摩擦取向設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于摩擦取向技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種摩擦取向設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示領(lǐng)域中的摩擦(Rubbing)工藝是指通過(guò)摩擦棍以一定方向在陣列基板和彩膜基板上的配向膜表面進(jìn)行摩擦取向，從而形成讓液晶有預(yù)傾角排列的溝槽。其中，摩擦棍包括:$B軸和貼附在棍軸上的摩擦布(Rubbing Cloth)，通常摩擦布采用尼龍布、纖維或者棉布。此時(shí)摩擦布的質(zhì)量和編織手法等會(huì)直接影響摩擦工藝的優(yōu)劣程度。
[0003]具體的，摩擦布通過(guò)雙面膠粘附在摩擦輥上，若摩擦布本身厚度不均或在纏繞在棍軸上(winding)時(shí)發(fā)生不良，如表面凸起、表面粘附灰塵等，在取向時(shí)會(huì)劃傷配向膜表面，影響畫面品質(zhì)。
[0004]目前對(duì)摩擦布的檢測(cè)主要是作業(yè)人員憑經(jīng)驗(yàn)觀察，檢查精度低，且效率低下。同時(shí)，在摩擦工藝過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量靜電，摩擦布表面積聚的靜電荷會(huì)吸附摩擦產(chǎn)生的配向膜碎肩；在布縫處，摩擦布末端摩擦過(guò)程中可能會(huì)凸起、脫落，這些都會(huì)大大增加配向不良的風(fēng)險(xiǎn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題包括，針對(duì)現(xiàn)有的摩擦布存在的上述的問(wèn)題，提供一種能夠檢測(cè)摩擦布不良的摩擦取向設(shè)備。
[0006]解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種摩擦取向設(shè)備，其包括摩擦輥，所述摩擦輥包括輥軸和纏繞在輥軸外表面上的摩擦布，所述摩擦布內(nèi)摻入有量子點(diǎn)，所述摩擦取向設(shè)備還包括激發(fā)光源，所述激發(fā)光源能夠激發(fā)所述量子點(diǎn)發(fā)光，以檢測(cè)所述摩擦布的表面是否存在不良。
[0007]優(yōu)選的是，所述量子點(diǎn)的均勻分布在所述摩擦布內(nèi)。
[0008]優(yōu)選的是，所述量子點(diǎn)的種類為硫化鎘、砸化鎘、碲化鎘、砸化鋅中的任意一種。
[0009]優(yōu)選的是，所述量子點(diǎn)的粒徑小于10nm。
[0010]優(yōu)選的是，所述激發(fā)光源為紫外光源。
[0011]優(yōu)選的是，所述摩擦取向設(shè)備還包括纏繞裝置，所述纏繞裝置用于將摩擦布纏繞至輥軸上。
[0012]進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述激發(fā)光源設(shè)置在所述纏繞裝置上，用于在所述纏繞設(shè)備將摩擦布纏繞至輥軸上后，激發(fā)所述量子點(diǎn)發(fā)光，以檢測(cè)所述摩擦布的表面是否存在不良。
[0013]優(yōu)選的是，所述摩擦取向設(shè)備還包括摩擦平臺(tái)，用于承載待進(jìn)行摩擦取向的基板。
[0014]進(jìn)一步優(yōu)選的是，所述激發(fā)光源設(shè)置在所述摩擦平臺(tái)上與所述摩擦輥位置對(duì)應(yīng)的橫梁上，用于在所述摩擦輥對(duì)所述摩擦平臺(tái)上的基板進(jìn)行摩擦取向時(shí)，激發(fā)所述量子點(diǎn)發(fā)光，以檢測(cè)所述摩擦布的表面是否存在不良。
[0015]優(yōu)選的是，所述摩擦布通過(guò)雙面膠與輥軸相互固定。
[0016]本發(fā)明具有如下有益效果:
