金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及鍍膜裝置技術(shù)領(lǐng)域，特指金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置，包括有真空室、旋轉(zhuǎn)臺(tái)、氣體捕集器、智能控制器、壓力調(diào)節(jié)組件，旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)有內(nèi)濺射靶和內(nèi)圈加熱器，真空室的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有與內(nèi)濺射靶對(duì)應(yīng)的外濺射靶和外圈加熱器，本實(shí)用新型利用氣體捕集器可以加快抽真空的速率，可以有效去除雜質(zhì)氣體，使真空度達(dá)到更低的水平，并且真空室內(nèi)設(shè)有壓力傳感器、溫度傳感器，氣體捕集器、內(nèi)圈加熱器、外圈加熱器、壓力傳感器、溫度傳感器、壓力調(diào)節(jié)組件分別與智能控制器電連接形成閉環(huán)智能控制系統(tǒng)，能夠自動(dòng)控制真空室內(nèi)的溫度和壓力，精度高，提高產(chǎn)品鍍膜的質(zhì)量。
【專利說(shuō)明】
金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置
技術(shù)領(lǐng)域
:
[0001 ]本實(shí)用新型涉及鍍膜裝置技術(shù)領(lǐng)域，特指金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置。
【背景技術(shù)】
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[0002]真空鍍膜技術(shù)，即在高真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在工件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜。其中，真空度對(duì)于薄膜的性能起到至關(guān)重要的影響，特別是金屬膜層。現(xiàn)有的真空鍍膜裝置在使用一段時(shí)間后，按照現(xiàn)有的真空鍍膜方法，其抽空性能大大降低，從而導(dǎo)致生產(chǎn)效率嚴(yán)重下降，并且制出的膜層附著力差，膜層不夠致密等缺陷。
【實(shí)用新型內(nèi)容】:
[0003]本實(shí)用新型的目的就是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足而提供一種真空度高、抽真空耗時(shí)短、鍍膜效果好的金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置，包括有真空室、轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在真空室內(nèi)腔底部的旋轉(zhuǎn)臺(tái)、設(shè)置在真空室中央的氣體捕集器、設(shè)置在真空室外部的智能控制器、用于控制真空室內(nèi)部壓力的壓力調(diào)節(jié)組件，旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)有內(nèi)濺射靶和內(nèi)圈加熱器，真空室的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有與內(nèi)濺射靶對(duì)應(yīng)的外濺射靶和外圈加熱器，真空室內(nèi)設(shè)有壓力傳感器、溫度傳感器，壓力調(diào)節(jié)組件包括有與真空室連通的壓力調(diào)節(jié)管路、壓力控制閥、截止閥和真空栗，壓力控制閥、截止閥和真空栗依次連接在壓力調(diào)節(jié)管路上，氣體捕集器、內(nèi)圈加熱器、外圈加熱器、壓力傳感器、溫度傳感器、壓力控制閥、截止閥和真空栗分別與智能控制器電連接。
[0005]所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)周緣沿周向均勻分布有若干內(nèi)濺射靶以及若干內(nèi)圈加熱器，在真空室的內(nèi)側(cè)壁上沿周向均勻分布有若干與內(nèi)濺射靶對(duì)應(yīng)的外濺射靶以及若干外圈加熱器，在內(nèi)濺射靶和外濺射靶之間設(shè)有工件懸掛件。
[0006]所述內(nèi)圈加熱器位于內(nèi)濺射靶內(nèi)側(cè)，外圈加熱器位于內(nèi)濺射靶外側(cè)。
[0007]所述真空室底部設(shè)置有振動(dòng)器。
