一種改進的材料化學拋光設備的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種改進的材料化學拋光設備，包括頂架、左側架、右側架和工作平臺，所述左側架和右側架之間設有橫跨設有工作平臺，左側架和右側架的頂部橫跨設有頂架，左側架的右側和右側架的左側于防塵罩內還分別設有多個吸塵頭，吸塵頭上設有吸塵支管，吸塵支管的另一端與吸塵總管導通連接，吸塵總管上還設有吸塵風機，吸塵總管的另一端連接有收集袋，頂架的左右兩側還分別設有與吸塵風機對應連接的粉塵探測器，左側架和右側架的底端均設有支撐腳。本實用新型在現(xiàn)有技術的基礎上可有效除塵和減震降噪，可自動控制，功耗低，保護了周圍環(huán)境不被污染。
【專利說明】
一種改進的材料化學拋光設備
技術領域
[0001]本實用新型涉及材料化學技術領域，具體是一種改進的材料化學拋光設備。
【背景技術】
[0002]材料化學是一門新興的交叉學科，屬于現(xiàn)代材料科學、化學和化工領域的重要分支，是發(fā)展眾多高科技領域的基礎和先導。在新材料的發(fā)現(xiàn)和合成，納米材料制備和修飾工藝的發(fā)展以及表征方法的革新等領域，材料化學作出了獨到貢獻。材料化學在原子和分子水準上設計新材料的戰(zhàn)略意義有著廣闊應用前景?，F(xiàn)有的材料化學機械拋光設備在拋光時難以精確控制拋光終點，故難以避免過拋的出現(xiàn)，同樣要精確控制拋光終點避免過拋就要降低拋光速率，這顯而易見降低了拋光的效率，浪費時間，同時現(xiàn)有的裝置工作穩(wěn)定性差，對環(huán)境的噪音污染和粉塵污染嚴重，與當今時代節(jié)能環(huán)保的主題相違背。

【發(fā)明內容】

[0003]本實用新型的目的在于提供一種改進的材料化學拋光設備，以解決上述【背景技術】中提出的問題。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術方案:
[0005]—種改進的材料化學拋光設備，包括頂架、左側架、右側架和工作平臺，所述左側架和右側架之間設有橫跨設有工作平臺，左側架和右側架的頂部橫跨設有頂架，所述工作平臺上從左至右依次安裝有粗拋調節(jié)臺、精拋調節(jié)臺和研磨臺，所述粗拋調節(jié)臺的上方于頂架上安裝有粗拋電機，粗拋電機的輸出軸上安裝有粗拋磨盤，所述精拋調節(jié)臺的上方于頂架上安裝有精拋電機，精拋電機的輸出軸上安裝有精拋磨盤，所述粗拋電機和精拋電機的右側于頂架上還分別安裝有粗拋液存儲盒和精拋液存儲盒，所述頂架、工作平臺、左側架和右側架所構成空間的外側還設有防塵罩，所述左側架的右側和右側架的左側于防塵罩內還分別設有多個吸塵頭，吸塵頭上設有吸塵支管，吸塵支管的另一端與吸塵總管導通連接，所述吸塵總管上還設有吸塵風機，吸塵總管的另一端連接有收集袋，所述頂架的左右兩側還分別設有與吸塵風機對應連接的粉塵探測器，所述左側架和右側架的底端均設有支撐腳，支撐腳的底部配合設有底板，底板的底部還設有一層減震層。
[0006]作為本實用新型進一步的方案:所述吸塵風機和收集袋均位于工作平臺的下側。
[0007]作為本實用新型進一步的方案:所述支撐腳為錐形結構。
[0008]作為本實用新型進一步的方案:所述減震層為彈性橡膠減震層，減震層通過粘膠粘接在底板下端面。
[0009]與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的有益效果是:該裝置通過支撐腳可進行穩(wěn)定支撐，且通過底板和減震層配合達到減震降噪的目的，通過將粗拋、精拋和研磨機構設為一體，提高了加工效率，節(jié)約成本，通過設置防塵罩，可減少對周圍環(huán)境的粉塵和噪音污染，且通過粉塵探測器可對防塵罩內進行粉塵檢測，以對應控制吸塵風機工作，通過吸塵頭處產(chǎn)生負壓，將粉塵抽吸到收集袋內儲存，通過設置兩個粉塵探測器和兩個吸塵風機，可進行差分除塵控制，節(jié)約能耗。綜上所述，該裝置在現(xiàn)有技術的基礎上可有效除塵和減震降噪，可自動控制，功耗低，保護了周圍環(huán)境不被污染。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0011 ]圖中:1-粉塵探測器，2-粗拋電機，3-粗拋液存儲盒，4-精拋電機，5-精拋液存儲盒，6-防塵罩，7-頂架，8-右側架，9-研磨臺，10-支撐腳，11-底板，12-減震層，13-工作平臺，14-精拋調節(jié)臺，15-精拋磨盤，16-收集袋，17-吸塵風機，18-左側架，19-吸塵總管，20-粗拋調節(jié)臺，21-粗拋磨盤，22-吸塵頭，23-吸塵支管。
【具體實施方式】
