套刻鍵標、形成套刻鍵標的方法和測量套刻精度的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，具體而言涉及一種套刻鍵標、形成套刻鍵標的方法和測量套刻精度的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]光刻(photolithography)是通過對準、曝光和顯影等步驟將掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到基板上的工藝。在多個層的情況下，確保不同層的圖形彼此對準非常重要。套刻(overlay)偏差是指例如由于掩模未對準而引起的不同層的圖形之間的位置偏差。
[0003]圖1A和IB是現(xiàn)有技術(shù)中測量不同層之間的套刻精度所使用的套刻鍵標的平面圖。如圖1A所示，在第一層中形成作為矩形框的多個標記201(作為示例，僅示出了三個套刻標記201^2012和2013)。然后，如圖1B所示，在第一層上方形成后續(xù)層時，依次在對應(yīng)的層中形成被示出為黑色方塊的標記202^2022和2023。具體地，在第二層中形成標記202i，在第三層中形成標記2022，并且在第四層中形成標記2023。標記202^2022和2023分別位于矩形框201^2012和2013的內(nèi)部。在測量套刻精度時，可以在預(yù)先建立的坐標系中確定各個黑色方塊的中心點坐標和各個矩形框的中心點坐標。通過計算一個黑色方塊的中心點坐標與對應(yīng)的矩形框的中心點坐標之間的差值，可以測量該黑色方塊所對應(yīng)的層與第一層之間的套刻精度。
[0004]然而，這樣的現(xiàn)有技術(shù)套刻鍵標的一個問題在于:I)多個矩形框占用的面積較大，浪費了基板的空間;并且2)不能直接測量除第一層之外的任意兩層之間的套刻精度。
[0005]因此，需要一種改進的套刻鍵標、形成套刻鍵標的方法和測量套刻精度的方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]有利的是提供一種套刻鍵標，其可以緩解或減輕套刻鍵標對于較大基板面積的需求。進一步地，所述套刻鍵標可以用于測量不同層(無論是最低層與較高層，還是兩個不同的較高層)之間的套刻精度。同樣有利的是提供一種形成套刻鍵標的方法和測量套刻精度的方法。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種套刻鍵標，包括:至少兩個套刻標記，每個所述套刻標記具有彼此中心對稱的第一子標記和第二子標記，第一子標記和第二子標記中的每一個包括兩個相互垂直且具有公共端的條狀圖形，其中，所述套刻標記中至少有兩個位于不同層。
[0008]在一個實現(xiàn)方式中，所述套刻標記的第一子標記依次排列以形成第一階梯式圖形，并且所述套刻標記的第二子標記依次排列以形成第二階梯式圖形。
[0009]在一個實現(xiàn)方式中，所述第一階梯式圖形與所述第二階梯式圖形彼此不重疊。
[0010]在一個實現(xiàn)方式中，所述至少兩個套刻標記中的一個被布置為使得其第一子標記和第二子標記在它們的對稱中心處相連接。
[0011]在一個實現(xiàn)方式中，所述至少兩個套刻標記的第一子標記在遠離所述對稱中心的第一方向上依次排列，并且所述至少兩個套刻標記的第二子標記在與所述第一方向相反的方向上依次排列。
[0012]在一個實現(xiàn)方式中，所述兩個條狀圖形具有相同的長度。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了顯示基板，包括如上所述的套刻鍵標。該套刻鍵標可以位于顯示基板的非顯示區(qū)。還提供了一種顯示面板，包括如上所述的顯示基板。
[0014]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種形成套刻鍵標的方法，包括:形成至少兩個套刻標記，每個所述套刻標記具有彼此中心對稱的第一子標記和第二子標記，第一子標記和第二子標記中的每一個包括兩個相互垂直且具有公共端的條狀圖形，其中，所述套刻標記中至少有兩個位于不同層。
[0015]在一個實現(xiàn)方式中，所述套刻標記的第一子標記依次排列以形成第一階梯式圖形，并且所述套刻標記的第二子標記依次排列以形成第二階梯式圖形。
[0016]在一個實現(xiàn)方式中，所述第一階梯式圖形與所述第二階梯式圖形彼此不重疊。
[0017]在一個實現(xiàn)方式中，所述至少兩個套刻標記中的一個被布置為使得其第一子標記和第二子標記在它們的對稱中心處相連接。
[0018]在一個實現(xiàn)方式中，所述至少兩個套刻標記的第一子標記在遠離所述對稱中心的第一方向上依次排列，并且所述至少兩個套刻標記的第二子標記在與所述第一方向相反的方向上依次排列。
[0019]在一個實現(xiàn)方式中，所述兩個條狀圖形具有相同的長度。