[0008]所述真空室上設(shè)有與真空室連通的進(jìn)氣管，進(jìn)氣管上設(shè)有進(jìn)氣閥門(mén)。
[0009]本實(shí)用新型有益效果在于:本實(shí)用新型提供的金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置，包括有真空室、轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在真空室內(nèi)腔底部的旋轉(zhuǎn)臺(tái)、設(shè)置在真空室中央的氣體捕集器、設(shè)置在真空室外部的智能控制器、用于控制真空室內(nèi)部壓力的壓力調(diào)節(jié)組件，旋轉(zhuǎn)臺(tái)上設(shè)有內(nèi)濺射靶和內(nèi)圈加熱器，真空室的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有與內(nèi)濺射靶對(duì)應(yīng)的外濺射靶和外圈加熱器，本實(shí)用新型利用氣體捕集器可以加快抽真空的速率，可以有效去除雜質(zhì)氣體，使真空度達(dá)到更低的水平，其抽真空效率高，耗時(shí)短，并且形成膜層附著力好，并且膜層致密;并且真空室內(nèi)設(shè)有壓力傳感器、溫度傳感器，壓力調(diào)節(jié)組件包括有與真空室連通的壓力調(diào)節(jié)管路、壓力控制閥、截止閥和真空栗，壓力控制閥、截止閥和真空栗依次連接在壓力調(diào)節(jié)管路上，氣體捕集器、內(nèi)圈加熱器、外圈加熱器、壓力傳感器、溫度傳感器、壓力控制閥、截止閥和真空栗分別與智能控制器電連接形成閉環(huán)智能控制系統(tǒng)，能夠自動(dòng)控制真空室內(nèi)的溫度和壓力，精度高，提高產(chǎn)品鍍膜的質(zhì)量，可以在需要真空室快速達(dá)到適當(dāng)?shù)恼婵斩葧r(shí)，連通真空室和壓力調(diào)節(jié)組件，從而使真空室能夠盡快地達(dá)到所需要的真空值。
【附圖說(shuō)明】
:
[0010]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖2是本實(shí)用新型真空室的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
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[0012]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明，見(jiàn)圖1?2所示，本實(shí)用新型包括有真空室1、轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在真空室I內(nèi)腔底部的旋轉(zhuǎn)臺(tái)2、設(shè)置在真空室I中央的氣體捕集器3、設(shè)置在真空室I外部的智能控制器4、用于控制真空室I內(nèi)部壓力的壓力調(diào)節(jié)組件，旋轉(zhuǎn)臺(tái)2上設(shè)有內(nèi)濺射靶5和內(nèi)圈加熱器6，真空室I的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有與內(nèi)濺射靶5對(duì)應(yīng)的外濺射靶7和外圈加熱器8，氣體捕集器3可以加快抽真空的速率，大大縮短抽真空時(shí)間，特別是對(duì)于雜質(zhì)氣體有很好的捕集作用。將氣體捕集器3設(shè)置在真空室I的中央，遠(yuǎn)離內(nèi)濺射靶5、外濺射靶7以及工件，可以避免氣體捕集器3的低溫對(duì)靶材以及工件的影響。
[0013]本實(shí)用新型利用氣體捕集器3可以加快抽真空的速率，可以有效去除雜質(zhì)氣體，使真空度達(dá)到更低的水平，其抽真空效率高，耗時(shí)短，并且形成膜層附著力好，并且膜層致密；并且真空室I內(nèi)設(shè)有壓力傳感器9、溫度傳感器10，壓力調(diào)節(jié)組件包括有與真空室I連通的壓力調(diào)節(jié)管路11、壓力控制閥12、截止閥13和真空栗14，壓力控制閥12、截止閥13和真空栗14依次連接在壓力調(diào)節(jié)管路11上，氣體捕集器3、內(nèi)圈加熱器6、外圈加熱器8、壓力傳感器9、溫度傳感器10、壓力控制閥12、截止閥13和真空栗14分別與智能控制器4電連接形成閉環(huán)智能控制系統(tǒng)，能夠自動(dòng)控制真空室I內(nèi)的溫度和壓力，精度高，提高產(chǎn)品鍍膜的質(zhì)量，可以在需要真空室I快速達(dá)到適當(dāng)?shù)恼婵斩葧r(shí)，連通真空室I和壓力調(diào)節(jié)組件，從而使真空室I能夠盡快地達(dá)到所需要的真空值。
