專利名稱：沸騰氯化法生產(chǎn)四氯化鋯的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及生產(chǎn)四氯化鋯的方法和專用設(shè)備。
現(xiàn)有的生產(chǎn)四氯化鋯的方法是將鋯英砂加碳，用電加熱，生產(chǎn)出碳化鋯和氧化硅；再將碳化鋯加氯生產(chǎn)四氯化鋯。缺點(diǎn)是工藝流程長，耗電量大，單爐產(chǎn)能低，氧化硅污染環(huán)境。
本發(fā)明的目的是研究一種工藝流程短，耗電少，單爐產(chǎn)能高，氧化硅能回收利用，減少環(huán)境污染的四氯化鋯生產(chǎn)方法，并設(shè)計出該生產(chǎn)方法的專用設(shè)備。
實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的工藝方法是將鋯英砂破碎到325目以上，石油焦破碎到150目左右，兩者按100∶26的比例混合均勻后加入到沸騰氯化爐內(nèi)，經(jīng)中頻感應(yīng)加熱到1000-1100℃，通入氯氣，得到四氯化鋯和四氯化硅，反應(yīng)式為。
為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的設(shè)計的專用設(shè)備沸騰氯化爐，其結(jié)構(gòu)主要包括爐底2(即氯氣室)，它與通氯管1連接，爐底上方是反應(yīng)室13，反應(yīng)室下部最外層是感應(yīng)圈7，感應(yīng)圈的里側(cè)是保護(hù)罩8，可防止氯氣外漏，保護(hù)罩的里側(cè)是保溫層9，再往里是爐內(nèi)襯11，感應(yīng)圈通過爐內(nèi)襯發(fā)熱，達(dá)到反應(yīng)溫度；爐的中部有加料口3及測溫管10，爐中部外圍有水冷套4，爐的上部有過渡段5和擴(kuò)大段6，爐的頂部有爐氣出口12，所有反應(yīng)氣體都從這里排出。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是生產(chǎn)四氯化鋯工藝流程短，耗電少，單爐產(chǎn)能高，鋯回收率高，氧化硅能回收利用，從而減少環(huán)境污染。
附圖
是沸騰氯化爐的局部剖示意圖，圖中1.通氯管；2.爐底；3.加料管；4.水冷套；5.過渡段；6.擴(kuò)大段；7.感應(yīng)圈；8.保護(hù)罩；9.保溫層；10.測溫管；11.爐內(nèi)襯；12.爐氣出口；13.反應(yīng)室。
實(shí)施例一 工藝方法將鋯英砂破碎過325目篩，石油焦破碎到150目左右，兩者按100∶26比例混合均勻，加入到沸騰氯化爐內(nèi)，經(jīng)中頻感應(yīng)加熱到1000℃或1050℃或1100℃(經(jīng)試驗(yàn)，這三種溫度均可)，通入氯氣，此時爐內(nèi)反應(yīng)生成四氯化鋯和四氯化硅。
實(shí)施例二 沸騰氯化爐的制作首先制作氯氣室，即爐底2，它與通氯管1連接，爐底上方是反應(yīng)室13，反應(yīng)室下部最外層是感應(yīng)圈7，感應(yīng)圈的里側(cè)是保護(hù)罩8，保護(hù)罩的里側(cè)是保溫層9，再往里是爐內(nèi)襯11，爐的中部有加料口3及測溫管10，爐中部外圍有水冷套4，爐的上部有過渡段5和擴(kuò)大段6，爐的頂部設(shè)爐氣出口12。
權(quán)利要求
1.沸騰氯化法生產(chǎn)四氯化鋯，將鋯英砂破碎到325目以上，石油焦破碎到150目左右，其特征在于將兩者按100∶26的比例混合均勻后加入到沸騰氯化爐內(nèi)，經(jīng)中頻感應(yīng)加熱到1000-1100℃，通入氯氣；反應(yīng)式為。
2.沸騰氯化爐，其特征在于爐底[2]與通氯管[1]連接，爐底上方是反應(yīng)室[13]，反應(yīng)室下部最外層是感應(yīng)圈[7]，感應(yīng)圈的里側(cè)是保護(hù)罩[8]，保護(hù)罩的里側(cè)是保溫層[9]，再往里是爐內(nèi)襯[11]，爐的中部有加料口[3]及測溫管[10]，爐中部外圍有水冷套[4]，爐的上部有過渡段[5]和擴(kuò)大段[6]，爐頂部有爐氣出口[12]。
全文摘要
沸騰氯化法生產(chǎn)四氯化鋯涉及生產(chǎn)四氯化鋯的方法和專用設(shè)備,主要是為解決現(xiàn)有生產(chǎn)工藝流程長,耗電多,環(huán)境污染重等問題而研究的。本發(fā)明是將鋯英砂和石油焦破碎后按一定比例混合,在沸騰氯化爐中加熱加氯進(jìn)行反應(yīng);沸騰氯化爐包括爐底、反應(yīng)室、感應(yīng)圈、爐內(nèi)襯、保護(hù)罩、保溫層及加料管、測溫管,還有水冷套、過渡段、擴(kuò)大段、爐氣出口等。優(yōu)點(diǎn)是工藝流程短,耗電少,單爐產(chǎn)能高,氧化硅能回收利用,減少環(huán)境污染。
文檔編號C01G25/04GK1245145SQ99113209
公開日2000年2月23日 申請日期1999年8月30日 優(yōu)先權(quán)日1999年8月30日
發(fā)明者王德英, 張偉, 石政君, 趙福岐 申請人:王德英, 張偉, 石政君, 趙福岐