[0012]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0013]請參閱圖1，本實用新型實施例中，一種改進的材料化學拋光設備，包括頂架7、左側架18、右側架8和工作平臺13，所述左側架18和右側架8之間設有橫跨設有工作平臺13，左側架18和右側架8的頂部橫跨設有頂架7，所述工作平臺13上從左至右依次安裝有粗拋調節(jié)臺20、精拋調節(jié)臺14和研磨臺9，所述粗拋調節(jié)臺20的上方于頂架7上安裝有粗拋電機2，粗拋電機2的輸出軸上安裝有粗拋磨盤21，所述精拋調節(jié)臺14的上方于頂架7上安裝有精拋電機4，精拋電機4的輸出軸上安裝有精拋磨盤15，所述粗拋電機2和精拋電機4的右側于頂架7上還分別安裝有粗拋液存儲盒3和精拋液存儲盒5。
[0014]所述防塵罩6、工作平臺13、左側架18和右側架8所構成空間的外側還設有防塵罩6，所述左側架18的右側和右側架8的左側于防塵罩6內還分別設有多個吸塵頭22，吸塵頭22上設有吸塵支管23，吸塵支管23的另一端與吸塵總管19導通連接，所述吸塵總管19上還設有吸塵風機17，吸塵總管19的另一端連接有收集袋16，所述吸塵風機17和收集袋16均位于工作平臺13的下側，控制吸塵風機17動作，可使得吸塵頭22產(chǎn)生負壓，進行粉塵抽吸，并通過收集袋16進行粉塵儲存，所述頂架7的左右兩側還分別設有與吸塵風機17對應連接的粉塵探測器I，通過粉塵探測器I可進行粉塵檢測，以自動控制吸塵風機17工作。
[0015]所述左側架18和右側架8的底端均設有支撐腳10，支撐腳10為錐形結構，支撐腳10的底部配合設有底板11，底板11的底部還設有一層減震層12，所述減震層12為彈性橡膠減震層，減震層12通過粘膠粘接在底板11下端面。
[0016]本實用新型的工作原理是:該裝置通過支撐腳10可進行穩(wěn)定支撐，且通過底板11和減震層12配合達到減震降噪的目的，通過將粗拋、精拋和研磨機構設為一體，提高了加工效率，節(jié)約成本，通過設置防塵罩6，可減少對周圍環(huán)境的粉塵和噪音污染，且通過粉塵探測器I可對防塵罩6內進行粉塵檢測，以對應控制吸塵風機17工作，通過吸塵頭22處產(chǎn)生負壓，將粉塵抽吸到收集袋16內儲存，通過設置兩個粉塵探測器I和兩個吸塵風機17，可進行差分除塵控制，節(jié)約能耗。
[0017]對于本領域技術人員而言，顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細節(jié)，而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實現(xiàn)本實用新型。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實用新型的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本實用新型內。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。
[0018]此外，應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領域技術人員應當將說明書作為一個整體，各實施例中的技術方案也可以經(jīng)適當組合，形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。
【主權項】
1.一種改進的材料化學拋光設備，包括頂架、左側架、右側架和工作平臺，其特征在于，所述左側架和右側架之間設有橫跨設有工作平臺，左側架和右側架的頂部橫跨設有頂架，所述工作平臺上從左至右依次安裝有粗拋調節(jié)臺、精拋調節(jié)臺和研磨臺，所述粗拋調節(jié)臺的上方于頂架上安裝有粗拋電機，粗拋電機的輸出軸上安裝有粗拋磨盤，所述精拋調節(jié)臺的上方于頂架上安裝有精拋電機，精拋電機的輸出軸上安裝有精拋磨盤，所述粗拋電機和精拋電機的右側于頂架上還分別安裝有粗拋液存儲盒和精拋液存儲盒，所述頂架、工作平臺、左側架和右側架所構成空間的外側還設有防塵罩，所述左側架的右側和右側架的左側于防塵罩內還分別設有多個吸塵頭，吸塵頭上設有吸塵支管，吸塵支管的另一端與吸塵總管導通連接，所述吸塵總管上還設有吸塵風機，吸塵總管的另一端連接有收集袋，所述頂架的左右兩側還分別設有與吸塵風機對應連接的粉塵探測器，所述左側架和右側架的底端均設有支撐腳，支撐腳的底部配合設有底板，底板的底部還設有一層減震層。2.根據(jù)權利要求1所述的改進的材料化學拋光設備，其特征在于，所述吸塵風機和收集袋均位于工作平臺的下側。3.根據(jù)權利要求1所述的改進的材料化學拋光設備，其特征在于，所述支撐腳為錐形結構。4.根據(jù)權利要求1所述的改進的材料化學拋光設備，其特征在于，所述減震層為彈性橡膠減震層，減震層通過粘膠粘接在底板下端面。
【文檔編號】B24B55/00GK205630242SQ201620404876
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年5月8日
【發(fā)明人】張艷, 李東穎
【申請人】哈爾濱理工大學