掩膜板、陣列基板、液晶顯示裝置及形成通孔的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種掩膜版;一種陣列基板;一種液晶顯示裝置;及一種用于在有機(jī)絕緣膜中形成通孔的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在液晶顯示裝置中，液晶層通常被設(shè)置在陣列基板和彩膜基板之間。在將陣列基板與彩膜基板結(jié)合到一起時(shí)，為了控制液晶層的厚度，需在兩片基板之間設(shè)置柱狀間隔物加以支撐。同時(shí)，設(shè)置的柱狀間隔物還可以使得液晶顯示裝置在受到外力壓迫時(shí)能夠恢復(fù)原狀，起到保護(hù)液晶顯示裝置的作用。
[0003]如圖1所示，為現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示裝置的俯視圖，可以看出柱狀間隔物111的設(shè)置區(qū)域位于垂直黑矩陣105和水平黑矩陣106交叉處。圖1中，與垂直黑矩陣105平行的是數(shù)據(jù)線102，與水平黑矩陣106平行的是掃描線103。數(shù)據(jù)線102與掃描線103圍成的區(qū)域?yàn)橄袼仫@示區(qū)域，其中設(shè)置了一層像素電極層104。
[0004]圖2是現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示裝置的剖面圖，其中，彩膜基板107和陣列基板108相對(duì)設(shè)置，在陣列基板108的表面覆蓋了一層有機(jī)絕緣膜109，在有機(jī)絕緣膜109內(nèi)設(shè)置有通孔110。通孔110是為了使得覆蓋在有機(jī)絕緣膜109上的像素電極層104能夠與有機(jī)絕緣膜109覆蓋的漏極113形成金屬接觸。柱狀間隔物111位于陣列基板108和彩膜基板107之間，起到保護(hù)和支撐的作用?，F(xiàn)有技術(shù)中，一般將柱狀間隔物111的固定端設(shè)置在彩膜基板107的內(nèi)偵U，柱狀間隔物111的自由端朝向陣列基板108的一側(cè)。
[0005]柱狀間隔物111在陣列基板108上的設(shè)置區(qū)域位于兩個(gè)相鄰的通孔110之間，一般位于源極114上方。由于液晶顯示器的像素密度越來越高，相鄰?fù)?10之間的間距越來越小，有機(jī)絕緣膜109的平坦化程度也同時(shí)降低，此時(shí)液晶顯示器受到外力作用時(shí)，由于柱狀間隔物111站立的位置不平坦，所述柱狀間隔物111很容易滑入通孔110內(nèi)，導(dǎo)致所述柱狀間隔物111所對(duì)應(yīng)區(qū)域的陣列基板108和彩膜基板107之間的距離減小，影響了液晶分子在該區(qū)域的正常排布，使得液晶顯示器產(chǎn)生色偏、漏光等缺陷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明提供一種掩膜版，包括:第一透光孔，沿行列均勻排布;至少一個(gè)第二透光孔，設(shè)置于同一行相鄰所述第一透光孔之間；所述第二透光孔的面積小于所述第一透光孔面積。
[0007]本發(fā)明還提供一種用上述掩膜版形成通孔的方法，包括:提供一基板;在所述基板上形成多個(gè)薄膜晶體管，所述多個(gè)薄膜晶體管分別包括源極和漏極;在所述多個(gè)薄膜晶體管上形成覆蓋所述多個(gè)薄膜晶體管的有機(jī)絕緣膜;利用上述掩膜板對(duì)所述有機(jī)絕緣膜進(jìn)行曝光;刻蝕所述有機(jī)絕緣膜形成行列均勻排布通孔，同時(shí)在所述有機(jī)絕緣膜同一行內(nèi)相鄰的所述通孔間形成過渡區(qū)，所述通孔暴露出所述漏極;在所述有機(jī)絕緣膜上形成像素電極層，所述像素電極層通過所述通孔與所述漏極接觸。
[0008]本發(fā)明還提供一種陣列基板，包括基板;多個(gè)薄膜晶體管，所述薄膜晶體管設(shè)置在所述基板上，所述多個(gè)薄膜晶體管分別包含源極和漏極;有機(jī)絕緣膜，所述有機(jī)絕緣膜覆蓋所述多個(gè)薄膜晶體管，所述有機(jī)絕緣膜上有行列均勻排布的通孔，同時(shí)在所述有機(jī)絕緣膜同一行內(nèi)相鄰的所述通孔間有過渡區(qū)，所述通孔暴露所述多個(gè)薄膜晶體管的漏極，且所述過渡區(qū)是通過上述方法形成;像素電極層，所述像素電極層通過所述通孔與所述漏極接觸。
[0009]本發(fā)明還提供一種液晶顯示裝置，所述液晶顯示裝置包括上述陣列基板，還包括彩膜基板，所述陣列基板和彩膜基板相對(duì)密封設(shè)置，在所述陣列基板和所述彩膜基板之間設(shè)置有液晶層;所述液晶顯示裝置還包括設(shè)置在所述陣列基板和所述彩膜基板之間的柱狀間隔物，所述柱狀間隔物位于所述過渡區(qū)區(qū)域內(nèi)。
