專利名稱：明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種鎂合金澆鑄裝置，特別涉及一種明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置。
背景技術(shù)：
鎂合金是以鎂為基加入其他元素組成的合金。其特點(diǎn)是:密度小，比強(qiáng)度高，比彈性模量大，散熱好，消震性好,承受沖擊載荷能力比鋁合金大,耐有機(jī)物和堿的腐蝕性能好。主要合金元素有鋁、鋅、錳、鈰、釷以及少量鋯或鎘等。主要用于航空、航天、運(yùn)輸、化工、火箭等工業(yè)部門。在實(shí)用金屬中是最輕的金屬，鎂的比重大約是鋁的2/3，是鐵的1/4。它是實(shí)用金屬中的最輕的金屬，高強(qiáng)度且高剛性。由于液態(tài)鎂合金極易發(fā)生氧化燃燒，在采用無冒口工藝澆鑄大型鎂合金鑄件時(shí)，基本采用人工撒鎂合金阻燃劑以阻止鎂合金的燃燒。而阻燃劑混入到鎂合金鑄件中會(huì)使得鑄件內(nèi)部產(chǎn)生夾渣缺陷。而且通過人工方式來撒鎂合金阻燃劑，很難保持鎂合金在澆鑄過程中始終有阻燃劑，一旦人工操作不當(dāng)，就會(huì)引發(fā)鑄件燃燒。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于，克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，提供一種明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置，可以在澆鑄時(shí)避免采用人工撒鎂合金阻燃劑，提高鑄件質(zhì)量。為解決以上技術(shù)問題，本實(shí)用新型的一種明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置，包括通過支架支撐在鑄件型腔中心線正上方的配氣盤，所述配氣盤的上部中心設(shè)有進(jìn)氣口，所述配氣盤的下部中心連接有中心通氣管，所述中心通氣管豎直向下延伸且下端連接有中心排氣盤；所述配氣盤的側(cè)面對稱連接有四根周邊通氣管，各所述周邊通氣管的下端分別連接有周邊排氣盤，四個(gè)所述周邊排氣盤均勻分布在所述中心排氣盤的四周且位于所述鑄件型腔的周邊區(qū)域上方，所述中心排氣盤和周邊排氣盤面向鑄件型腔的端面上分別設(shè)有多個(gè)排氣孔。相對于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型取得了以下有益效果:澆鑄前五分鐘，將保護(hù)氣體通入配氣盤的進(jìn)氣口，保護(hù)氣體分別通過中心通氣管和周邊通氣管流向中心排氣盤和周邊排氣盤，再從中心排氣盤和周邊排氣盤的排氣孔流向鑄件型腔，由于保護(hù)氣體的密度大于空氣密度，保護(hù)氣體被均勻分布在鑄件型腔中，從而使得鑄件在整個(gè)澆鑄過程中都處在保護(hù)性氣氛下。澆鑄過程不再使用固體阻燃劑，有效避免了固體阻燃劑混入鎂合金鑄件中，從而提聞了鑄件的內(nèi)部質(zhì)量。作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案，所述中心排氣盤的位置高于各所述周邊排氣盤。中心排氣盤的位置稍高，有利于增大保護(hù)氣體的擴(kuò)散面積，使保護(hù)效果更好。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，附圖僅提供參考與說明用，非用以限制本實(shí)用新型。


圖1為本實(shí)用新型明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為
圖1的A向視圖。圖3為圖2中沿B-B的剖視圖。圖4為本實(shí)用新型明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置的立體圖。圖中:1.造型砂；2.鑄件型腔；3.支架；4.配氣盤；5.進(jìn)氣口；6.中心通氣管；7.中心排氣盤；8.周邊通氣管；9.周邊排氣盤；10.排氣孔。
具體實(shí)施方式
如
圖1至圖4所示，造型砂I造出鑄件型腔2，本實(shí)用新型明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置，包括通過支架3支撐在鑄件型腔2中心線正上方的配氣盤4，配氣盤4的上部中心設(shè)有進(jìn)氣口 5，配氣盤的下部中心連接有中心通氣管6，中心通氣管6豎直向下延伸且下端連接有中心排氣盤7 ;配氣盤4的側(cè)面對稱連接有四根周邊通氣管8，各周邊通氣管8的下端分別連接有周邊排氣盤9，四個(gè)周邊排氣盤9均勻分布在中心排氣盤7的四周且位于鑄件型腔2的周邊區(qū)域上方，中心排氣盤7和周邊排氣盤9面向鑄件型腔2的端面上分別設(shè)有多個(gè)排氣孔10。中心排氣盤7的位置高于各周邊排氣盤9以增大其保護(hù)氣體的擴(kuò)散面積。澆鑄前五分鐘，將保護(hù)氣體通入配氣盤4的進(jìn)氣口 5，保護(hù)氣體分別通過中心通氣管6和周邊通氣管8流向中心排氣盤7和周邊排氣盤9，再從中心排氣盤7和周邊排氣盤9的排氣孔10流向鑄件型腔2，由于保護(hù)氣體的密度大于空氣密度，保護(hù)氣體被均勻分布在鑄件型腔2中，從而使得鑄件在整個(gè)澆鑄過程中都處在保護(hù)性氣氛下。以上所述僅為本實(shí)用新型之較佳可行實(shí)施例而已，非因此局限本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍。除上述實(shí)施例外，本實(shí)用新型還可以有其他實(shí)施方式。凡采用等同替換或等效變換形成的技術(shù)方案，均落在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置，其特征在于:包括通過支架支撐在鑄件型腔中心線正上方的配氣盤，所述配氣盤的上部中心設(shè)有進(jìn)氣口，所述配氣盤的下部中心連接有中心通氣管，所述中心通氣管豎直向下延伸且下端連接有中心排氣盤；所述配氣盤的側(cè)面對稱連接有四根周邊通氣管，各所述周邊通氣管的下端分別連接有周邊排氣盤，四個(gè)所述周邊排氣盤均勻分布在所述中心排氣盤的四周且位于所述鑄件型腔的周邊區(qū)域上方，所述中心排氣盤和周邊排氣盤面向鑄件型腔的端面上分別設(shè)有多個(gè)排氣孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置，其特征在于，所述中心排氣盤的位置高于各所述周邊排氣盤。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置，屬于鎂合金澆鑄技術(shù)領(lǐng)域。該明澆大型鎂合金鑄件氣體保護(hù)裝置包括通過支架支撐在鑄件型腔中心線正上方的配氣盤，配氣盤的上部中心設(shè)有進(jìn)氣口，配氣盤的下部中心連接有中心通氣管，中心通氣管豎直向下延伸且下端連接有中心排氣盤；配氣盤的側(cè)面對稱連接有四根周邊通氣管，各周邊通氣管的下端分別連接有周邊排氣盤，四個(gè)周邊排氣盤均勻分布在中心排氣盤的四周且位于鑄件型腔的周邊區(qū)域上方，中心排氣盤和周邊排氣盤面向鑄件型腔的端面上分別設(shè)有多個(gè)排氣孔。保護(hù)氣體通入配氣盤的進(jìn)氣口，從中心排氣盤和周邊排氣盤的排氣孔流向鑄件型腔，使得鑄件在整個(gè)澆鑄過程中都處在保護(hù)性氣氛下。
文檔編號B22D21/04GK203061851SQ20132003823
公開日2013年7月17日 申請日期2013年1月24日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月24日
發(fā)明者賀從波 申請人:揚(yáng)州峰明金屬制品有限公司