一種真空精煉爐長壽命下部槽的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種真空精煉爐長壽命下部槽，包括由下部槽殼體和下部槽槽底圍合而成的下部槽外殼，下部槽殼體的中上部設(shè)有下部槽真空室，下部槽真空室的下部分別設(shè)有上升環(huán)流管和下降環(huán)流管，上升環(huán)流管的下方還設(shè)有上升浸漬管，下降環(huán)流管的下方還設(shè)有下降浸漬管，下部槽殼體與下部槽真空室之間裝有下部槽磚體，從上升環(huán)流管上端面起至少2層、分別位于上升環(huán)流管和下降環(huán)流管相對(duì)一側(cè)的至少2塊下部槽磚體比其余下部槽磚體長。有益效果是：加長的下部槽磚體保證了在鋼流不斷沖刷時(shí)，不再需要對(duì)墻體進(jìn)行挖補(bǔ)，有效保護(hù)了環(huán)流管與下部槽槽底之間的伸縮縫，防止鋼水從伸縮縫竄出，同時(shí)也避免了挖補(bǔ)時(shí)殘余耐火磚的浪費(fèi)并節(jié)省了人工成本。
【專利說明】 一種真空精煉爐長壽命下部槽
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種真空精煉爐，尤其是涉及一種真空精煉爐長壽命下部槽，該下部槽使用了組合磚體和新型環(huán)流管。
【背景技術(shù)】
[0002]RH真空精煉爐是當(dāng)前鋼鐵行業(yè)最先進(jìn)的精煉設(shè)備，也是冶煉超低碳高附加值產(chǎn)品的必需設(shè)備，其已成為各大鋼廠的主流精煉配置，據(jù)統(tǒng)計(jì)，截止2012年底，國內(nèi)RH精煉爐已超過120座，以前廣泛使用的VD精煉爐、VOD精煉爐、AOD爐等已逐漸被RH精煉爐所淘汰。但是隨著RH精煉爐技術(shù)的快速發(fā)展，RH精煉爐自身的一些缺陷也逐漸暴露出來，并且伴隨著每個(gè)鋼廠不同的使用條件，RH爐暴露的問題也不一樣，最常見的也是最普遍的主要是耐材的壽命偏低問題，尤其是RH爐下部槽及浸潰管需要不斷地面對(duì)高溫鋼水的沖刷，耐材壽命受影響較大，如何提高耐材質(zhì)量、優(yōu)化砌筑、生產(chǎn)工藝，提高耐材壽命，降低耐材成本，已成為各大建有RH精煉爐的鋼廠攻關(guān)的主要課題。
[0003]濟(jì)南某鋼板廠120t轉(zhuǎn)爐區(qū)l#150t RH精煉爐2007年9月投產(chǎn)，投產(chǎn)初期耐材壽命一直不高，經(jīng)投產(chǎn)以來的不斷改進(jìn)，目前已有大幅改善，但浸潰管壽命平均不到1700min，下部槽壽命平均不到3500min，與國內(nèi)先進(jìn)水平相比均仍有很大差距。浸潰管壽命偏低的原因一方面由于供貨廠家質(zhì)量不穩(wěn)定，另一方面由于本鋼板廠特殊的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)及生產(chǎn)模式，對(duì)浸潰管壽命也產(chǎn)生了一定影響。下部槽壽命偏低主要原因是原設(shè)計(jì)不合理，下部槽靠近上升環(huán)流管及下降環(huán)流管兩側(cè)墻體由于鋼流沖力較大，相應(yīng)侵蝕較嚴(yán)重，鋼水從此處進(jìn)入環(huán)流管與墻體磚縫內(nèi)，極易造成穿鋼事故。為降低耐材成本，提高下部槽壽命，避免出現(xiàn)穿鋼事故，每次浸潰管到壽命下線后，需要對(duì)下部槽環(huán)流管周圍墻體侵蝕嚴(yán)重部分進(jìn)行挖補(bǔ)，挖補(bǔ)時(shí)浪費(fèi)大量的墻體耐火磚，并消耗大量的人力成本。同時(shí)，由于RH爐環(huán)流管與浸潰管壽命同步，下部槽壽命是環(huán)流管的3至4倍，因此在更換新的環(huán)流管搭配舊的下部槽時(shí)，由于下部槽底部已被鋼水侵蝕一部分，從而出現(xiàn)新環(huán)流管高于下部槽槽底的現(xiàn)象，造成殘留鋼水積壓在槽底，當(dāng)真空槽冷卻后再次受熱時(shí)，積壓的冷鋼熔化后滲入因熱脹冷縮因素槽底產(chǎn)生的大量磚縫，嚴(yán)重時(shí)甚至造成穿鋼事故，影響下部槽壽命，有時(shí)殘留的鋼水與后續(xù)生產(chǎn)鋼水成分偏差較大時(shí)，還會(huì)出現(xiàn)成分廢品的現(xiàn)象。