[0010]根據(jù)本發(fā)明提供的裝置及方法，通過使用本發(fā)明提供的掩膜版，在第二透光孔對(duì)應(yīng)位置形成過渡區(qū)，使得同一行內(nèi)相鄰?fù)组g的過渡區(qū)變得平坦，從而使得柱狀間隔物站立的更加穩(wěn)定，不會(huì)滑入有機(jī)絕緣膜的通孔中，解決了現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示器的陣列基板上由于有機(jī)絕緣膜不平坦而導(dǎo)致的柱狀間隔物容易滑入通孔內(nèi)的問題，從而避免了由此產(chǎn)生的液晶顯示器色偏、漏光的問題。
【附圖說明】
[00?1 ]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯不裝置的俯視不意圖；
[0012]圖2為圖1所示的現(xiàn)有技術(shù)中液晶顯示裝置的剖面示意圖；
[0013]圖3為本發(fā)明提供的掩膜版示意圖；
[0014]圖4為根據(jù)圖3所示的掩膜版制作的陣列基板俯視示意圖；
[0015]圖5為沿圖4中CC所截的陣列基板剖面示意圖；
[0016]圖6為本發(fā)明提供的液晶顯示裝置剖面示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0018]如圖3所示，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩膜版11，包括:第一透光孔1101，所述第一透光孔1101，沿行列均勻排布；以及至少一個(gè)第二透光孔1102，所述第二透光孔1102設(shè)置于同一行相鄰所述第一透光孔1101之間；其中所述第二透光孔1102的面積小于所述第一透光孔1101的面積。
[0019]本發(fā)明示范性實(shí)施例中，所述掩膜版11上的所述第一透光孔1101的圖案是圓形，可以理解的是每個(gè)所述第一透光孔1101的圖案可以是圓形、橢圓形、菱形、矩形或正M邊形，其中M是大于等于3的自然數(shù)。
[0020]本發(fā)明示范性實(shí)施例中，所述掩膜版11上的所述第二透光孔1102的圖案是圓形，可以理解的是每個(gè)所述第二透光孔1102的圖案可以是圓形、橢圓形、菱形、矩形或正M邊形，其中M是大于等于3的自然數(shù)。
[0021]目前業(yè)內(nèi)生產(chǎn)面板用的曝光機(jī)曝光孔徑的最小分辨率是2微米，即當(dāng)掩膜版上的透光孔徑小于2微米時(shí)，用此掩膜版進(jìn)行曝光制程時(shí)小于2微米的透光孔不能在基板上形成通孔。在掩膜版上制作的透光孔越小成本越高，考慮到掩膜版的開孔成本，本發(fā)明實(shí)施例中所述第二透光孔1102的孔徑或任意兩頂點(diǎn)間最長距離設(shè)置為小于等于1.5微米，優(yōu)選地所述第二透光孔1102的孔徑或任意兩頂點(diǎn)間最長距離設(shè)置為大于等于I微米小于等于1.5微米，此時(shí)第二透光孔1102曝光時(shí)不能在基板上形成通孔。
[0022]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種用本發(fā)明提供的掩膜版形成通孔的方法，結(jié)合圖4，圖5包括:
[0023]步驟1:提供一基板308，所述基板上形成多個(gè)薄膜晶體管，所述多個(gè)薄膜晶體管分別包含源極3071，漏極3072;
[0024]步驟2:在所述多個(gè)薄膜晶體管上形成覆蓋所述多個(gè)薄膜晶體管的有機(jī)絕緣膜309；
[0025]步驟3:利用本發(fā)明提供的掩膜版11對(duì)所述有機(jī)絕緣膜309進(jìn)行曝光；
[0026]步驟4:對(duì)曝光后的所述有機(jī)絕緣膜309進(jìn)行刻蝕，則掩膜版22上的第一透光孔1101對(duì)應(yīng)區(qū)域形成行列均勻排布的通孔310，所述通孔310用于暴露所述漏極3072，掩膜版11上的第二透光孔1102對(duì)應(yīng)區(qū)域形成過渡區(qū)311;
[0027]步驟5:在所述的有機(jī)絕緣膜309上形成像素電極層304，所述像素電極層304通過所述通孔310與所述漏極3072接觸。
[0028]制作有機(jī)絕緣膜309的材料為有機(jī)材料，制作所述有機(jī)絕緣膜309的材料是聚酰亞胺樹脂、聚乙烯、聚偏二氟乙烯、聚四氟乙烯中的一種。使用本發(fā)明提供的掩膜版11進(jìn)行曝光時(shí)，第二透光孔1102對(duì)應(yīng)區(qū)域形成過渡區(qū)311，因?yàn)榈诙腹饪?102孔徑小于曝光機(jī)機(jī)臺(tái)分辨率，故不會(huì)形成通孔，且第二透光孔1102孔徑較小，同一過渡區(qū)311內(nèi)相鄰第二透光孔1102間的距離較近。進(jìn)行曝光制程時(shí)，透過不同第二透光孔1102的光線互相衍射，照射到有機(jī)絕緣膜309上時(shí)實(shí)現(xiàn)將過渡區(qū)311的有機(jī)絕緣膜