一種ald腔體門蓋的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種ALD反應(yīng)腔體門蓋，包括蓋板（1）以及與蓋板相連的蓋沿（2），蓋板上的V型凹槽（3），蓋沿的外表面的弧形凹槽（4）。本發(fā)明通過蓋沿的引入以及V型凹槽和弧形凹槽的引入，大幅度增加了反應(yīng)腔內(nèi)反應(yīng)氣體擴(kuò)散進(jìn)入外腔的路徑，增加了氣體擴(kuò)散的難度，提升了腔體氣密性。同時蓋沿還起到了承載與定位的作用，便于門蓋的開啟與關(guān)閉。
【專利說明】
一種ALD腔體門蓋
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種ALD(原子層沉積)系統(tǒng)中，用于反應(yīng)腔的門蓋，尤其涉及一種氣敏性良好的門蓋。
【背景技術(shù)】
[0002]原子層沉積是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)并形成沉積膜的一種方法，作為一種新興的薄膜制備技術(shù)，在微電子領(lǐng)域、光電領(lǐng)域、太陽能領(lǐng)域以及納米材料領(lǐng)域等有著非常廣泛的應(yīng)用。一般原子層沉積反應(yīng)，需要對反應(yīng)腔體進(jìn)行加熱，且通常的原子層沉積設(shè)備，反應(yīng)腔處于一個更大腔體的內(nèi)部。外部腔體中安裝加熱電阻、反射板等，通過輻射的方式對反應(yīng)腔體進(jìn)行加熱。通常情況下，反應(yīng)腔體的氣壓低于外部腔體。此外，基底樣品須通過外腔放入內(nèi)腔。因此，反應(yīng)腔體的門蓋，必須方便開啟，以便樣品的放入與取出，更重要的，必須有較好的隔絕，以防止反應(yīng)腔體中的反應(yīng)氣體溢出進(jìn)入外部腔體。一般的腔體門蓋，通常為簡單平板狀，在使用初期，密封性還能確保，但是隨著長時間的高溫下使用，平板有可能發(fā)生少量變形，導(dǎo)致密封性不好。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提出一種ALD反應(yīng)腔體門蓋，通過多種結(jié)構(gòu)的復(fù)合設(shè)計，大幅度提升了反應(yīng)腔體內(nèi)氣體擴(kuò)散進(jìn)入外腔的難度，確保了腔體的密閉性。
[0004]—種ALD反應(yīng)腔體門蓋，其特征在于，包括蓋板(I)以及與蓋板相連的蓋沿(2)，蓋板上的V型凹槽(3)，蓋沿的外表面的弧形凹槽(4)。
[0005]其蓋板(I)為圓形蓋板。
[0006]其蓋沿(2)與蓋板(I)相連，呈圓柱狀垂直于蓋板，且離蓋板邊緣有一定距離。
[0007]其V型凹槽(3)開在蓋沿外部的蓋板表面，凹槽角度為60度，邊長為3-5mm。
[0008]弧形凹槽(4)開在蓋沿外表面，弧度為60度，弧半徑為4-5mm。
[0009]其材質(zhì)為304不銹鋼。
[0010]本發(fā)明提出一種ALD反應(yīng)腔體門蓋，包括蓋板以及與蓋板相連的蓋沿，蓋板上的V型凹槽，蓋沿的外表面的弧形凹槽。
[0011 ]所述蓋板為圓形，用于反應(yīng)腔的封閉。
[0012]本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn):
1、蓋沿的引入，使得反應(yīng)腔與蓋沿外表面以及蓋板邊緣部分全面接觸，反應(yīng)腔密封時接觸面積進(jìn)一步增大，同時垂直的密封結(jié)構(gòu)，大幅度密封結(jié)構(gòu)的熱穩(wěn)定性，且提升了氣體擴(kuò)散難度，因而提升了氣密性；
2、V型凹槽以及弧形凹槽的引入，進(jìn)一步使得反應(yīng)腔體內(nèi)氣體擴(kuò)散進(jìn)入外腔的盧靜變得復(fù)雜，進(jìn)一步提高了氣體擴(kuò)散難度，提升了氣密性。
[0013]3、蓋沿除起到了密封的作用以外，還起到了承載和定位的功能，方便了門蓋的開啟與關(guān)閉。
【附圖說明】
[0014]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作出詳細(xì)的說明，其中:
圖1為本發(fā)明較佳實施例的部分結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2位本發(fā)明較佳實施例的剖視圖；
圖3為本發(fā)明與反應(yīng)腔體密封時的部分結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0015]如圖1、圖2與圖3所示，為本發(fā)明較佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，所述的一種ALD反應(yīng)腔體門蓋，其包括圓形蓋板(I)以及與蓋板相連的蓋沿(2)，蓋板上的V型凹槽(3)，蓋沿的外表面的弧形凹槽(4)，門蓋的材質(zhì)為304不銹鋼。蓋沿(2)與蓋板(I)相連，呈圓柱狀垂直于蓋板，且離蓋板邊緣有一定距離。V型凹槽(3)開在蓋沿外部的蓋板表面，凹槽角度為60度，邊長為3?5_?；⌒伟疾?4)開在蓋沿外表面，弧度為60度，弧半徑為4?5_。門蓋與內(nèi)腔密封情況，如圖3所示，蓋沿的外表面與反應(yīng)腔內(nèi)表面形成密封，蓋板在蓋沿以外的部分與反應(yīng)腔表面形成密封，同時蓋沿還起到了承載與定位的作用，門蓋與反應(yīng)腔可用卡扣鎖緊。
【主權(quán)項】
1.一種ALD反應(yīng)腔體門蓋，其特征在于，包括蓋板(I)以及與蓋板相連的蓋沿(2)，蓋板上的V型凹槽(3)，蓋沿的外表面的弧形凹槽(4)。2.如權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)腔體門蓋，其特征在于，其蓋板(I)為圓形蓋板。3.如權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)腔體門蓋，其特征在于，其蓋沿(2)與蓋板(I)相連，呈圓柱狀垂直于蓋板，且離蓋板邊緣有一定距離。4.如權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)腔體門蓋，其特征在于，其V型凹槽(3)開在蓋沿外部的蓋板表面，凹槽角度為60度，邊長為3-5mm。5.如權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)腔體門蓋，其特征在于，弧形凹槽(4)開在蓋沿外表面，弧度為60度，弧半徑為4-5mm。6.如權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)腔體門蓋，其特征在于，其材質(zhì)為304不銹鋼。
【文檔編號】C23C16/455GK106011790SQ201610398058
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年6月7日
【發(fā)明人】何丹農(nóng), 尹桂林, 盧靜, 金彩虹
【申請人】上海納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心有限公司