[0017]由于本發(fā)明的摩擦布中摻入有量子點(diǎn)，同時(shí)摩擦取向設(shè)備增設(shè)了可以激發(fā)量子點(diǎn)發(fā)光的激發(fā)光源，因此在摩擦布被纏繞在在輥軸外表面后可以通過(guò)激發(fā)光源將量子點(diǎn)點(diǎn)亮，也就說(shuō)此時(shí)摩擦布表面將會(huì)發(fā)光，故有利于操作者觀察檢測(cè)，被纏繞在輥軸后的摩擦布表面是否平整，對(duì)摩擦布表面是否存在不良進(jìn)行檢測(cè)。而且還可以在摩擦輥在對(duì)基板上的配向膜進(jìn)行摩擦取向時(shí)，對(duì)摩擦布表面是否存在不良進(jìn)行檢測(cè)。具體的，在摩擦取向工藝過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量靜電，摩擦布表面積聚的靜電荷會(huì)吸附摩擦產(chǎn)生的配向膜碎肩；在摩擦布縫處，摩擦布末端摩擦過(guò)程中可能會(huì)凸起、脫落，這些都會(huì)大大增加配向不良的風(fēng)險(xiǎn)，而此時(shí)通過(guò)激發(fā)光源將量子點(diǎn)點(diǎn)亮，就有助于操作者對(duì)摩擦布表面的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，即使更換存在不良的摩擦布，減少配向不良的產(chǎn)生，同時(shí)也可利于提升摩擦布使用壽命，降低成本。
【附圖說(shuō)明】
[0018]圖1為本發(fā)明的實(shí)施例摩擦取向設(shè)備的示意圖。
[0019]其中附圖標(biāo)記為:1、輥軸；2、摩擦布；3、量子點(diǎn)；4、雙面膠；5、激發(fā)光源。
【具體實(shí)施方式】
[0020]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0021]實(shí)施例1:
[0022]如圖1所示，本實(shí)施例提供一種摩擦取向設(shè)備，其包括摩擦輥，所述摩擦輥包括輥軸I和纏繞在輥軸I外表面上的摩擦布2，所述摩擦布2內(nèi)摻入有量子點(diǎn)3，所述摩擦取向設(shè)備還包括激發(fā)光源5，所述激發(fā)光源5能夠激發(fā)所述量子點(diǎn)3發(fā)光，以檢測(cè)所述摩擦布2的表面是否存在不良。
[0023]需要說(shuō)明的是，量子點(diǎn)3是一種由半導(dǎo)體材料組成的納米顆粒，由于其本身的尺寸效應(yīng)而具有很多獨(dú)特的性質(zhì)。其中一個(gè)重要特性就是熒光效應(yīng)，當(dāng)量子點(diǎn)3受到激發(fā)光源5照射時(shí)就會(huì)發(fā)出熒光。量子點(diǎn)3的發(fā)射光譜窄，顏色可調(diào)，光化學(xué)穩(wěn)定性高，熒光壽命長(zhǎng)，并且通過(guò)改變量子點(diǎn)3的尺寸可控制量子點(diǎn)3的發(fā)射光譜。
[0024]由于本實(shí)施例的摩擦布2中摻入有量子點(diǎn)3，同時(shí)摩擦取向設(shè)備增設(shè)了可以激發(fā)量子點(diǎn)3發(fā)光的激發(fā)光源5，因此在摩擦布2被纏繞在在輥軸I外表面后可以通過(guò)激發(fā)光源5將量子點(diǎn)3點(diǎn)亮，也就說(shuō)此時(shí)摩擦布2表面將會(huì)發(fā)光，故有利于操作者觀察檢測(cè)，被纏繞在輥軸I后的摩擦布2表面是否平整，對(duì)摩擦布2表面是否存在不良進(jìn)行檢測(cè)。而且還可以在摩擦輥在對(duì)基板上的配向膜進(jìn)行摩擦取向時(shí)，對(duì)摩擦布2表面是否存在不良進(jìn)行檢測(cè)。具體的，在摩擦取向工藝過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量靜電，摩擦布2表面積聚的靜電荷會(huì)吸附摩擦產(chǎn)生的配向膜碎肩；在摩擦布2縫處，摩擦布2末端摩擦過(guò)程中可能會(huì)凸起、脫落，這些都會(huì)大大增加配向不良的風(fēng)險(xiǎn)，而此時(shí)通過(guò)激發(fā)光源5將量子點(diǎn)3點(diǎn)亮，就有助于操作者對(duì)摩擦布2表面的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，即使更換存在不良的摩擦布2，減少配向不良的產(chǎn)生，同時(shí)也可利于提升摩擦布2使用壽命，降低成本。
