮板(12)長度方向上對稱安裝導軌(10),與導軌(10)相連的為碗還翻轉機構,所述懸浮板(12)的兩端安裝了絲桿安裝板(4)連接絲桿(11),所述絲桿(11)的一側則連接移動電機(6);所述側轉機構包括撐桿(15)、氣缸(16)、活塞桿(17)和傾翻桿(18),所述氣缸(16)與底座(13)鉸接,活塞桿(17)一端可以在氣缸(16)內部移動,另一端鉸接傾翻桿(18),撐桿(15)分別與氣缸(16)缸體和傾翻桿(18)上加工的鉸接點連接;所述碗坯翻轉機構包括旋轉氣缸(19)、旋轉氣缸活塞桿(20),移動支架(21)、滑塊(22)和中空旋轉座(24),所述滑塊(22)沿導軌(10)滑動,滑塊(22)上側固定移動支架(21 ),所述移動支架(21)的兩側安裝旋轉氣缸(19),旋轉氣缸活塞桿(20) —端可以在在所述旋轉氣缸(19)內移動,另一端與中空旋轉座(24)連接。2.根據權利要求1所述的大角度全方位噴釉裝置,其特征在于:所述移動支架(21)的形狀為槽型,在槽的一側加工有凸臺,凸臺上加工有與絲桿(11)連接的螺紋孔。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種大角度全方位噴釉裝置,傳送帶二將碗坯傳送至洗盤二的下方,吸盤二將碗坯搬運至中空旋轉座上,吸管吸附碗坯固定其位置,噴頭對碗坯施釉,此時側轉機構動作使懸浮板大角度偏轉,將碗坯前后側暴露早噴頭正下方,碗坯翻轉機構適時動作將碗坯上下面翻轉,噴釉完成后移動電機將碗坯運送至懸浮板的左側,隨后吸盤一將碗坯運至傳送帶一上,完成一個施釉周期,可用于日用陶瓷生產過程中自動上釉工藝步驟,克服傳統(tǒng)上釉裝置存在的效率不高、上釉質量差、自動化程度不高的缺陷。
【IPC分類】C04B41/86
【公開號】CN105060937
【申請?zhí)枴緾N201510506363
【發(fā)明人】梁康寧, 李振輝, 陳衛(wèi)東, 黃秋, 黃昌甲
【申請人】廣西北流市智誠陶瓷自動化科技有限公司
【公開日】2015年11月18日
【申請日】2015年8月18日
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