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)，提供一種真空精煉爐長壽命下部槽，該下部槽改進(jìn)了環(huán)流管結(jié)構(gòu)并使用了一種長壽命磚體，采用的技術(shù)方案是:一種真空精煉爐長壽命下部槽，包括由下部槽殼體和下部槽槽底圍合而成的下部槽外殼，所述下部槽殼體的中上部設(shè)有下部槽真空室，所述下部槽真空室的下部分別設(shè)有上升環(huán)流管和下降環(huán)流管，所述上升環(huán)流管的下方還設(shè)有上升浸潰管，所述下降環(huán)流管的下方還設(shè)有下降浸潰管，其特征在于:所述下部槽殼體與下部槽真空室之間裝有下部槽磚體，從所述上升環(huán)流管上端面起至少2層、分別位于所述上升環(huán)流管和下降環(huán)流管相對(duì)一側(cè)的至少2塊所述下部槽磚體比其余下部槽磚體長。
[0005]本實(shí)用新型的技術(shù)方案還有:所述上升環(huán)流管上端面上四層、分別位于所述上升環(huán)流管和下降環(huán)流管相對(duì)一側(cè)的四塊所述下部槽磚體比其余下部槽磚體長。
[0006]本實(shí)用新型的技術(shù)方案還有:所述上升環(huán)流管上端面上四層、分別位于所述上升環(huán)流管和下降環(huán)流管相對(duì)一側(cè)的四塊所述下部槽磚體比其余下部槽磚體長30mm。
[0007]本實(shí)用新型的技術(shù)方案還有:所述上升環(huán)流管和下降環(huán)流管由環(huán)流磚砌筑而成；所述下降環(huán)流管還包括設(shè)在所述下降環(huán)流管一側(cè)的兩個(gè)凹槽，所述兩個(gè)凹槽中心線之間夾角為60度。
[0008]本實(shí)用新型的技術(shù)方案還有:所述凹槽由加工在所述環(huán)流磚上的缺口形成。
[0009]本實(shí)用新型的技術(shù)方案還有:所述缺口徑向方向尺寸為20mm。
[0010]本實(shí)用新型的有益效果在于:1)加長的下部槽磚體保證了在鋼流不斷沖刷時(shí)，隨著磚體加長部分不斷被侵蝕，漸漸地與其它部位磚體壽命同步，不再需要對(duì)墻體進(jìn)行挖補(bǔ)，有效保護(hù)了環(huán)流管與下部槽槽底之間的伸縮縫，防止鋼水從伸縮縫竄出，同時(shí)也避免了挖補(bǔ)時(shí)殘余耐火磚的浪費(fèi)并節(jié)省了人工成本；2)本環(huán)流管對(duì)傳統(tǒng)環(huán)流管進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計(jì)，將砌筑下降環(huán)流管周圍的兩塊磚縮短20mm，使殘留的鋼水通過該凹槽處缺口流出，從而解決了殘留鋼水積壓問題。本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)簡單、加工便利、使用效果好之優(yōu)點(diǎn)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]附圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖，附圖2是附圖1的A-A視圖，其中I是下部槽真空室，2是下部槽磚體，3是凹槽，4是下部槽殼體，5是下部槽槽底，6是加長的下部槽磚體，7是上升環(huán)流管，8是下降環(huán)流管。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行說明。本實(shí)用新型公開了一種真空精煉爐長壽命下部槽，該下部槽包括由下部槽殼體4和下部槽槽底5圍合而成的下部槽外殼，下部槽殼體的中上部設(shè)有下部槽真空室1，下部槽真空室I的下部分別設(shè)有環(huán)流磚砌筑而成的上升環(huán)流管7和下降環(huán)流管8，上升環(huán)流管7的下方還設(shè)有上升浸潰管，下降環(huán)流管8的下方還設(shè)有下降浸潰管。在下部槽殼體4與下部槽真空室I之間裝有下部槽磚體，從上升環(huán)流管7上端面起至少2層、分別位于上升環(huán)流管7和下降環(huán)流管8相對(duì)一側(cè)的至少2塊下部槽磚體是加長的下部槽磚體6，該加長的下部槽磚體6比下部槽磚體2每塊長30mmo
