一種新型真空鍍膜靶材永磁結構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及真空鍍膜靶材結構，尤其涉及一種新型真空鍍膜靶材永磁結構。
【背景技術】
[0002]現(xiàn)有的真空鍍膜靶材結構在工作過程中，帶正電荷的靶頭運動到低點時，與帶負電荷的碳靶作用產(chǎn)生電弧，電弧擊打在碳靶表面從而產(chǎn)生碳素離子，從而進行工作，但是因為電弧在碳靶表面的擊打位置總是隨機性的，造成碳靶表面損耗不均勻，利用率低，同時為了防止電弧竄到外圍，對外圍的絕緣固定結構要求也更高，為了解決這個問題，研發(fā)了本實用新型的產(chǎn)品結構。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型是為了解決上述不足，提供了一種新型真空鍍膜靶材永磁結構。
[0004]本實用新型的上述目的通過以下的技術方案來實現(xiàn):一種新型真空鍍膜靶材永磁結構，其特征在于:包括陰極組件和安裝聯(lián)接法蘭，安裝聯(lián)接法蘭上安裝有真空貫穿件，真空貫穿件中心安裝有靶材組件，靶材組件底端連接旋轉式冷卻水供應裝置，靶材組件上安裝有靶材，其特征在于:所述靶材組件下方的安裝聯(lián)接法蘭上安裝有永磁組件。
[0005]所述永磁組件包括不銹鋼底座和頂部卡箍，不銹鋼底座上設有固定孔，不銹鋼底座和頂部卡箍之間固定有圈形N極磁體組件，頂部卡箍套住圈形N極磁體組件頂端，所述圈形N極磁體組件內(nèi)部設有固定在有銹鋼底座上的S極磁體。
[0006]所述圈形N極磁體組件由若干塊N極磁體呈圈形排列構成。
[0007]所述永磁組件安裝時，其位置和高度可以調(diào)整，以便實現(xiàn)與等離子導向磁場的最佳匹配，從而使電弧更加穩(wěn)定。
[0008]本實用新型與現(xiàn)有技術相比的優(yōu)點是:本實用新型在原真空鍍膜靶材結構的基礎上面，于靶材的下端增加了永磁組件，從而對工作過程中的電弧產(chǎn)生引向作用，控制其在靶材表面的發(fā)生范圍，從而使靶材均勻損耗，提高了靶材的使用率，同時定向電弧也使靶材結構工作更穩(wěn)定，安全，可靠。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實用新型的結構示意圖。
[0010]圖2是本實用新型的立體結構示意圖。
[0011]圖3是本實用新型的俯視結構不意圖。
[0012]圖4是圖3的仰視圖。
[0013]圖5是圖4中C-C處的剖面圖。
【具體實施方式】
[0014]下面結合附圖對本實用新型進一步詳述。
[0015]如圖1至圖5所示，一種新型真空鍍膜靶材永磁結構，包括陰極組件6和安裝聯(lián)接法蘭7，安裝聯(lián)接法蘭7上安裝有真空貫穿件8，真空貫穿件8中心安裝有靶材組件9，靶材組件9底端連接旋轉式冷卻水供應裝置10，靶材組件9上安裝有靶材11，所述靶材組件9下方的安裝聯(lián)接法蘭7上安裝有永磁組件12。
[0016]所述永磁組件12包括不銹鋼底座12-1和頂部卡箍12-2，不銹鋼底座12-1上設有固定孔12-3，不銹鋼底座12-1和頂部卡箍12-2之間固定有圈形N極磁體組件12-4，頂部卡箍套住圈形N極磁體組件12-4頂端，所述圈形N極磁體組件12-4內(nèi)部設有固定在有銹鋼底座12_1上的S極磁體12-5。
[0017]所述圈形N極磁體組件12-4由若干塊N極磁體呈圈形排列構成。
[0018]以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
【主權項】
1.一種新型真空鍍膜靶材永磁結構，其特征在于:包括陰極組件和安裝聯(lián)接法蘭，安裝聯(lián)接法蘭上安裝有真空貫穿件，真空貫穿件中心安裝有靶材組件，靶材組件底端連接旋轉式冷卻水供應裝置，靶材組件上安裝有靶材，其特征在于:所述靶材組件下方的安裝聯(lián)接法蘭上安裝有永磁組件。2.根據(jù)權利要求1所述的一種新型真空鍍膜靶材永磁結構，其特征在于:所述永磁組件包括不鎊鋼底座和頂部卡雜，不鎊鋼底座上設有固定孔，不鎊鋼底座和頂部卡雜之間固定有圈形N極磁體組件，頂部卡箍套住圈形N極磁體組件頂端，所述圈形N極磁體組件內(nèi)部設有固定在有鎊鋼底座上的S極磁體。3.根據(jù)權利要求2所述的一種新型真空鍍膜靶材永磁結構，其特征在于:所述圈形N極磁體組件由若干塊N極磁體呈圈形排列構成。
【專利摘要】本實用新型公開了一種新型真空鍍膜靶材永磁結構，包括陰極組件和安裝聯(lián)接法蘭，安裝聯(lián)接法蘭上安裝有真空貫穿件，真空貫穿件中心安裝有靶材組件，靶材組件底端連接旋轉式冷卻水供應裝置，靶材組件上安裝有靶材，所述靶材組件下方的安裝聯(lián)接法蘭上安裝有永磁組件。所述永磁組件安裝時，其位置和高度可以調(diào)整，以便實現(xiàn)與等離子導向磁場的最佳匹配，從而使電弧更加穩(wěn)定。本實用新型與現(xiàn)有技術相比的優(yōu)點是：本實用新型在原真空鍍膜靶材結構的基礎上面，于靶材的下端增加了永磁組件，從而對工作過程中的電弧產(chǎn)生引向作用，控制其在靶材表面的發(fā)生范圍，從而使靶材均勻損耗，提高了靶材的使用率，同時定向電弧也使靶材結構工作更穩(wěn)定，安全，可靠。
【IPC分類】C23C14/35
【公開號】CN205313660
【申請?zhí)枴緾N201521114325
【發(fā)明人】黃裕祥
【申請人】廣東耐信鍍膜科技有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2015年12月29日