[0020]根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了一種測量套刻精度的方法，包括:獲取至少兩個套刻標記的圖像，每個所述套刻標記具有彼此中心對稱的第一子標記和第二子標記，第一子標記和第二子標記中的每一個包括兩個相互垂直且具有公共端的條狀圖形，其中，所述套刻標記中至少有兩個位于不同層；以及基于所述圖像中所述至少兩個套刻標記的位置信息測量所述不同層之間的套刻精度。
[0021]在一個實現(xiàn)方式中，測量所述套刻精度包括:在所述圖像中確定位于不同層的兩個套刻標記各自的第一子標記和第二子標記的對稱中心;確定所確定的對稱中心之間的位置偏差；以及基于所述位置偏差測量所述不同層之間的套刻精度。
[0022]在一個實現(xiàn)方式中，所述套刻標記的第一子標記依次排列以形成第一階梯式圖形，并且所述套刻標記的第二子標記依次排列以形成第二階梯式圖形。測量所述套刻精度包括:基于所述圖像中所述第一階梯式圖形中的兩個相鄰第一子標記或所述第二階梯式圖形中的兩個相鄰第二子標記之間的重疊，確定所述兩個相鄰第一子標記或所述兩個相鄰第二子標記所在的兩個層之間存在套刻偏差。
[0023]根據(jù)在下文中所描述的附圖和實施例，本發(fā)明的這些和其它方面將是清楚明白的，并且將參考在下文中所描述的實施例而被闡明。
【附圖說明】
[0024]圖1A和IB是現(xiàn)有技術(shù)中測量不同層之間的套刻精度所使用的套刻鍵標的平面圖； 圖2是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的套刻鍵標的平面圖；
圖3是圖2中所示的套刻鍵標的平面圖，其中一個套刻標記在X方向和y方向上發(fā)生偏移; 圖4是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的套刻鍵標的變型的平面圖；
圖5是圖示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的形成套刻鍵標的方法的流程圖；
圖6是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的套刻鍵標的剖面圖；并且圖7是圖示出根據(jù)本發(fā)明一個實施例的測量套刻精度的方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0025]以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的各實施例進行詳細描述。
[0026]將理解的是，盡管術(shù)語第一、第二、第三等等在本文中可以用來描述各種元件、部件、區(qū)、層和/或部分，但是這些元件、部件、區(qū)、層和/或部分不應(yīng)當由這些術(shù)語限制。這些術(shù)語僅用來將一個元件、部件、區(qū)、層或部分與另一個區(qū)、層或部分相區(qū)分。因此，下面討論的第一元件、部件、區(qū)、層或部分可以被稱為第二元件、部件、區(qū)、層或部分而不偏離本發(fā)明的教導(dǎo)。
[0027]諸如“在…下面”、“在…之下”、“較低”、“在…下方”、“在…上方”、“較高”等等之類的空間相對術(shù)語在本文中可以為了便于描述而用來描述如圖中所圖示的一個元件或特征與另一個(些)元件或特征的關(guān)系。將理解的是，這些空間相對術(shù)語意圖涵蓋除了圖中描繪的取向之外在使用或操作中的器件的不同取向。例如，如果翻轉(zhuǎn)圖中的器件，那么被描述為“在其他元件或特征之下”或“在其他元件或特征下面”或“在其他元件或特征下方”的元件將取向為“在其他元件或特征上方”。因此，示例性術(shù)語“在…之下”和“在…下方”可以涵蓋在…上方和在…之下的取向兩者。另外，還將理解的是，當層被稱為“在兩個層之間”時，其可以是在該兩個層之間的唯一的層，或者也可以存在一個或多個中間層。
[0028]本文中使用的術(shù)語僅出于描述特定實施例的目的并且不意圖限制本發(fā)明。如本文中使用的，單數(shù)形式“一個”、“一”和“該”意圖也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文清楚地另有指示。將進一步理解的是，術(shù)語“包括”和/或“包含”當在本說明書中使用時指定所述及特征、整體、步驟、操作、元件和/或部件的存在，但不排除一個或多個其他特征、整體、步驟、操作、元件、部件和/或其群組的存在或添加一個或多個其他特征、整體、步驟、操作、元件、部件和/或其群組。如本文中使用的，術(shù)語“和/或”包括相關(guān)聯(lián)的列出項目中的一個或多個的任意和全部組合。
[0029]將理解的是，當元件或?qū)颖环Q為“在另一個元件或?qū)由稀?、“連接到另一個元件或?qū)印?、“耦合到另一個元件或?qū)印被颉班徑硪粋€元件或?qū)印睍r，其可以直接在另一個元件或?qū)由?、直接連接到另一個元件或?qū)?、直接耦合到另一個元件或?qū)踊蛘咧苯余徑硪粋€元件或?qū)?，或者可以存在中間元件或?qū)印Ｏ喾?，當元件被稱為“直接在另一個元件或?qū)由稀?、“直接連接到另一個元件或?qū)印薄ⅰ爸苯玉詈系搅硪粋€元件或?qū)印薄ⅰ爸苯余徑硪?