一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置。
【背景技術】
[0002]中國實用新型專利CN 203904449U公開了一種可調節(jié)靶材，包含靶座，所述靶座的突肩上設有磁場，所述靶座的上方設有靶材，所述靶座與消耗后的靶材之間設有調節(jié)墊圈。該可調節(jié)靶材主要解決靶材與引弧針距離的穩(wěn)定性問題，但對于更復雜的工作環(huán)境、深顏色鍍種、靶材表面毒化等問題都不能有效解決，且該可調節(jié)靶材制作難度較大、同時難以維護。
【實用新型內容】
[0003]鑒于現(xiàn)有技術的不足，本實用新型所要解決的技術問題是提供一種結構簡單、制作容易、維護方便且適用范圍廣的提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，該裝置減少生產浪費、降低生產成本、提高資源有效利用率。
[0004]為了解決上述問題，本實用新型的技術方案是:一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，包括用于放置廢靶材的基座，所述基座上設置有用于墊高廢靶材且對廢靶材進行冷卻的散熱層，所述基座周側均勻分布有多個向上延伸的固定臂，所述固定臂上設置有高度可調的固定螺孔，所述固定螺孔內穿設有用于固定廢靶材的固定螺釘。
[0005]優(yōu)選的，所述基座及其固定臂的材質與靶材的材質相同。
[0006]—優(yōu)選的，所述基座是由生產后不能繼續(xù)使用的廢靶材機械加工而成。
[0007]另一優(yōu)選的，所述基座是由生產后不能繼續(xù)使用的廢靶材或靶材金屬原材料澆注后機械加工而成。
[0008]優(yōu)選的，所述基座的高度為原靶材高度的1/2~1/3，所述裝置的整體高度與原靶材高度相近。
[0009]優(yōu)選的，所述散熱層為熱和電的良導體。
[0010]進一步的，所述散熱層的材質為石墨材料。
[0011]—優(yōu)選的，所述固定螺孔包含多個沿固定臂上下間隔分布的圓形螺孔。
[0012]另一優(yōu)選的，所述固定螺孔包含一個開設于螺孔座上的圓形螺孔，所述固定臂上開設有一個供螺孔座上下滑動以調節(jié)高度位置的長圓孔。
[0013]優(yōu)選的，所述固定螺孔的高度調節(jié)范圍為裝置總高度的1/2~7/8。
[0014]與現(xiàn)有技術相比，本實用新型具有以下有益效果:(1)該裝置設計簡單，制作容易，加工成本低，維護方便，適用范圍廣，可普遍使用；(2)該裝置穩(wěn)定性強，由于所用材料與原靶材相同，不會對生產過程產生不利影響；(3)該裝置可使圓形平面靶材多次利用，大大提升圓形平面靶材利用率，減少生產浪費，降低生產成本。
【附圖說明】
[0015]圖1為原靶材的主視圖。
[0016]圖2為本實用新型實施例一的主視圖。
[0017]圖3為本實用新型實施例一的剖視圖。
[0018]圖4為本實用新型實施例一的俯視圖。
[0019]圖5為本實用新型實施例二的主視圖。
[0020]圖6為本實用新型實施例二的剖視圖。
[0021]圖7為本實用新型實施例二的俯視圖。
[0022]圖中標記:100-原靶材，110-固定螺紋，200-廢靶材，300-基座，310-固定螺紋，400-散熱層，500-固定臂，510-固定螺孔，511-第一螺孔，512-第二螺孔，520-固定螺釘，530-螺孔座，540-長圓孔。
【具體實施方式】
[0023]為了讓本實用新型的上述特征和優(yōu)點更明顯易懂，下文特舉實施例，并配合附圖，作詳細說明如下。
[0024]如圖1~7所示，一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，包括用于放置廢靶材200的基座300，所述基座300上設置有用于墊高廢靶材200且對廢靶材200進行冷卻的散熱層400，所述基座300周側均勻分布有多個向上延伸的固定臂500，所述固定臂500上設置有高度可調的固定螺孔510，所述固定螺孔510內穿設有用于固定廢靶材200的固定螺釘520。
[0025]實施例一:如圖2~4所示，所述基座300及其固定臂500的材質與靶材的材質相同，所述基座300是由生產后不能繼續(xù)使用的廢靶材200機械加工而成，實際生產時可以先按照所需尺寸將廢靶材200經車床切割加工制成基座300、固定臂500，再將固定臂500焊接在基座300的周側。
[0026]在實施例一中，所述固定螺孔510包含多個沿固定臂500上下間隔分布的第一螺孔511，通過選擇不同高度的第一螺孔511來穿設固定螺釘520，實現(xiàn)不同高度的廢靶材固定。
[0027]實施例二:如圖5~7所示，所述基座300及其固定臂500的材質與靶材的材質相同，所述基座300是由生產后不能繼續(xù)使用的廢靶材200或靶材金屬原材料澆注后機械加工而成，實際生產時可以將基座300和固定臂500 —體澆注而成，也可以后期在基座300上焊接固定臂500。
[0028]在實施例二中，所述固定螺孔510包含一個開設于螺孔座530上的第二螺孔512，所述固定臂500上開設有一個供螺孔座530上下滑動以調節(jié)高度位置的長圓孔540，所述螺孔座530的材質可與靶材的材質相同。