[0025]優(yōu)選的，摩擦布2通過(guò)雙面膠4粘附在摩擦輥上，當(dāng)然也可以采用亞克力膠將兩者相互固定。
[0026]優(yōu)選的，在實(shí)施例中量子點(diǎn)3是均勻分布在所述摩擦布2中的，因此可以盡可能避免由于在摩擦布2中摻入量子點(diǎn)3而影響摩擦布2的平整度。
[0027]優(yōu)選的，在實(shí)施例中量子點(diǎn)3的種類可以為硫化鎘(CdS)、砸化鎘(CdSe)、碲化鎘(CdTe)、砸化鋅(ZnSe)中的任意一種，當(dāng)然也不局限于這幾種。在具體的設(shè)置過(guò)程中，可以摩擦布2編織過(guò)程中，在紗中添加量子點(diǎn)3。實(shí)際添加的量子點(diǎn)3的量可根據(jù)后期熒光強(qiáng)度的情況進(jìn)行選定。
[0028]優(yōu)選的，在實(shí)施例中量子點(diǎn)3的粒徑小于10nm，以防止由于量子點(diǎn)3的尺寸較大而影響摩擦布2的平整度。
[0029]優(yōu)選的，本實(shí)施例中的激發(fā)光源5可以為紫外光源。當(dāng)然也可以采用其他光源，可以根據(jù)所選取的量子點(diǎn)3的種類確定采用何種激發(fā)光源5。
[0030]作為本實(shí)施例的一種【具體實(shí)施方式】:本實(shí)施例的摩擦取向設(shè)備還包括纏繞裝置，所述纏繞裝置用于將摩擦布2纏繞至輥軸I上。其中，所述激發(fā)光源設(shè)置在所述纏繞裝置上，用于在所述纏繞設(shè)備將摩擦布2纏繞至輥軸I上后，激發(fā)所述量子點(diǎn)3發(fā)光，以檢測(cè)所述摩擦布2的表面是否存在不良。
[0031]具體的，由于將摩擦布2纏繞至輥軸I上后不可避免的會(huì)出現(xiàn)各種缺陷。若僅僅依靠操作人員的經(jīng)驗(yàn)觀察，不僅費(fèi)時(shí)費(fèi)力，而且各作業(yè)人員的標(biāo)準(zhǔn)不一，檢查的精度也較低，此時(shí)打開激發(fā)光源5照射摩擦布2表面一段時(shí)間，隨后關(guān)閉光源。量子點(diǎn)3即會(huì)發(fā)出熒光，在暗室環(huán)境下，摩擦布2表面的不良即可清晰顯現(xiàn)。以此，可剔除不合格的摩擦輥。以防止存在不良的摩擦布2使用到摩擦取向工藝中去，造成不必要的損失。
[0032]作為本實(shí)施例的另一【具體實(shí)施方式】，本實(shí)施例的摩擦取向設(shè)備還包括摩擦平臺(tái)，用于承載待進(jìn)行摩擦取向的基板。其中，所述激發(fā)光源設(shè)置在所述摩擦平臺(tái)上與所述摩擦輥位置對(duì)應(yīng)的橫梁上，用于在所述摩擦輥對(duì)所述摩擦平臺(tái)上的基板進(jìn)行摩擦取向時(shí)，激發(fā)所述量子點(diǎn)3發(fā)光，以檢測(cè)所述摩擦布2的表面是否存在不良。
[0033]具體的，在摩擦取向工藝過(guò)程中，摩擦布2也會(huì)產(chǎn)生新的不良，如表面吸附配向膜碎肩、布縫處凸起等，造成配向不良，而此時(shí)通過(guò)激發(fā)光源5將量子點(diǎn)3點(diǎn)亮，就有助于操作者對(duì)摩擦布2表面的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，即使更換存在不良的摩擦布2，減少配向不良的產(chǎn)生，同時(shí)也可利于提升摩擦布2使用壽命，降低成本。