[0014]旋轉(zhuǎn)臺(tái)2周緣沿周向均勻分布有若干內(nèi)濺射靶5以及若干內(nèi)圈加熱器6，在真空室I的內(nèi)側(cè)壁上沿周向均勻分布有若干與內(nèi)濺射靶5對(duì)應(yīng)的外濺射靶7以及若干外圈加熱器8，在內(nèi)濺射靶5和外濺射靶7之間設(shè)有工件懸掛件。內(nèi)圈加熱器6位于內(nèi)濺射靶5內(nèi)側(cè)，外圈加熱器8位于內(nèi)派射革巴5外側(cè)。
[0015]真空室I底部設(shè)置有振動(dòng)器15，用于使真空室I振動(dòng)，該振動(dòng)可以是周期性也可以是非周期性的，當(dāng)真空室I振動(dòng)時(shí)，可以使沉積于真空室I的側(cè)壁上的沉積物剝離，從而進(jìn)一步方便了對(duì)真空室I的清理。真空室I上設(shè)有與真空室I連通的進(jìn)氣管16，進(jìn)氣管16上設(shè)有進(jìn)氣閥門(mén)17。
[0016]當(dāng)然，以上所述僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施方式，故凡依本實(shí)用新型專利申請(qǐng)范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均包括于本實(shí)用新型專利申請(qǐng)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置，其特征在于:包括有真空室(I )、轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在真空室(I)內(nèi)腔底部的旋轉(zhuǎn)臺(tái)(2)、設(shè)置在真空室(I)中央的氣體捕集器(3)、設(shè)置在真空室(I)外部的智能控制器(4)、用于控制真空室(I)內(nèi)部壓力的壓力調(diào)節(jié)組件，旋轉(zhuǎn)臺(tái)(2)上設(shè)有內(nèi)濺射靶(5)和內(nèi)圈加熱器(6)，真空室(I)的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有與內(nèi)濺射靶(5)對(duì)應(yīng)的外濺射靶(7)和外圈加熱器(8)，真空室(I)內(nèi)設(shè)有壓力傳感器(9)、溫度傳感器(10)，壓力調(diào)節(jié)組件包括有與真空室(I)連通的壓力調(diào)節(jié)管路(11)、壓力控制閥(12)、截止閥(13)和真空栗(14)，壓力控制閥(12)、截止閥(13)和真空栗(14)依次連接在壓力調(diào)節(jié)管路(11)上，氣體捕集器(3)、內(nèi)圈加熱器(6)、外圈加熱器(8)、壓力傳感器(9)、溫度傳感器(10)、壓力控制閥(12)、截止閥(13)和真空栗(14)分別與智能控制器(4)電連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置，其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)(2)周緣沿周向均勻分布有若干內(nèi)濺射靶(5)以及若干內(nèi)圈加熱器(6)，在真空室(I)的內(nèi)側(cè)壁上沿周向均勻分布有若干與內(nèi)濺射靶(5)對(duì)應(yīng)的外濺射靶(7)以及若干外圈加熱器(8)，在內(nèi)濺射靶(5)和外濺射靶(7)之間設(shè)有工件懸掛件。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置，其特征在于:所述內(nèi)圈加熱器(6)位于內(nèi)濺射靶(5)內(nèi)側(cè)，外圈加熱器(8)位于內(nèi)濺射靶(5)外側(cè)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置，其特征在于:所述真空室(I)底部設(shè)置有振動(dòng)器(15)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬手機(jī)外殼的真空鍍膜裝置，其特征在于:所述真空室(I)上設(shè)有與真空室(I)連通的進(jìn)氣管(16)，進(jìn)氣管(16)上設(shè)有進(jìn)氣閥門(mén)(17)。
【文檔編號(hào)】C23C14/56GK205556767SQ201620148815
【公開(kāi)日】2016年9月7日
【申請(qǐng)日】2016年2月26日
【發(fā)明人】肖猷坤
【申請(qǐng)人】深圳市夢(mèng)之坊通信產(chǎn)品有限公司