[0029]在上述所有的實施例中，所述基座300底部設有固定螺紋310，其與原靶材100底部的固定螺紋110相同。所述基座300的高度為原靶材高度的1/2~1/3，所述裝置的整體高度與原靶材高度相近。
[0030]在上述所有的實施例中，所述散熱層400為熱和電的良導體，其材質包括但并不局限于石墨材料，其厚度可根據(jù)靶材消耗的厚度進行相應的調整。
[0031]在上述所有的實施例中，所述固定螺孔510的高度調節(jié)范圍為裝置總高度的1/2~7/8，具體可根據(jù)實際生產需要進行設計。
[0032]在上述所有的實施例中，所述固定臂500內側設有與靶材圓周側面相配合的弧面，即弧面不超出基座300圓周。
[0033]使用時，通過基座300底部的固定螺紋310安裝在電鍍設備上，通過固定臂500上的固定螺孔510和固定螺釘520的配合將消耗后的廢靶材固定在基座300上，待靶材工作消耗到預定厚度時，調整散熱層400的厚度以保持靶材控制在有效消耗范圍內，通過固定螺孔510調節(jié)固定螺釘520的高度以保持靶材固定在基座300上，使消耗后的廢靶材又成為一個新的靶材，完全恢復到消耗之前的狀態(tài)，保持工藝控制和涂層性能的穩(wěn)定性，始終在控制范圍內進行生產。
[0034]本實用新型不局限于上述最佳實施方式，任何人在本實用新型的啟示下都可以得出其他各種形式的提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置。凡依本實用新型申請專利范圍所做的均等變化與修飾，皆應屬本實用新型的涵蓋范圍。
【主權項】
1.一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，包括用于放置廢靶材的基座，其特征在于:所述基座上設置有用于墊高廢靶材且對廢靶材進行冷卻的散熱層，所述基座周側均勻分布有多個向上延伸的固定臂，所述固定臂上設置有高度可調的固定螺孔，所述固定螺孔內穿設有用于固定廢靶材的固定螺釘。2.根據(jù)權利要求1所述的一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，其特征在于:所述基座及其固定臂的材質與靶材的材質相同。3.根據(jù)權利要求1或2所述的一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，其特征在于:所述基座是由生產后不能繼續(xù)使用的廢靶材機械加工而成。4.根據(jù)權利要求1或2所述的一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，其特征在于:所述基座是由生產后不能繼續(xù)使用的廢靶材或靶材金屬原材料澆注后機械加工而成。5.根據(jù)權利要求1所述的一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，其特征在于:所述基座的高度為原靶材高度的1/2~1/3，所述裝置的整體高度與原靶材高度相近。6.根據(jù)權利要求1所述的一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，其特征在于:所述散熱層為熱和電的良導體。7.根據(jù)權利要求6所述的一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，其特征在于:所述散熱層的材質為石墨材料。8.根據(jù)權利要求1所述的一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，其特征在于:所述固定螺孔包含多個沿固定臂上下間隔分布的第一螺孔。9.根據(jù)權利要求1所述的一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，其特征在于:所述固定螺孔包含一個開設于螺孔座上的第二螺孔，所述固定臂上開設有一個供螺孔座上下滑動以調節(jié)高度位置的長圓孔。10.根據(jù)權利要求1、8或9所述的一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，其特征在于:所述固定螺孔的高度調節(jié)范圍為裝置總高度的1/2~7/8。
【專利摘要】本實用新型涉及一種提高真空電弧鍍圓形平面靶材利用率的裝置，包括用于放置廢靶材的基座，所述基座上設置有用于墊高廢靶材且對廢靶材進行冷卻的散熱層，所述基座周側均勻分布有多個向上延伸的固定臂，所述固定臂上設置有高度可調的固定螺孔，所述固定螺孔內穿設有用于固定廢靶材的固定螺釘。該裝置設計簡單，制作容易，加工成本低，維護方便，適用范圍廣，可普遍使用；該裝置穩(wěn)定性強，由于所用材料與原靶材相同，不會對生產過程產生不利影響；該裝置可使圓形平面靶材多次利用，大大提升圓形平面靶材利用率，減少生產浪費，降低生產成本。
【IPC分類】C23C14/35
【公開號】CN205011829
【申請?zhí)枴緾N201520719855
【發(fā)明人】胡征宇, 李震林, 侯章輝, 謝國亮
【申請人】廈門建霖工業(yè)有限公司
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2015年9月17日