[0013]本實(shí)施例中，上升環(huán)流管7上端面上四層、分別位于上升環(huán)流管7和下降環(huán)流管8相對(duì)一側(cè)的四塊下部槽磚體是加長的下部槽磚體6，該加長的下部槽磚體6比下部槽磚體2每塊長30mm。
[0014]上升環(huán)流管7和下降環(huán)流管8還包括環(huán)流磚，環(huán)流磚砌筑在上升環(huán)流管7和下降環(huán)流管8的周圍。下降環(huán)流管8還包括設(shè)在下降環(huán)流管8 一側(cè)的兩個(gè)凹槽3，兩個(gè)凹槽3中心線之間夾角為60度。
[0015]本實(shí)施例中的凹槽3由加工在環(huán)流磚9上的缺口形成。該缺口徑向方向尺寸為20mmo[0016]當(dāng)然，上述說明并非對(duì)本實(shí)用新型的限制，本實(shí)用新型也不僅限于上述舉例，本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員在本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)范圍內(nèi)所做出的變化、改型、添加或替換，也屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種真空精煉爐長壽命下部槽，包括由下部槽殼體和下部槽槽底圍合而成的下部槽外殼，所述下部槽殼體的中上部設(shè)有下部槽真空室，所述下部槽真空室的下部分別設(shè)有上升環(huán)流管和下降環(huán)流管，所述上升環(huán)流管的下方還設(shè)有上升浸潰管，所述下降環(huán)流管的下方還設(shè)有下降浸潰管，其特征在于:所述下部槽殼體與下部槽真空室之間裝有下部槽磚體，從所述上升環(huán)流管上端面起至少2層、分別位于所述上升環(huán)流管和下降環(huán)流管相對(duì)一側(cè)的至少2塊所述下部槽磚體比其余下部槽磚體長。
2.按照權(quán)利要求1所述的真空精煉爐長壽命下部槽，其特征在于:所述上升環(huán)流管上端面上四層、分別位于所述上升環(huán)流管和下降環(huán)流管相對(duì)一側(cè)的四塊所述下部槽磚體比其余下部槽磚體長。
3.按照權(quán)利要求2所述的真空精煉爐長壽命下部槽，其特征在于:所述上升環(huán)流管上端面上四層、分別位于所述上升環(huán)流管和下降環(huán)流管相對(duì)一側(cè)的四塊所述下部槽磚體比其余下部槽磚體長30mm。
4.按照權(quán)利要求1所述的真空精煉爐長壽命下部槽，其特征在于:所述上升環(huán)流管和下降環(huán)流管由環(huán)流磚砌筑而成；所述下降環(huán)流管還包括設(shè)在所述下降環(huán)流管一側(cè)的兩個(gè)凹槽，所述兩個(gè)凹槽中心線之間夾角為60度。
5.按照權(quán)利要求4所述的真空精煉爐長壽命下部槽，其特征在于:所述凹槽由加工在所述環(huán)流磚上的缺口形成。
6.按照權(quán)利要求5所述的真空精煉爐長壽命下部槽，其特征在于:所述缺口徑向方向尺寸為20mm。
【文檔編號(hào)】C21C7/10GK203546072SQ201320569176
【公開日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2013年9月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月14日
【發(fā)明者】孫瑋, 鄭萬任, 陳軍, 胡勤東, 李凱玉, 牛洪波, 張本源, 李興彬, 賈崇雪, 李君彥 申請(qǐng)人:濟(jì)鋼集團(tuán)有限公司