一種ald腔體門蓋的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種ALD反應(yīng)腔體門蓋,包括蓋板(1)以及與蓋板相連的蓋沿(2),蓋板上的V型凹槽(3),蓋沿的外表面的弧形凹槽(4)。本發(fā)明通過蓋沿的引入以及V型凹槽和弧形凹槽的引入,大幅度增加了反應(yīng)腔內(nèi)反應(yīng)氣體擴(kuò)散進(jìn)入外腔的路徑,增加了氣體擴(kuò)散的難度,提升了腔體氣密性。同時蓋沿還起到了承載與定位的作用,便于門蓋的開啟與關(guān)閉。
【專利說明】
一種ALD腔體門蓋
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種ALD(原子層沉積)系統(tǒng)中,用于反應(yīng)腔的門蓋,尤其涉及一種氣敏性良好的門蓋。
【背景技術(shù)】
[0002]原子層沉積是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)并形成沉積膜的一種方法,作為一種新興的薄膜制備技術(shù),在微電子領(lǐng)域、光電領(lǐng)域、太陽能領(lǐng)域以及納米材料領(lǐng)域等有著非常廣泛的應(yīng)用。一般原子層沉積反應(yīng),需要對反應(yīng)腔體進(jìn)行加熱,且通常的原子層沉積設(shè)備,反應(yīng)腔處于一個更大腔體的內(nèi)部。外部腔體中安裝加熱電阻、反射板等,通過輻射的方式對反應(yīng)腔體進(jìn)行加熱。通常情況下,反應(yīng)腔體的氣壓低于外部腔體。此外,基底樣品須通過外腔放入內(nèi)腔。因此,反應(yīng)腔體的門蓋,必須方便開啟,以便樣品的放入與取出,更重要的,必須有較好的隔絕,以防止反應(yīng)腔體中的反應(yīng)氣體溢出進(jìn)入外部腔體。一般的腔體門蓋,通常為簡單平板狀,在使用初期,密封性還能確保,但是隨著長時間的高溫下使用,平板有可能發(fā)生少量變形,導(dǎo)致密封性不好。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提出一種ALD反應(yīng)腔體門蓋,通過多種結(jié)構(gòu)的復(fù)合設(shè)計,大幅度提升了反應(yīng)腔體內(nèi)氣體擴(kuò)散進(jìn)入外腔的難度,確保了腔體的密閉性。
[0004]—種ALD反應(yīng)腔體門蓋,其特征在于,包括蓋板(I)以及與蓋板相連的蓋沿(2),蓋板上的V型凹槽(3),蓋沿的外表面的弧形凹槽(4)。
[0005]其蓋板(I)為圓形蓋板。
[0006]其蓋沿(2)與蓋板(I)相連,呈圓柱狀垂直于蓋板,且離蓋板邊緣有一定距離。
[0007]其V型凹槽(3)開在蓋沿外部的蓋板表面,凹槽角度為60度,邊長為3-5mm。
[0008]弧形凹槽(4)開在蓋沿外表面,弧度為60度,弧半徑為4-5mm。
[0009]其材質(zhì)為304不銹鋼。
[0010]本發(fā)明提出一種ALD反應(yīng)腔體門蓋,包括蓋板以及與蓋板相連的蓋沿,蓋板上的V型凹槽,蓋沿的外表面的弧形凹槽。
[0011 ]所述蓋板為圓形,用于反應(yīng)腔的封閉。
[0012]本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn):
1、蓋沿的引入,使得反應(yīng)腔與蓋沿外表面以及蓋板邊緣部分全面接觸,反應(yīng)腔密封時接觸面積進(jìn)一步增大,同時垂直的密封結(jié)構(gòu),大幅度密封結(jié)構(gòu)的熱穩(wěn)定性,且提升了氣體擴(kuò)散難度,因而提升了氣密性;
2、V型凹槽以及弧形凹槽的引入,進(jìn)一步使得反應(yīng)腔體內(nèi)氣體擴(kuò)散進(jìn)入外腔的盧靜變得復(fù)雜,進(jìn)一步提高了氣體擴(kuò)散難度,提升了氣密性。
[0013]3、蓋沿除起到了密封的作用以外,還起到了承載和定位的功能,方便了門蓋的開啟與關(guān)閉。
【附圖說明】
[0014]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作出詳細(xì)的說明,其中:
圖1為本發(fā)明較佳實施例的部分結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2位本發(fā)明較佳實施例的剖視圖;
圖3為本發(fā)明與反應(yīng)腔體密封時的部分結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0015]如圖1、圖2與圖3所示,為本發(fā)明較佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖,所述的一種ALD反應(yīng)腔體門蓋,其包括圓形蓋板(I)以及與蓋板相連的蓋沿(2),蓋板上的V型凹槽(3),蓋沿的外表面的弧形凹槽(4),門蓋的材質(zhì)為304不銹鋼。蓋沿(2)與蓋板(I)相連,呈圓柱狀垂直于蓋板,且離蓋板邊緣有一定距離。V型凹槽(3)開在蓋沿外部的蓋板表面,凹槽角度為60度,邊長為3?5_?;⌒伟疾?4)開在蓋沿外表面,弧度為60度,弧半徑為4?5_。門蓋與內(nèi)腔密封情況,如圖3所示,蓋沿的外表面與反應(yīng)腔內(nèi)表面形成密封,蓋板在蓋沿以外的部分與反應(yīng)腔表面形成密封,同時蓋沿還起到了承載與定位的作用,門蓋與反應(yīng)腔可用卡扣鎖緊。
【主權(quán)項】
1.一種ALD反應(yīng)腔體門蓋,其特征在于,包括蓋板(I)以及與蓋板相連的蓋沿(2),蓋板上的V型凹槽(3),蓋沿的外表面的弧形凹槽(4)。2.如權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)腔體門蓋,其特征在于,其蓋板(I)為圓形蓋板。3.如權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)腔體門蓋,其特征在于,其蓋沿(2)與蓋板(I)相連,呈圓柱狀垂直于蓋板,且離蓋板邊緣有一定距離。4.如權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)腔體門蓋,其特征在于,其V型凹槽(3)開在蓋沿外部的蓋板表面,凹槽角度為60度,邊長為3-5mm。5.如權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)腔體門蓋,其特征在于,弧形凹槽(4)開在蓋沿外表面,弧度為60度,弧半徑為4-5mm。6.如權(quán)利要求1所述的ALD反應(yīng)腔體門蓋,其特征在于,其材質(zhì)為304不銹鋼。
【文檔編號】C23C16/455GK106011790SQ201610398058
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年6月7日
【發(fā)明人】何丹農(nóng), 尹桂林, 盧靜, 金彩虹
【申請人】上海納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心有限公司