[0034]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種摩擦取向設(shè)備，其包括摩擦輥，所述摩擦輥包括輥軸和纏繞在輥軸外表面上的摩擦布，其特征在于，所述摩擦布內(nèi)摻入有量子點(diǎn)，所述摩擦取向設(shè)備還包括激發(fā)光源，所述激發(fā)光源能夠激發(fā)所述量子點(diǎn)發(fā)光，以檢測(cè)所述摩擦布的表面是否存在不良。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦取向設(shè)備，其特征在于，所述量子點(diǎn)的均勻分布在所述摩擦布內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦取向設(shè)備，其特征在于，所述量子點(diǎn)的種類為硫化鎘、砸化鎘、碲化鎘、砸化鋅中的任意一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的摩擦取向設(shè)備，其特征在于，所述量子點(diǎn)的粒徑小于10nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的摩擦取向設(shè)備，其特征在于，所述激發(fā)光源為紫外光源。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的摩擦取向設(shè)備，其特征在于，所述摩擦取向設(shè)備還包括纏繞裝置，所述纏繞裝置用于將摩擦布纏繞至輥軸上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的摩擦取向設(shè)備，其特征在于，所述激發(fā)光源設(shè)置在所述纏繞裝置上，用于在所述纏繞設(shè)備將摩擦布纏繞至輥軸上后，激發(fā)所述量子點(diǎn)發(fā)光，以檢測(cè)所述摩擦布的表面是否存在不良。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的摩擦取向設(shè)備，其特征在于，所述摩擦取向設(shè)備還包括摩擦平臺(tái)，用于承載待進(jìn)行摩擦取向的基板。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的摩擦取向設(shè)備，其特征在于，所述激發(fā)光源設(shè)置在所述摩擦平臺(tái)上與所述摩擦輥位置對(duì)應(yīng)的橫梁上，用于在所述摩擦輥對(duì)所述摩擦平臺(tái)上的基板進(jìn)行摩擦取向時(shí)，激發(fā)所述量子點(diǎn)發(fā)光，以檢測(cè)所述摩擦布的表面是否存在不良。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦取向設(shè)備，其特征在于，所述摩擦布通過(guò)雙面膠與輥軸相互固定。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種摩擦取向設(shè)備，屬于摩擦取向技術(shù)領(lǐng)域，其可解決現(xiàn)有的摩擦布不良導(dǎo)致在摩擦取向時(shí)造成配向膜不良的問(wèn)題。本發(fā)明的摩擦取向設(shè)備，其包括摩擦輥，所述摩擦輥包括輥軸和纏繞在輥軸外表面上的摩擦布，所述摩擦布內(nèi)摻入有量子點(diǎn)，所述摩擦取向設(shè)備還包括激發(fā)光源，所述激發(fā)光源能夠激發(fā)所述量子點(diǎn)發(fā)光，以檢測(cè)所述摩擦布的表面是否存在不良。本發(fā)明的摩擦取向設(shè)備可以很好的檢測(cè)摩擦布是否存在不良。
【IPC分類】G02F1-1337
【公開號(hào)】CN104808394
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510230184
【發(fā)明人】詹成勇, 王凱, 譚聰, 張波, 江亮亮
【申請(qǐng)人】合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
【公開日】2015年7月29日
【申請(qǐng)日】2015年5月7日